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4-(acrylamidomethyl)benzoic acid | 205312-69-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-(acrylamidomethyl)benzoic acid
英文别名
4-(acryloylaminomethyl)-benzoic acid;4-(Prop-2-enamidomethyl)benzoic acid;4-[(prop-2-enoylamino)methyl]benzoic acid
4-(acrylamidomethyl)benzoic acid化学式
CAS
205312-69-2
化学式
C11H11NO3
mdl
MFCD09947220
分子量
205.213
InChiKey
VENMKKYKKJTETN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    479.5±45.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1?+-.0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.2
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.09
  • 拓扑面积:
    66.4
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    3

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4-(acrylamidomethyl)benzoic acidN-(5-氨基-2-甲基苯基)-4-(3-吡啶基)-2-氨基嘧啶 在 (benzotriazo-1-yloxy)tris(dimethylamino)phosphonium hexafluorophosphate 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 16.0h, 以41%的产率得到4-(acrylamidomethyl)-N-(4-methyl-3-((4-(pyridin-3-yl)pyrimidin-2-yl)amino)phenyl)benzamide
    参考文献:
    名称:
    HETEROCYCLIC COMPOUNDS AND USES THEREOF
    摘要:
    本发明提供了化合物、药学上可接受的组合物以及使用它们的方法。
    公开号:
    US20080300268A1
  • 作为产物:
    描述:
    methyl 4-(acrylamidomethyl)benzoate 在 lithium hydroxide 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 4.0h, 生成 4-(acrylamidomethyl)benzoic acid
    参考文献:
    名称:
    发现靶向 MYC 内固有无序半胱氨酸的功能性共价配体。
    摘要:
    MYC 是大多数人类癌症的主要致癌转录驱动因子,由于 MYC 的大部分本质上是无序的,因此直接靶向仍然难以处理。在这里,我们进行了半胱氨酸反应性共价配体筛选,以鉴定可能在体外破坏 MYC 与其 DNA 共有序列结合并损害 MYC原位转录活性的化合物在细胞中。我们已经确定了一种共价配体 EN4,它在预测的蛋白质固有无序区域内靶向 MYC 的半胱氨酸 171。我们表明 EN4 直接靶向细胞中的 MYC,降低 MYC 和 MAX 热稳定性,抑制 MYC 转录活性,下调多个 MYC 转录靶标,并损害肿瘤发生。我们还展示了 EN4 的初始结构-活性关系,并确定了显示增强效力的化合物。总体而言,我们在 MYC 的内在无序区域内确定了一个独特的可配位位点,导致 MYC 转录活性的抑制。
    DOI:
    10.1016/j.chembiol.2020.09.001
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文献信息

  • [EN] HETEROCYCLYL SUBSTITUTED PYRROLOPYRIDINES THAT ARE INHIBITORS OF THE CDK12 KINASE<br/>[FR] PYRROLOPYRIDINES À SUBSTITUTION HÉTÉROCYCLYLE UTILISÉES EN TANT QU'INHIBITEURS DE LA KINASE CDK12
    申请人:UNIV NOTTINGHAM
    公开号:WO2019058132A1
    公开(公告)日:2019-03-28
    This invention relates to compounds that are inhibitors of the CDK12 kinase. The compounds are useful in the treatment of disorders mediated by CDK12 kinase including myotonic dystrophy type 1 (DM1) and other disorders caused by the generation of RNA repeat expansion transcripts. In particular,the invention relates to compounds of the formula (I), or a pharmaceutically acceptable salts or N-oxides thereof, wherein R1a, R2, R3, R4a, R4b and R4c are as defined herein.
    这项发明涉及抑制CDK12激酶的化合物。这些化合物可用于治疗由CDK12激酶介导的疾病,包括1型肌强直性营养不良(DM1)和其他由RNA重复扩展转录物引起的疾病。特别是,该发明涉及公式(I)的化合物,或其药用可接受的盐或N-氧化物,其中R1a, R2, R3, R4a, R4b和R4c按本文定义。
  • Discovery of an MLLT1/3 YEATS Domain Chemical Probe
    作者:Moses Moustakim、Thomas Christott、Octovia P. Monteiro、James Bennett、Charline Giroud、Jennifer Ward、Catherine M. Rogers、Paul Smith、Ioanna Panagakou、Laura Díaz-Sáez、Suet Ling Felce、Vicki Gamble、Carina Gileadi、Nadia Halidi、David Heidenreich、Apirat Chaikuad、Stefan Knapp、Kilian V. M. Huber、Gillian Farnie、Jag Heer、Nenad Manevski、Gennady Poda、Rima Al-awar、Darren J. Dixon、Paul E. Brennan、Oleg Fedorov
    DOI:10.1002/anie.201810617
    日期:2018.12.10
    YEATS domain (YD) containing proteins are an emerging class of epigenetic targets in drug discovery. Dysregulation of these modified lysine-binding proteins has been linked to the onset and progression of cancers. We herein report the discovery and characterisation of the first small-molecule chemical probe, SGC-iMLLT, for the YD of MLLT1 (ENL/YEATS1) and MLLT3 (AF9/YEATS3). SGC-iMLLT is a potent and
    包含YEATS域(YD)的蛋白质是药物发现中新兴的表观遗传学目标。这些修饰的赖氨酸结合蛋白的失调与癌症的发生和发展有关。我们在此报告了针对MLLT1(ENL / YEATS1)和MLLT3(AF9 / YEATS3)的YD的第一个小分子化学探针SGC-iMLLT的发现和表征。SGC-iMLLT是一种有效且选择性的MLLT1 / 3-组蛋白相互作用抑制剂。观察到对其他人类YD蛋白(YEATS2 / 4)和溴结构域具有出色的选择性。此外,我们的探针显示了MLLT1和MLLT3的细胞靶标接合。还报道了具有MLLT1 YD的第一个小分子X射线共晶体结构。
  • Two-layer imageable element comprising thermally reversible polymers
    申请人:Kodak Polychrome Graphics, L.L.C.
    公开号:US20020160299A1
    公开(公告)日:2002-10-31
    The present invention includes a two-layer imageable element, including: a substrate, a top layer including a first thermally imageable composition including (a) a first thermally sensitive supramolecular polymer or (b) a thermally imageable composition free of the first thermally sensitive supramolecular polymer; and disposed between the substrate and the top layer, a bottom layer including a second thermally imageable composition, which includes a second thermally sensitive supramolecular polymer. The present invention also includes a method of producing the imaged element.
    本发明包括一种双层可成像元件,包括:基板,顶层包括第一热敏感超分子聚合物或不含第一热敏感超分子聚合物的第一热敏感成像组合物;以及位于基板和顶层之间的底层,包括包含第二热敏感超分子聚合物的第二热敏感成像组合物。本发明还包括一种生产成像元件的方法。
  • Cured film-forming composition
    申请人:NISSAN CHEMICAL CORPORATION
    公开号:US10669376B2
    公开(公告)日:2020-06-02
    Provided are: a cured film-forming composition whereby a underlayer film for image formation formed from the composition exhibits high liquid repellency (lyophobicity) and lyophilic/liquid-repellent properties of the underlayer film can be easily changed even when exposed to a low amount of ultraviolet radiation; and a cured film obtained using the composition. The cured film-forming resin composition is characterized by containing: a polymer comprising a structural unit derived from a first monomer having the structure of formula (1) as component (A); a polymer other than component (A), which is a polymer in which the content of fluorine relative to the overall weight of the polymer is lower than in component (A), as component (B); a photoacid generator as component (C); and a solvent. (In the formula, R1 denotes hydrogen or a methyl group, and R2 denotes a fluorine-containing group able to be detached together with the oxygen atom bonded to R2.)
    提供的是一种治愈的成膜组合物,由该组合物形成的图像形成底层膜表现出高液体排斥性(亲疏性),即使暴露于低量紫外辐射下,底层膜的亲疏性和液体排斥性也可以轻松改变;以及使用该组合物获得的治愈膜。该治愈成膜树脂组合物的特点是包含:作为组分(A)的具有来自第一单体的结构单元的聚合物,该单体的结构式为(1);除组分(A)外的另一种聚合物,其相对于聚合物总重量的含氟量低于组分(A),作为组分(B);作为组分(C)的光酸发生剂;和溶剂。(在公式中,R1表示氢或甲基基团,R2表示能够与R2键合的氧原子一起脱落的含氟基团。)
  • Negative-working resist composition for electron beams or X-rays
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:US20020192592A1
    公开(公告)日:2002-12-19
    A negative-working resist composition for electron beams or X-rays comprising (A) a compound generating a sulfonic acid by the irradiation of electron beams or x-rays, (B) a resin which is insoluble in water and soluble in an alkali aqueous solution, (C) a crosslinking agent crosslinking with the resin (B) by the action of an acid, and (D) a compound generating a carboxylic acid having a specific structure by the irradiation of electron beams or x-rays.
    一种用于电子束或X射线的负型光刻胶组合物,包括(A)通过电子束或X射线辐射产生磺酸的化合物,(B)在水中不溶而在碱性水溶液中可溶的树脂,(C)通过酸作用与树脂(B)交联的交联剂,以及(D)通过电子束或X射线辐射产生具有特定结构的羧酸的化合物。
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