4-methoxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulfonium triflate | 636596-99-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 4-methoxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulfonium triflate
• 英文别名: (4-Methoxy-3,5-dimethylphenyl)-dimethylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
• CAS: 636596-99-1
• 化学式: CF₃O₃S*C₁₁H₁₇OS
• 分子量: 346.392
• InChiKey: WQQZTKPYBJZTKL-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  75.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  silver trifluoromethanesulfonate 、 硫酸二甲酯 、 4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulphonium chloride 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 4.33h， 生成 4-methoxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulfonium triflate
  参考文献：
  名称：

  Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds

  摘要：

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。

  公开号：

  US20030235782A1

文献信息

• US6991888B2
  申请人：——

  公开号：US6991888B2

  公开（公告）日：2006-01-31
• Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20030235782A1

  公开（公告）日：2003-12-25

  The present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。