phenylsulfanyloxyl | 63369-69-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: phenylsulfanyloxyl
• 英文别名: benzenesulfinyl
• CAS: 63369-69-7
• 化学式: C₆H₅OS
• 分子量: 125.171
• InChiKey: XEYJVLMVLZFCIT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  phenylsulfanyloxyl 在 氧气 作用下， 生成 环己三烯
  参考文献：
  名称：

  苯基亚磺酰基自由基：气相生成、光异构化和氧化

  摘要：

  芳基亚磺酰基自由基是亚砜化学中的关键中间体。通过 PhS(O)R（R = CF3 和 Cl）在约 1000 K 下的高真空闪蒸热解，首次在气相中生成了母体分子苯亚磺酰基 PhSO•。在紫外光照射下（365 nm)，PhSO• 在低温基质 (2.8 K) 中异构化为新的氧硫自由基 PhOS•。长时间的照射会导致 PhOS• 进一步异构化为 2-羟基苯硫基自由基，在基质分离的 2-羟基苯硫醇的 193 nm 激光光解中也观察到了该自由基的形成。同时，在 PhOS• 和 2-羟基苯硫醇的紫外光解过程中会发生开环，并形成无环硫酮酮自由基。苯基亚磺酰基自由基与气相中的分子氧部分反应并产生苯基自由基Ph•和OSOO。在照射 (365 nm) 时，异构氧硫基自由基也会与 O2 结合，并立即解离为苯氧基自由基 PhO• 和 SO2。B3LYP/def2-TZVPP 和 UCCSD(T)/aug-cc-pV(D+d)Z

  DOI：

  10.1021/jacs.8b05055
• 作为产物：
  描述：

  [(三氟甲基)亚磺酰]苯 生成 phenylsulfanyloxyl
  参考文献：
  名称：

  苯基亚磺酰基自由基：气相生成、光异构化和氧化

  摘要：

  芳基亚磺酰基自由基是亚砜化学中的关键中间体。通过 PhS(O)R（R = CF3 和 Cl）在约 1000 K 下的高真空闪蒸热解，首次在气相中生成了母体分子苯亚磺酰基 PhSO•。在紫外光照射下（365 nm)，PhSO• 在低温基质 (2.8 K) 中异构化为新的氧硫自由基 PhOS•。长时间的照射会导致 PhOS• 进一步异构化为 2-羟基苯硫基自由基，在基质分离的 2-羟基苯硫醇的 193 nm 激光光解中也观察到了该自由基的形成。同时，在 PhOS• 和 2-羟基苯硫醇的紫外光解过程中会发生开环，并形成无环硫酮酮自由基。苯基亚磺酰基自由基与气相中的分子氧部分反应并产生苯基自由基Ph•和OSOO。在照射 (365 nm) 时，异构氧硫基自由基也会与 O2 结合，并立即解离为苯氧基自由基 PhO• 和 SO2。B3LYP/def2-TZVPP 和 UCCSD(T)/aug-cc-pV(D+d)Z

  DOI：

  10.1021/jacs.8b05055

文献信息

• Quenching of Singlet Oxygen by Oxygen- and Sulfur-Centered Radicals:  Evidence for Energy Transfer to Peroxyl Radicals in Solution
  作者：Alexandre P. Darmanyan、Daniel D. Gregory、Yushen Guo、William S. Jenks、Laure Burel、Dominique Eloy、Pierre Jardon

  DOI：10.1021/ja9730831

  日期：1998.1.1

  by PhS•, PhSO•, and peroxyl radicals PhOO•, t-BuOO•, PhCH2OO•, Ph2CHOO•, and Ph3COO• was studied in liquid solution. The quantum yields of decomposition of different initiators which lead to the formation of free radicals were measured by using nanosecond transient absorption. This allowed determination of singlet oxygen O2(1Δg) quenching rate constants by the radicals. They are <2 × 108 M-1 s-1 for

  在液体溶液中研究了 PhS•、PhSO• 和过氧自由基 PhOO•、t-BuOO•、PhCH2OO•、Ph2CHOO• 和 Ph3COO• 对 1.27 μm 单线态氧发光的淬灭。通过使用纳秒瞬态吸收测量导致自由基形成的不同引发剂分解的量子产率。这允许通过自由基确定单线态氧 O2(1Δg) 淬灭速率常数。对于以硫为中心的自由基，它们是 <2 × 108 M-1 s-1，对于乙腈中的过氧自由基，它们是 (2−7) × 109 M-1 s-1。快速淬灭归因于过氧化物的能量转移淬灭，其具有 n → π* 跃迁，导致其 2A'' 基态上方的低位 2A' 状态。PhSO• 在计算上显示不具有如此低的 2A' 状态。可能有一个非常低的 2B1 状态，对于 PhS•，
• Mile, Brynmor; Rowlands, Christopher C.; Sillman, Philip D., Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1993, # 11, p. 2141 - 2148
  作者：Mile, Brynmor、Rowlands, Christopher C.、Sillman, Philip D.、Holmes, Andrew J.

  DOI：——

  日期：——
• FLEMING, I.;PERRY, D. A., TETRAHEDRON LETT., 1981, 22, N 50, 5095-5096
  作者：FLEMING, I.、PERRY, D. A.

  DOI：——

  日期：——
• DAVIS F. A.; YOCKLOVICH S. G.; BAKER G. S., TETRAHEDRON LETT., <TELE-AY>, 1978, NO 2, 97-100
  作者：DAVIS F. A.、 YOCKLOVICH S. G.、 BAKER G. S.

  DOI：——

  日期：——
• Phenylsulfinyl Radical: Gas-Phase Generation, Photoisomerization, and Oxidation
  作者：Jian Xu、Zhuang Wu、Huabin Wan、Guohai Deng、Bo Lu、André K. Eckhardt、Peter R. Schreiner、Tarek Trabelsi、Joseph S. Francisco、Xiaoqing Zeng

  DOI：10.1021/jacs.8b05055

  日期：2018.8.8

  time in the gas phase through high-vacuum flash pyrolysis of PhS(O)R (R = CF3 and Cl) at about 1000 K. Upon UV light irradiation (365 nm), PhSO• isomerizes to novel oxathiyl radical PhOS• in cryogenic matrices (2.8 K). Prolonged irradiation causes further isomerization of PhOS• to 2-hydroxyphenylthiyl radical, the formation of which has been also observed in the 193 nm laser photolysis of matrix-isolated

  芳基亚磺酰基自由基是亚砜化学中的关键中间体。通过 PhS(O)R（R = CF3 和 Cl）在约 1000 K 下的高真空闪蒸热解，首次在气相中生成了母体分子苯亚磺酰基 PhSO•。在紫外光照射下（365 nm)，PhSO• 在低温基质 (2.8 K) 中异构化为新的氧硫自由基 PhOS•。长时间的照射会导致 PhOS• 进一步异构化为 2-羟基苯硫基自由基，在基质分离的 2-羟基苯硫醇的 193 nm 激光光解中也观察到了该自由基的形成。同时，在 PhOS• 和 2-羟基苯硫醇的紫外光解过程中会发生开环，并形成无环硫酮酮自由基。苯基亚磺酰基自由基与气相中的分子氧部分反应并产生苯基自由基Ph•和OSOO。在照射 (365 nm) 时，异构氧硫基自由基也会与 O2 结合，并立即解离为苯氧基自由基 PhO• 和 SO2。B3LYP/def2-TZVPP 和 UCCSD(T)/aug-cc-pV(D+d)Z