Phenyl (2-nitrophenyl)methanesulfonate | 89841-03-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Phenyl (2-nitrophenyl)methanesulfonate
• CAS: 89841-03-2
• 化学式: C₁₃H₁₁NO₅S
• 分子量: 293.3
• InChiKey: FDSWDUKQCCOIKN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  475.2±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.416±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  97.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  苯酚 在 四丁基溴化铵 sodium hydroxide 作用下， 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 1.5h， 生成 Phenyl (2-nitrophenyl)methanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Vicarious Nucleophilic Substitution of Hydrogen in Nitroarenes using 1-Chloroalkanesulfonic Esters; A Simple Synthesis of 1-(Nitrophenyl)-alkanesulfonic and (Nitrophenyl)-methanesulfonic Esters

  摘要：

  DOI：

  10.1055/s-1983-30611

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：JAPAN SYNTHETIC RUBBER CO., LTD.

  公开号：EP0330406A2

  公开（公告）日：1989-08-30

  A radiation-sensitive resin composition comprising a quinonediazide-type radiation-sensitive resin and a compound generating an acid upon irradiation. Said radiation-sensitive resin composition can be used as a resist suitable for dry development by plasma etching and enables one to obtain an etching image having high precision with high reproducibility at a high degree of resolution and selectivity.

  一种辐射敏感树脂组合物，由一种醌噻嗪类辐射敏感树脂和一种在辐照时产生酸的化合物组成。所述辐射敏感树脂组合物可用作适用于等离子体蚀刻干显影的抗蚀剂，能以高分辨率和高选择性获得高精度、高重现性的蚀刻图像。
• MAKOSZA, M.;GOLINSKI, J., SYNTHESIS, BRD, 1983, N 12, 1023-1025
  作者：MAKOSZA, M.、GOLINSKI, J.

  DOI：——

  日期：——
• US4963463A
  申请人：——

  公开号：US4963463A

  公开（公告）日：1990-10-16