4-(9-phenyl-9H-fluorene-9-yl)phenol | 169169-72-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 英文名称: 4-(9-phenyl-9H-fluorene-9-yl)phenol
• 英文别名: 4-(9-phenyl-9H-fluoren-9-yl)phenol；9-phenyl-9-(4-oxy-phenyl)-fluorene；9-Phenyl-9-(4-oxy-phenyl)-fluoren；Phenyl-(4-oxy-phenyl)-diphenylen-methan；4-(9-Phenylfluoren-9-yl)phenol
• CAS: 169169-72-6
• 化学式: C₂₅H₁₈O
• 分子量: 334.417
• InChiKey: CQJOORMGCLWPJF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  482.3±24.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.222±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.3
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.04
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(9-phenyl-9H-fluorene-9-yl)phenol 在 氢碘酸 、 溶剂黄146 作用下， 生成 9-苯基芴
  参考文献：
  名称：

  Hardy, Journal of the Chemical Society, 1929, p. 1008

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  9-溴-9-苯基芴 在 硫酸 、 sodium acetate 、 溶剂黄146 作用下， 生成 4-(9-phenyl-9H-fluorene-9-yl)phenol
  参考文献：
  名称：

  Kliegl, Chemische Berichte, 1905, vol. 38, p. 292

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Fluorene Derivative, Method for Producing the Same, Resin Composition, and Article
  申请人：DEXERIALS CORPORATION

  公开号：US20180215969A1

  公开（公告）日：2018-08-02

  A fluorene derivative represented by General Formula (1) below. X 1 —Y—X 2 General Formula (1) In the General Formula (1), X 1 represents a cyclic carbonate group including a carbonate bond [—O—C(═O)—O—], X 2 represents a cyclic carbonate group including a carbonate bond [—O—C(═O)—O—], and Y represents a bivalent group including a 9,9-bisaryl fluorene skeleton.

  根据您提供的信息，翻译成中文的结果如下： 由下式（1）表示的芴衍生物。 X1 —Y—X2 式（1） 在式（1）中，X1代表包含碳酸酯键（—O—C(═O)—O—）的环状碳酸酯基团，X2也代表包含碳酸酯键（—O—C(═O)—O—）的环状碳酸酯基团，而Y代表包含9,9-二芳基芴骨架的二价基团。
• A Sc(OTf)₃ catalyzed dehydrogenative reaction of electron-rich (hetero)aryl nucleophiles with 9-aryl-fluoren-9-ols
  作者：Chen Zhou、Chen Hu、Gang Hong、Yuchen He、Zhicong Tang、Limin Wang

  DOI：10.1039/c9ob02138h

  日期：——

  A highly efficient dehydrogenative reaction of a series of nucleophiles with 9-aryl-fluoren-9-ols has been realized by using only 2 mol% of Sc(OTf)3 as a catalyst. The corresponding indole-containing 9,9-diarylfluorenes were obtained in up to 99% yield as well as other electron-rich (hetero)arene adducts. The protocol exhibits high selectivity, mild reaction conditions and good substrate compatibility

  通过仅使用2mol％的Sc（OTf）3作为催化剂，已经实现了一系列亲核试剂与9-芳基-芴-9-ols的高效脱氢反应。以高达99％的产率获得了相应的含吲哚的9,9-二芳基芴以及其他富电子的（杂）芳烃加合物。该方案具有高选择性，温和的反应条件和良好的底物相容性（32个实例）。该协议在潜在电致发光材料构造中的应用进一步突出了该协议。
• COMPOSITION CONTAINING VINYL-GROUP-CONTAINING COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20160046552A1

  公开（公告）日：2016-02-18

  A composition containing a novel vinyl-group-containing compound. This composition contains a vinyl-group-containing compound represented by general formula (1). In the formula: W 1 and W 2 represent a group represented by general formula (2) (where a ring (Z) is an aromatic hydrocarbon ring, X is a single bond or —S—, R 1 is a single bond or a C1-4 alkylene group, R 2 is a specific substituent group such as a monovalent hydrocarbon, and m is an integer equal to 0 or higher), a group represented by general formula (4) (where the ring (Z), X, R 1 , R 2 , and m are as previously stated), a hydroxyl group, or a (meth)acryloyloxy group; rings (Y 1 , Y 2 ) are aromatic hydrocarbon rings; R represents a single bond or a specific divalent group; R 3a and R 3b represent a cyano group, a halogen atom, or a monovalent hydrocarbon group; and n1 and n2 are integers of 0-4.

  这个组合物包含一种含有新颖乙烯基团的化合物。该组合物包含一个由通式（1）表示的含有乙烯基团的化合物。在该式中：W1和W2代表由通式（2）表示的一个基团（其中环（Z）是芳香烃环，X是一个单键或—S—，R1是一个单键或C1-4烷基基团，R2是特定的取代基团，如一价碳氢化合物，m是大于或等于0的整数），一个由通式（4）表示的基团（其中环（Z）、X、R1、R2和m如前述），一个羟基，或一个（甲基）丙烯酰氧基团；环（Y1、Y2）是芳香烃环；R代表一个单键或一个特定的二价基团；R3a和R3b代表氰基、卤素原子或一价碳氢基团；n1和n2是0-4的整数。
• FLUORENE-CONTAINING COMPOUND AND METHOD FOR MAKING THE SAME
  申请人：NATIONAL KAOHSIUNG UNIVERSITY OF APPLIED SCIENCES

  公开号：US20180208531A1

  公开（公告）日：2018-07-26

  A fluorene-containing compound having a formula (I) where X and R are as defined in as defined in the specification.

  一种含有荧光烯基的化合物，其化学式为（I），其中X和R的定义如规范中所定义。
• Polymer for Preparing Resist Underlayer Film, Resist Underlayer Film Composition Containing the Polymer and Method for Forming Resist Underlayer Film Using the Composition
  申请人：SK Innovation Co., Ltd.

  公开号：US20160311975A1

  公开（公告）日：2016-10-27

  Provided are a fluoreneol-based monomer, a polymer for preparing a resist underlayer film obtained therefrom, a resist underlayer film composition containing the polymer, and a method for forming a resist underlayer film using the resist underlayer film composition, wherein the fluoreneol-based monomer is represented by Chemical Formula 2 below:

  提供了一种基于芴醇的单体，用于制备抗蚀底层膜的聚合物，包含该聚合物的抗蚀底层膜组合物，以及使用该抗蚀底层膜组合物形成抗蚀底层膜的方法。其中，基于芴醇的单体由以下化学式2表示：