dibromo(2,6-diisopropylphenyl)(2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl)germane | 412356-78-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: dibromo(2,6-diisopropylphenyl)(2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl)germane
• 英文别名: (2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl)(2,6-diisopropylphenyl)GeBr2；[[3,5-Bis[bis(trimethylsilyl)methyl]-2-[dibromo-[2,6-di(propan-2-yl)phenyl]germyl]phenyl]-trimethylsilylmethyl]-trimethylsilane
• CAS: 412356-78-6
• 化学式: C₃₉H₇₆Br₂GeSi₆
• 分子量: 945.943
• InChiKey: DGEGDTILVBSCFD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  13.79
• 重原子数：
  48
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.69
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dibromo(2,6-diisopropylphenyl)(2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl)germane 、 重水 在 lithium naphthalenide 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 (2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl)(2,6-diisopropylphenyl)Ge(deuterium)2
  参考文献：
  名称：

  第一个Germacyclopropabenzene的合成和分离：阐明环丙苯骨架的环变形的内在因素的研究。

  摘要：

  过度拥挤还原相应的二溴代锗烷Tbt产生的过度拥挤的二芳基二硫代硫代锗烷Tbt（Dip）GeLi 2（Tbt = 2,4,6-三[双（三（三甲基甲硅烷基）甲基]苯基; Dip = 2,6-二异丙基苯基] （Dip）GeBr 2与1,2-二溴苯的混合物导致分离出第一个稳定的杀菌环丙基苯，并通过1 H和13 C NMR光谱，FAB-MS和X射线结构分析对其进行了全面表征。至于环丙苯及其较重的14族元素类似物的环变形，实验结果与理论计算结果吻合良好。

  DOI：

  10.1021/om020545x

文献信息

• Synthesis of Bis(germacyclopropa)benzenes and Structures of Their Annelated Benzene Rings
  作者：Tomoyuki Tajima、Takahiro Sasamori、Nobuhiro Takeda、Norihiro Tokitoh、Ken Yoshida、Masaru Nakahara

  DOI：10.1021/om0507629

  日期：2006.1.1

  hindered bis(germacyclopropa)benzenes (3a,b; the IUPAC name is 4,8-digermatricyclo[5.1.0.03,5]octa-1,3(5),6-triene) were synthesized as stable crystalline compounds by the reaction of the corresponding dilithiogermane Tbt(Dip)GeLi2 (8; Tbt = 2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl, Dip = 2,6-diisopropylphenyl) with 1,2,4,5-tetrabromobenzene. The structures of the two stereoisomeric bis(germacyclopropa)benzenes

  极端受阻的双（Germacyclopropa）苯（3a，b ; IUPAC名称为4,8-digermatricyclo [5.1.0.0 3,5 ] octa -1,3（5），6-triene）是稳定的结晶化合物。的二硫代锗烷Tbt（Dip）GeLi 2（8 ; Tbt = 2,4,6-三[双（三甲基硅烷基）甲基]苯基，Dip = 2,6-二异丙基苯基）与1,2,4,5-四溴苯的反应。通过X射线晶体学分析确定地确定了两种立体异构的双（锗环丙烷）苯（3a，顺式异构体；3b，反式异构体）的结构。与3a的平面苯环相反，发现3a的中心苯环被折叠3b。3a和3b的X射线晶体学分析以及某些模型分子的理论计算表明，退火后的苯环没有明显的键交替。
• Synthesis of Kinetically Stabilized Silaneselone and Silanetellone
  作者：Norihiro Tokitoh、Tomonori Sadahiro、Ken Hatano、Takayo Sasaki、Nobuhiro Takeda、Renji Okazaki

  DOI：10.1246/cl.2002.34

  日期：2002.1

  Kinetically stabilized silaneselone [Tbt(Dip)Si=Se (4); Tbt=2,4,6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl, Dip=2,6-diisopropylphenyl] and silanetellone [Tbt(Dip)Si=Te] were synthesized by direct chalcogenation of Tbt(Dip)M: (M=Si, Ge) with elemental chalcogen. Deselenation of Tbt(Dip)SiSe2 also gave 4. Metallanetellones [Tbt(Dip)M=Te; M=Si, Ge] were also synthesized by the reaction of Tbt(Dip)MLi2 (M=Si, Ge) with TeCl2, which is a new synthetic method for heavy ketones.

  动力学稳定的硅烷硒酮 [Tbt(Dip)Si=Se (4)； Tbt=2,4,6-三[双(三甲基硅基)甲基]苯基，Dip=2,6-二异丙基苯基]和硅烷四酮[Tbt(Dip)Si=Te]通过Tbt(Dip)M的直接硫属化合成：( M=Si, Ge) 与元素硫属元素。 Tbt(Dip)SiSe2 的脱硒也得到 4. Metallanetellones [Tbt(Dip)M=Te； Tbt(Dip)MLi2(M=Si,Ge)与TeCl2反应合成了M=Si,Ge]，这是一种新的重酮合成方法。
• Synthesis and Isolation of the First Germacyclopropabenzene:  A Study to Elucidate the Intrinsic Factor for the Ring Deformation of Cyclopropabenzene Skeletons
  作者：Norihiro Tokitoh、Ken Hatano、Takayo Sasaki、Takahiro Sasamori、Nobuhiro Takeda、Nozomi Takagi、Shigeru Nagase

  DOI：10.1021/om020545x

  日期：2002.10.1

  6-tris[bis(trimethylsilyl)methyl]phenyl; Dip = 2,6-diisopropylphenyl), generated by exhaustive reduction of the corresponding dibromogermane Tbt(Dip)GeBr2, with 1,2-dibromobenzene resulted in the isolation of the first stable germacyclopropabenzene, which was fully characterized by 1H and 13C NMR spectra, FAB-MS, and X-ray structural analysis. As for the ring deformation of cyclopropabenzene and its heavier group

  过度拥挤还原相应的二溴代锗烷Tbt产生的过度拥挤的二芳基二硫代硫代锗烷Tbt（Dip）GeLi 2（Tbt = 2,4,6-三[双（三（三甲基甲硅烷基）甲基]苯基; Dip = 2,6-二异丙基苯基] （Dip）GeBr 2与1,2-二溴苯的混合物导致分离出第一个稳定的杀菌环丙基苯，并通过1 H和13 C NMR光谱，FAB-MS和X射线结构分析对其进行了全面表征。至于环丙苯及其较重的14族元素类似物的环变形，实验结果与理论计算结果吻合良好。