2,4-dichlorophenoxy acrylate | 4513-42-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: 2,4-dichlorophenoxy acrylate
• 英文别名: 2,4-dichlorophenyl acrylate；Acrylsaeure-(2,4-dichlorphenylester)；(2,4-dichlorophenyl) prop-2-enoate
• CAS: 4513-42-2
• 化学式: C₉H₆Cl₂O₂
• 分子量: 217.051
• InChiKey: CBVVBUBADASQPL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  105 °C(Press: 13 Torr)
• 密度：
  1.335±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,4-dichlorophenoxy acrylate 在 aluminum (III) chloride 、 sodium cyanoborohydride 、 sodium chloride 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 16.33h， 生成 methyl 4-(4,6-dichloro-7-hydroxy-2,3-dihydro-1-indolyl)-2-hydroxybenzoate
  参考文献：
  名称：

  作为神经保护剂的药用化合物

  摘要：

  本发明公开了一类作为神经保护剂的药用化合物，其为神经元型一氧化氮合酶‑突触后密度蛋白‑95（nNOS‑PSD95）的解耦联剂，其为具有通式（Ⅰ）苯环衍生物或其药学上可接受的盐。本申请进一步公开了该类化合物的制备方法以及其用于预防和治疗受神经元损伤影响引起的疾病的用途。

  公开号：

  CN104045552B
• 作为产物：
  描述：

  丙烯酰氯 、 2,4-二氯酚 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 2,4-dichlorophenoxy acrylate
  参考文献：
  名称：

  [EN] SUBSTITUTED BENZOHYDRAZIDE ANALOGS AS HISTONE DEMETHYLASE INHIBITORS
  [FR] ANALOGUES DE BENZOHYDRAZIDE SUBSTITUÉS UTILES EN TANT QU'INHIBITEURS DE L'HISTONE DÉMÉTHYLASE

  摘要：

  苯肼类似物、其衍生物和相关化合物，可用作赖氨酸特异性组蛋白去甲基酶的抑制剂，包括LSD1和LSD2；制备这些化合物的合成方法；包含这些化合物的药物组合物；以及使用这些化合物和组合物治疗与LSD1和/或LSD2功能障碍相关的疾病的方法。

  公开号：

  WO2017004519A1

文献信息

• Further study of estertin trichlorides, Cl3SnCH2CH2CO2R. Lewis acidity towards acetonitrile. Crystal structure of Cl3SnCH2CH2CO2Pr-i
  作者：R.Alan Howie、Eric S. Paterson、James L. Wardell、Joseph W. Burley

  DOI：10.1016/0022-328x(86)80148-6

  日期：1986.5

  Cl3SnCH2CH2CO2Pri-i are orthorhombic, space group P212121 with a 9.638(6), b 10.004(7) and c 12.848(8) Å. The tin atom is five-coordinate with two chlorines and carbon equatorial and the remaining chlorine and the carbonyl oxygen axial, in a distorted trigonal-bipyramidal arrangement: (SnCl)ax 2.389(3), average (SnCl)eq 2.320(2), SnC 2.142(9), SnO 2.337(5) Å. Apart from the equatorial chlorine and the terminal carbons

  Cl 3 SnCH 2 CH 2 CO 2 Pri-i的晶体是正交晶体，空间群P 2 1 2 1 2 1 1，具有9.638（6），b 10.004（7）和c 12.848（8）。锡原子是五坐标的，带有两个氯和赤道碳，其余的氯和羰基氧的轴向呈扭曲的三角-双锥体排列：（SnCl）ax 2.389（3），平均（SnCl）eq2.320（2），SnC2.142（9），SnO2.337（5）Å。除了赤道氯和异丙基中的末端碳外，所有非氢原子基本上都是共面的。该分子达到C 2 v对称性，尽管不受结晶空间群的约束。
• Biofilm Resistant Polymer Materials
  申请人：Cavitt T. Brian

  公开号：US20090304621A1

  公开（公告）日：2009-12-10

  The present invention relates to compounds and materials that reduce the accumulation of microorganisms on a surface by interfering with the attachment of the organisms to the surface. The compounds and materials of the present invention are thus useful in preventing the formation of biofilms. The compounds of the present invention may be either adhered to a surface or integrated within a polymer. Surfaces coated by the present invention are resistant to biofilm formation, in part due to the smoothness of the surface coated with the present invention.

  本发明涉及一种化合物和材料，通过干扰微生物附着在表面上的过程来减少微生物在表面上的积累。因此，本发明的化合物和材料可用于预防生物膜的形成。本发明的化合物可以附着在表面上或集成在聚合物中。本发明涂覆的表面由于表面光滑而对生物膜形成具有抗性。
• DENTAL MUCOSAL ADJUSTMENT MATERIAL
  申请人：TOKUYAMA CORPORATION

  公开号：EP1857094A1

  公开（公告）日：2007-11-21

  A mucosal adjustment material comprising a combination of a powdery material (a) and a liquid material (b), characterized especially in that a noncrosslinked (meth)acrylic polymer powder having a Tg in the range of 0-60 DEG C, e.g., polybutyl methacrylate, is used as the powdery material and a liquid polymer which has a mass-average molecular weight of 1,000-10,000 and in which the content of oligomers having a molecular weight of 500 or lower is 10 mass% or lower is used as the liquid material. Such powdery material and liquid material are kneaded together to prepare a paste, which is applied to a denture base and used as a temporary relining material. This mucosal adjustment material in a paste form is reduced in the amount of ingredients eluted from the material during use in the mouth. In an ordinary use period, the relining material retains its initial flexibility and does not deteriorate the denture base.

  一种由粉末状材料（a）和液体材料（b）组合而成的粘膜调节材料，其特征在于粉末状材料使用 Tg 在 0-60 摄氏度范围内的非交联（甲基）丙烯酸聚合物粉末，例如聚甲基丙烯酸丁酯；液体材料使用质量平均分子量在 1,000-10,000 之间的液体聚合物，其中分子量在 500 或以下的低聚物含量在 10 质量%或以下。将粉末状材料和液体材料揉捏在一起，制成糊状，涂抹在义齿基托上，用作临时衬垫材料。这种糊状的粘膜调整材料在口腔中使用时，材料中的洗脱成分会减少。在正常使用期间，衬垫材料保持其最初的柔韧性，不会损坏义齿基托。
• Nanostructured articles and methods to make the same
  申请人：3M Innovative Properties Company

  公开号：EP2921521A1

  公开（公告）日：2015-09-23

  Material comprising sub-micrometer particles dispersed in a polymeric matrix. The materials are useful in article, for example, for numerous applications including display applications (e.g., liquid crystal displays (LCD), light emitting diode (LED) displays, or plasma displays); light extraction; electromagnetic interference (EMI) shielding, ophthalmic lenses; face shielding lenses or films; window films; antireflection for construction applications; and construction applications or traffic signs.

  由分散在聚合物基体中的亚微米级颗粒组成的材料。这些材料可用于多种应用，例如显示应用（如液晶显示器（LCD）、发光二极管（LED）显示器或等离子显示器）、光萃取、电磁干扰（EMI）屏蔽、眼科镜片、面部屏蔽镜片或薄膜、窗膜、建筑应用抗反射以及建筑应用或交通标志。
• Method of making a nanostructure and nanostructured articles
  申请人：3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY

  公开号：US10119190B2

  公开（公告）日：2018-11-06

  A method of making a nanostructure and nanostructured articles by depositing a layer to a major surface of a substrate by plasma chemical vapor deposition from a gaseous mixture while substantially simultaneously etching the surface with a reactive species. The method includes providing a substrate; mixing a first gaseous species capable of depositing a layer onto the substrate when formed into a plasma, with a second gaseous species capable of etching the substrate when formed into a plasma, thereby forming a gaseous mixture; forming the gaseous mixture into a plasma; and exposing a surface of the substrate to the plasma, wherein the surface is etched and a layer is deposited on at least a portion of the etched surface substantially simultaneously, thereby forming the nanostructure. The substrate can be a (co)polymeric material, an inorganic material, an alloy, a solid solution, or a combination thereof. The deposited layer can include the reaction product of plasma chemical vapor deposition using a reactant gas comprising a compound selected from the group consisting of organosilicon compounds, metal alkyl compounds, metal isopropoxide compounds, metal acetylacetonate compounds, metal halide compounds, and combinations thereof. Nanostructures of high aspect ratio and optionally with random dimensions in at least one dimension and preferably in three orthogonal dimensions can be prepared.

  一种制造纳米结构和纳米结构物品的方法，其方法是通过等离子体化学气相沉积将一层沉积在基底的主要表面上，同时基本上同时用反应物蚀刻表面。该方法包括提供基底；将形成等离子体时能够在基底上沉积层的第一气态物质与形成等离子体时能够蚀刻基底的第二气态物质混合，从而形成气态混合物；将气态混合物形成等离子体；以及将基底的表面暴露于等离子体，其中表面被蚀刻，层基本上同时沉积在蚀刻表面的至少一部分上，从而形成纳米结构。基底可以是（共）聚合物材料、无机材料、合金、固溶体或它们的组合。沉积层可包括等离子体化学气相沉积的反应产物，该反应产物使用的反应气体包括选自有机硅化合物、金属烷基化合物、金属异丙氧基化合物、金属乙酰丙酮化合物、金属卤化物化合物及其组合的化合物。可以制备出高宽比的纳米结构，并可选择在至少一个维度上，最好是在三个正交维度上具有无规尺寸。