2,2'-Methylenbis(α,α-dimethylbenzylalkohol) | 108059-36-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2'-Methylenbis(α,α-dimethylbenzylalkohol)
• 英文别名: 2,2'-(Methylenebis(2,1-phenylene))bis(propan-2-ol)；2-[2-[[2-(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]methyl]phenyl]propan-2-ol
• CAS: 108059-36-5
• 化学式: C₁₉H₂₄O₂
• 分子量: 284.398
• InChiKey: OZYUCJFWJOKYTM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.37
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  5-二苯并环庚烯酮 在 sodium hydroxide 、 potassium permanganate 、 硫酸 、 苄基三乙基氯化铵 、 copper(II) sulfate 、 锌 作用下， 以 乙醚 、 氨 、 水 为溶剂， 反应 85.0h， 生成 2,2'-Methylenbis(α,α-dimethylbenzylalkohol)
  参考文献：
  名称：

  Hellwinkel, Dieter; Bohnet, Siegbert, Chemische Berichte, 1987, vol. 120, p. 1151 - 1174

  摘要：

  DOI：

文献信息

• HELLWINKEL D.; BOHNET S., CHEM. BER., 120,(1987) N 7, 1151-1173
  作者：HELLWINKEL D.、 BOHNET S.

  DOI：——

  日期：——
• PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND MASK BLANK
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20170121437A1

  公开（公告）日：2017-05-04

  A pattern forming method includes forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, exposing the film with active light or radiation, and developing the exposed film using a developer including an organic solvent, in which the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound having a partial structure represented by General Formula (I).
• Hellwinkel, Dieter; Bohnet, Siegbert, Chemische Berichte, 1987, vol. 120, p. 1151 - 1174
  作者：Hellwinkel, Dieter、Bohnet, Siegbert

  DOI：——

  日期：——