【課題】良好なフォーカスマージンでレジストパターンを製造できる塩、酸発生剤、レジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、これを含む酸発生剤及びレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基を表す。m及びnは、それぞれ独立に1又は2を表す。Arは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又はヘテロ芳香族炭化水素基を表す。A1はヒドロキシ基で置換されてもよい、(1+s)価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。R3は、ヒドロキシ基で置換されてもよい脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子2つがそれぞれ酸素原子に置換され、当該2つの酸素原子がアルカンジイル基と一緒になってフッ素原子を含んでもよいケタール環を形成してもよい。sは、1〜3の整数を表す。]【選択図】なし
提供具有良好焦点裕度的盐类、酸发生剂、光刻胶组合物等,以便制造光刻图案。所述解决方案包括由式(I)表示的盐类,含有该盐类的酸发生剂和光刻胶组合物。【式中,R₁和R₂分别独立表示氢原子、羟基或烃基。m和n分别独立表示1或2。Ar表示可具有取代基的
芳香烃基或杂环
芳烃基。A1表示可被羟基取代的(1+s)价脂肪族饱和烃基。R₃表示可被羟基取代的脂
环烃基,其中所述脂
环烃基中的两个氢原子分别被氧原子取代,这两个氧原子可以与烷基结合形成含
氟原子的环酮环。s表示1至3的整数。】【选择图】无