Chemistry of decamethylsilicocene: Oxidative addition of compounds with XH bonds (X F, Cl, Br, O, S)
作者:Peter Jutzi、Ernst-August Bunte、Udo Holtmann、Beate Neumann、Hans-Georg Stammler
DOI:10.1016/0022-328x(93)80046-e
日期:1993.3
substrates HX, the corresponding oxidative addition products 2–9, 11, 12, and 15 of the type (σ-Me5C5)2Si(H)X are formed in good yields. Reactions of the hydrogen halides HF, HCl, and HBr with 1 lead to the silanes 2, 3 and 4, respectively. The oxo acids trifluoroacetic acid and propionic acid react with 1 to give the compounds 5 and 6, respectively. Phenol and p-methylphenol add to 1 to give the compounds
在decamethylsilicocene(反应1)与质子基板HX,相应的氧化加成产物2-9,11,12,和15的类型的(σ-ME 5 Ç 5)2的Si(H)形成在良好的产率X 。卤化氢HF,HCl和HBr的与反应1根引线接硅烷2,3和4分别。含氧酸三氟乙酸和丙酸分别与1反应生成化合物5和6。苯酚和p-甲基苯酚加到1分别得到化合物7和8。在4-甲基邻苯二酚与1的反应中,氧化加成产物9为中间体;而在氧化反应中,其为中间体。图9用催化量的水或吡啶分解,得到邻苯二甲氧基硅烷10a。化合物10b获自1和邻苯二酚。用环己酮肟和乙醛肟处理1分别得到加成产物11和12。六元杂环13和14在1与相应的1,3-二酮的反应中形成C 1 -C 6。假定氧化加成产物为中间体;它们通过Cp★迁移和SiO键形成而重新排列。硅烷15由1与对-甲基-苯硫醇的反应获得。新的化合物已经通过NMR,IR和质谱,和在的情况