2-methyl-acrylic acid 10-isocyanato-decyl ester | 1339074-50-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-methyl-acrylic acid 10-isocyanato-decyl ester
• 英文别名: 2-methylacrylic acid 10-isocyanatodecyl ester；10-Isocyanatodecyl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1339074-50-8
• 化学式: C₁₅H₂₅NO₃
• 分子量: 267.368
• InChiKey: RSVLLJMCLGUKLM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.73
• 拓扑面积：
  55.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-methyl-acrylic acid 10-isocyanato-decyl ester 、 tetraethyl 2-hydroxymethyl-1,3-propanebisphosphonate 在 tin 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 15.0h， 以3.85 g的产率得到2-[N-(10-methacryloyloxydecyl)carbamoyloxymethyl]-1,3-propylenebisphosphonic acid tetraethyl ester
  参考文献：
  名称：

  Dental Materials on the Basis of Highly Acidic Polymerizable Bisphosphonic Acids

  摘要：

  这项发明涉及一种包括化学式I的可聚合双膦酸的牙科材料。该发明还涉及使用化学式I的可聚合双膦酸制备牙科材料，特别是用于制备粘合剂、水泥或复合材料。

  公开号：

  US20140296364A1
• 作为产物：
  描述：

  potassium cyanate 、 10-bromodecyl methacrylate 在 四丁基溴化铵 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 64.0h， 生成 2-methyl-acrylic acid 10-isocyanato-decyl ester
  参考文献：
  名称：

  Dental Materials on the Basis of Highly Acidic Polymerizable Bisphosphonic Acids

  摘要：

  这项发明涉及一种包括化学式I的可聚合双膦酸的牙科材料。该发明还涉及使用化学式I的可聚合双膦酸制备牙科材料，特别是用于制备粘合剂、水泥或复合材料。

  公开号：

  US20140296364A1

文献信息

• [EN] PROCESS FOR PRODUCING ISOCYANATES<br/>[FR] PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ISOCYANATES
  申请人：3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

  公开号：WO2011130032A1

  公开（公告）日：2011-10-20

  The invention relates a process for producing isocyanates comprising the steps of a) providing an azolide and optionally a solvent, and b) adding an acid at a temperature below about 40C. The invention also relates to the isocyanate obtainable by such a process.

  该发明涉及一种生产异氰酸酯的方法，包括以下步骤：a)提供一种氮杂环酯和可选的溶剂，b)在约40摄氏度以下的温度下加入酸。该发明还涉及通过这种方法获得的异氰酸酯。
• Process for producing isocyanates
  申请人：3M Innovative Properties Company

  公开号：EP2377847A1

  公开（公告）日：2011-10-19

  The invention relates a process for producing isocyanates comprising the steps of a) providing an azolide and optionally a solvent, and b) adding an acid at a temperature below about 40°C. The invention also relates to the isocyanate obtainable by such a process.

  该发明涉及一种生产异氰酸酯的方法，包括以下步骤：a)提供一种环氧酮酯和可选的溶剂，b)在低于约40°C的温度下加入酸。该发明还涉及通过这种方法获得的异氰酸酯。
• PROCESS FOR PRODUCING ISOCYANATES
  申请人：Steiger Wolf

  公开号：US20130023694A1

  公开（公告）日：2013-01-24

  The invention relates a process for producing isocyanates comprising the steps of a) providing an azolide and optionally a solvent, and b) adding an acid at a temperature below about 40 C. The invention also relates to the isocyanate obtainable by such a process.

  该发明涉及一种制备异氰酸酯的过程，包括以下步骤：a）提供一个氮杂酚盐和可选的溶剂，b）在低于约40℃的温度下加入酸。该发明还涉及由这种过程获得的异氰酸酯。
• Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
  申请人：Hitachi Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP0373952A2

  公开（公告）日：1990-06-20

  A photosensitive resin composition comprising a photoinitiator and polymer containing a repeating unit of formula (I) wherein R1 is a tetravalent organic group, R2 is a divalent organic group, either one or both of R1 and R2 contains at least one silicon atom and/or at least one fluorine atom, Y, is a monovalent group having an ethylenic unsaturated group; n is zero or 1, m is 1 or 2, and n + m = 2.

  一种光敏树脂组合物，包括一种光引发剂和含有式(I)重复单元的聚合物 其中 R1 是四价有机基团，R2 是二价有机基团，R1 和 R2 中的一个或两个含有至少一个硅原子和/或至少一个氟原子，Y 是具有乙烯基不饱和基团的一价基团；n 是 0 或 1，m 是 1 或 2，n + m = 2。
• HIGHLY HEAT-RESISTANT, NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Asahi Kasei EMD Corporation

  公开号：EP1536286A1

  公开（公告）日：2005-06-01

  Disclosed is a negative type photosensitive resin composition comprising (A) a polyamide having a photopolymerizable unsaturated double bond, (B) a monomer having a photopolymerizable unsaturated double bond, (C) a photopolymerization initiator and (D) a melamine resin.

  本发明公开了一种负型感光树脂组合物，该组合物包括：(A) 具有可进行光聚合的不饱和双键的聚酰胺；(B) 具有可进行光聚合的不饱和双键的单体；(C) 光聚合引发剂；(D) 三聚氰胺树脂。