Quantifying the Interdependence of Metal–Ligand Covalency and Bond Distance Using Ligand K‐edge XAS
作者:Kyounghoon Lee、Anastasia V. Blake、Courtney M. Donahue、Kyle D. Spielvogel、Brian J. Bellott、Scott R. Daly
DOI:10.1002/anie.201905635
日期:2019.9.2
Bond distance is a common structural metric used to assess changes in metal-ligand bonds, but it is not clear how sensitive changes in bond distances are with respect to changes in metal-ligand covalency. Here we report ligand K-edge XAS studies on Ni and Pd complexes containing different phosphorus(III) ligands. Despite the large number of electronic and structural permutations, P K-edge pre-edge
键距是用于评估金属-配体键变化的常见结构度量,但尚不清楚键距的变化相对于金属-配体键合价变化有多敏感。在这里,我们报告了含有不同磷(III)配体的Ni和Pd配合物的配体K边缘XAS研究。尽管存在大量电子和结构排列,但P K边缘的前边缘峰强度仍显示出显着的相关性,该相关性在光谱上量化了共价MPσ键和键距的线性相互依赖性。对许多相同的Ni和Pd化合物进行的Cl K-edge研究表明,M-Cl键距与共价之间的相关性较差,但通过分析具有更大范围的Ti的Ti络合物的Cl K-edge数据,建立了很强的相关性-Cl键的距离。