5-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]dibenzothiophenium iodide | 1105511-74-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 5-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]dibenzothiophenium iodide
• 英文别名: 5-[4-(2-Hydroxyethyl)phenyl]dibenzothiophenium iodide；2-(4-dibenzothiophen-5-ium-5-ylphenyl)ethanol;iodide
• CAS: 1105511-74-7
• 化学式: C₂₀H₁₇OS*I
• 分子量: 432.325
• InChiKey: MTJRPUFDUJRREH-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.27
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  21.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  5-[4-(2-acetoxyethyl)-phenyl]dibenzothiophenium iodide 在 四甲基氢氧化铵 作用下， 以 甲醇 、 氯仿 、 水 为溶剂， 生成 5-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]dibenzothiophenium iodide
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND

  摘要：

  一种抗性组合物包括(A)由以下公式（I）所代表的化合物：其中R1至R13中的每一个独立地代表氢原子或取代基，前提是R1至R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z代表单键或二价连接基团；X-代表含有质子受体功能基团的阴离子。

  公开号：

  US20090042124A1

文献信息

• Resist composition containing novel sulfonium compound, pattern-forming method using the resist composition, and novel sulfonium compound
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：US08110333B2

  公开（公告）日：2012-02-07

  A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R1 to R13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R1 to R13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X− represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种抗蚀组合物包括(A)由以下式(I)表示的化合物：其中R1到R13中的每个独立表示氢原子或取代基，前提是R1到R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z表示单键或二价连接基；X-表示含有质子受体功能基团的阴离子。