1-(sec-butyl)-4-ethoxybenzene | 107054-75-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-(sec-butyl)-4-ethoxybenzene
• 英文别名: 4-sec-butyl-phenetole；4-sec-Butyl-phenetol；1-Butan-2-yl-4-ethoxybenzene
• CAS: 107054-75-1
• 化学式: C₁₂H₁₈O
• mdl: MFCD28467269
• 分子量: 178.274
• InChiKey: AGZNXXLYWICKRL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  对仲丁基苯酚 在 硼酸三甲酯 、 三乙胺 、 丙酮 、 三氟乙酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 1-(sec-butyl)-4-ethoxybenzene
  参考文献：
  名称：

  通过光实现无过渡金属的 CC、CO 和 CN 交叉耦合

  摘要：

  用于构建 CC、CO 和 CN 键的过渡金属催化交叉偶联已经彻底改变了化学科学。尽管取得了巨大的成就，但这些金属催化剂也存在一些问题，包括成本高、需要专门的配体、对空气和水分的敏感性以及所谓的“过渡金属残留问题”。不依赖于成熟的氧化加成、金属转移和还原消除机制范式的互补策略可能会消除所有这些与金属相关的问题。在此，我们表明芳基三氟甲磺酸酯可以与芳基三氟硼酸钾、脂肪醇和腈偶联，而无需借助光能赋能的金属催化剂。对照实验表明，在所有常见的芳基亲电试剂中，只有芳基三氟甲磺酸酯能够进行这些偶联，而芳基碘化物和溴化物不能作为偶联伙伴。DFT 计算表明，一旦转化为芳基自由基阳离子，芳基三氟甲磺酸酯将更有利于 ipso 取代。荧光光谱和循环伏安法研究表明，激发态丙酮和芳基三氟甲磺酸酯之间的相互作用对于这些偶联是必不可少的。预计本报告中的结果将为执行交叉耦合提供新的机会。荧光光谱和循环伏安法研究表明，激发态

  DOI：

  10.1021/jacs.9b02684

文献信息

• MODULATORS OF ATP-BINDING CASSETTE-TRANSPORTERS
  申请人：HADIDA RUAH SARA S.

  公开号：US20090143381A1

  公开（公告）日：2009-06-04

  Compounds of the present invention, and pharmaceutically acceptable compositions thereof, are useful as modulators of ATP-Binding Cassette (“ABC”) transporters or fragments thereof, including Cystic Fibrosis Transmembrane Conductance Regulator (“CFTR”). The present invention also relates to methods of treating ABC transporter mediated diseases using compounds of the present invention.

  本发明的化合物及其药用可接受的组合物可用作ATP结合盒（“ABC”）转运蛋白或其片段的调节剂，包括囊性纤维化跨膜传导调节蛋白（“CFTR”）。本发明还涉及使用本发明的化合物治疗ABC转运蛋白介导的疾病的方法。
• 3-(4-AMINOPHENYL)-2-FURANCARBOXYLIC ACID DERIVATIVE AND PHARMACEUTICALLY ACCEPTABLE SALT THEREOF
  申请人：Fujii Akihito

  公开号：US20120059012A1

  公开（公告）日：2012-03-08

  Disclosed is a compound represented by Formula (I) or a pharmaceutically acceptable salt thereof: wherein R 1 is 1: a C 3-8 cycloalkyl C 1-4 alkyl group, 2: a C 7-14 aralkyl group, in which the aryl moiety thereof is optionally substituted with the same or different 1 to 3 groups selected from the group consisting of: (a) halogen, (b) C 1-4 alkyl, which is optionally substituted with 1 to 3 fluorine atoms, (c) C 1-4 alkoxy, which is optionally substituted with 1 to 3 fluorine atoms, and (d) C 1-4 alkylcarbonyl, which is optionally substituted with C 1-4 alkoxy, 3: a five- to ten-membered heteroaryl-C 1-4 alkyl group, in which the heteroaryl moiety thereof is optionally substituted with the same or different 1 to 3 groups selected from the group consisting of: (a) halogen, and (b) C 1-4 alkyl, or 4: a C 6-10 aryl C 2-6 alkenyl group; and R 2 is a cyano group or a nitro group.

  揭示了由化学式（I）表示的化合物或其药学上可接受的盐：其中R1是1：C3-8环烷基C1-4烷基基团，2：C7-14芳基烷基基团，其中其芳基部分可选择性地取代为来自以下组成的1至3个相同或不同的基团：(a)卤素，(b)C1-4烷基，可选择性地取代为1至3个氟原子，(c)C1-4烷氧基，可选择性地取代为1至3个氟原子，和(d)C1-4烷基羰基，可选择性地取代为C1-4烷氧基，3：五元至十元杂芳基-C1-4烷基基团，其中其杂芳基部分可选择性地取代为来自以下组成的1至3个相同或不同的基团：(a)卤素，和(b)C1-4烷基，或4：C6-10芳基C2-6烯基基团；和R2是氰基或硝基基团。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PHOTOMASK, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160280621A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  The composition contains an alkali-soluble resin and a crosslinking agent that is represented by the following General Formula (I). In the formula, each of R 1 and R 6 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 5 or less carbon atoms; each of R 2 and R 5 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an acyl group; and each of R 3 and R 4 independently represents a hydrogen atom or an organic group having 2 or more carbon atoms, and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.

  该组合物包含一种碱溶性树脂和一种由下列通式（I）表示的交联剂。在该式中，R1和R6各自独立地表示氢原子或具有5个或更少碳原子的碳氢基团；R2和R5各自独立地表示烷基、环烷基、芳基或酰基；R3和R4各自独立地表示氢原子或具有2个或更多碳原子的有机基团，且R3和R4可以结合形成环。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160280675A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent having a polarity converting group and an alkali-soluble resin, in which the polarity converting group is a group capable of decomposing by the action of an alkaline aqueous solution to generate a carboxylic acid or sulfonic acid on the side having a crosslinking group.

  感光树脂或辐射敏感树脂组合物包括具有极性转换基团和可溶于碱性树脂的交联剂，其中极性转换基团是一种能够通过碱性水溶液作用分解并在具有交联基团的侧面生成羧酸或磺酸的基团。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：HIRANO Shuji

  公开号：US20080248419A1

  公开（公告）日：2008-10-09

  A positive resist composition, includes: (A) a resin that has a group having absorption at 248 nm at a main chain terminal of the resin (A), and a pattern forming method uses the composition.

  一种正性光刻胶组合物，包括：（A）一种具有在树脂（A）的主链端具有在248nm处吸收的基团的树脂，并且使用该组合物进行图案形成的方法。