2-methylisoindoline-5,6-diol hydrobromide salt | 114041-18-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 英文名称: 2-methylisoindoline-5,6-diol hydrobromide salt
• 英文别名: 5,6-dihydroxy-2-methylisoindoline hydrobromide；5,6-Dihydroxy-N-methylisoindoline hydrobromide；2-methyl-1,3-dihydroisoindole-5,6-diol;hydrobromide
• CAS: 114041-18-8
• 化学式: BrH*C₉H₁₁NO₂
• 分子量: 246.104
• InChiKey: HTOSCCIUMCPYFU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.62
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  43.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  p-methoxybenzyl 3-chloromethyl-7-formylamino-3-cephem-4-carboxylate 、 2-methylisoindoline-5,6-diol hydrobromide salt 生成 (4-methoxyphenyl)methyl (6R)-3-[(5,6-dihydroxy-2-methyl-1,3-dihydroisoindol-2-ium-2-yl)methyl]-7-formamido-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylate;iodide
  参考文献：
  名称：

  NAKAGAWA, SUSUMU;USHIJIMA, RYOSUKE;NAKANO, FUMIO;YAMADA, KOJI;MANO, EIICH+

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  5,6-dimethoxy-2-methylisoindoline 在 氢溴酸 作用下， 反应 3.0h， 生成 2-methylisoindoline-5,6-diol hydrobromide salt
  参考文献：
  名称：

  Cephem Compounds with Latent Reactive Groups

  摘要：

  具有在头孢菌素或青霉烷素环中3位处具有苯乙烯亚甲基基团的头孢菌素和青霉烷素化合物，其中正电离子离去基团与离去基团中含有邻二醇或连接到未取代或取代过的邻苯二酚。离去基团可以是正电离子离去基团。头孢菌素包括头孢菌素、头孢菌烷、卡巴头孢菌素和氧头孢菌素。青霉烷素包括青霉烷素、碳青霉烷素和氧青霉烷素。首选头孢菌素是头孢菌素。首选青霉烷素是碳青霉烷素。化合物对革兰氏阴性细菌和/或革兰氏阳性细菌表现出抗生素活性。化合物对表现出多重耐药性的细菌表现出抗生素活性。本发明的化合物表现出抗生素活性，对产生扩展谱β-内酰胺酶（ESBL）、产生AmpCβ-内酰胺酶或产生碳青霉烷酶的细菌菌株表现出抗生素活性。包括一种或多种头孢菌素或青霉烷素的制药组合物或使用这些化合物和组合物治疗细菌感染的方法。

  公开号：

  US20190100534A1

文献信息

• Isoindoline derivatives and processes for their preparation
  申请人：Banyu Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：US04987235A1

  公开（公告）日：1991-01-22

  A compound having the formula: ##STR1## wherein R is a hydrogen atom, a lower alkyl group, an alkanoyl group, an aralkyl group, an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group, and R.sup.1 is a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group, or a salt thereof.

  一种具有以下化学式的化合物：##STR1## 其中R是氢原子、低碳烷基基团、烷酰基、芳基烷基基团、烷基磺酰基或芳基磺酰基，R.sup.1是氢原子或羟基的保护基，或其盐。
• Process for the production of isoindoline derivatives, novel
  申请人：Banyu Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：US04958029A1

  公开（公告）日：1990-09-18

  A process for producing a compound of the formula: ##STR1## wherein R.sup.1 is a hydrogen atom, a lower alkyl group or an aralkyl group, and R.sup.2 is a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, or a salt thereof, which comprises removing from a compound of the formula: ##STR2## wherein R.sup.3 is a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, R.sup.4 and R.sup.5 which may be the same or different are N-protecting groups selected from the group consisting of lower alkyl groups and aralkyl groups, and X.sup..crclbar. is an anion, the N-protecting group(s), if necessary, together with the hydroxyl-protecting group.

  一种生产以下化合物的方法：##STR1## 其中R.sup.1是氢原子、较低的烷基基团或芳基烷基基团，R.sup.2是氢原子或羟基保护基团，或其盐，包括从以下化合物中去除的过程：##STR2## 其中R.sup.3是氢原子或羟基保护基团，R.sup.4和R.sup.5可能相同也可能不同，是从较低烷基基团和芳基烷基基团组成的羟基保护基团，以及X.sup..crclbar.是阴离子，N-保护基团（如有必要）与羟基保护基团一起。
• 7-Amino-3-(substituted isoindolinium)methyl-3-cephem derivatives and process for their production
  申请人：Banyu Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：EP0271064A2

  公开（公告）日：1988-06-15

  A compound having the formula: wherein R¹ is an amino group or a protected amino group, R² is a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group, R³ represents negative charge, a hydrogen atom or a protecting group for a carboxyl group, and n is 0 or 1, and a salt thereof.

  一种化合物，其式如下： 其中 R¹ 是氨基或受保护的氨基，R² 是氢原子或羟基的保护基团，R³ 代表负电荷、氢原子或羧基的保护基团，n 是 0 或 1 及其盐。
• Process for the production of isoindoline derivatives, novel intermediates and process for their production
  申请人：Banyu Pharmaceutical Co., Ltd.

  公开号：EP0275064A2

  公开（公告）日：1988-07-20

  A process for producing a compound of the formula: wherein R¹ is a hydrogen atom, a lower alkyl group or an aralkyl group, and R² is a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, or a salt thereof, which comprises removing from a compound of the formula: wherein R³ is a hydrogen atom or a hydroxyl-protecting group, R⁴ and R⁵ which may be the same or different are N-protecting groups selected from the group consisting of lower alkyl groups and aralkyl groups, and X⊖ is an anion, the N-protecting group(s), if necessary, together with the hydroxyl-protecting group.

  一种生产式化合物的工艺： 其中R¹为氢原子、低级烷基或芳烷基，R²为氢原子或羟基保护基，或其盐的工艺，包括从式化合物中除去 其中 R³ 是氢原子或羟基保护基团，R⁴ 和 R⁵ 可以相同或不同，是选自由低级烷基和芳烷基组成的组的 N 保护基团，X⊖ 是阴离子。
• US4883868A
  申请人：——

  公开号：US4883868A

  公开（公告）日：1989-11-28