2-(7-oxanorbornan-2-yl)-2-propanol | 90646-72-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 四氢呋喃
• 英文名称: 2-(7-oxanorbornan-2-yl)-2-propanol
• 英文别名: 2-(7-Oxabicyclo[2.2.1]hept-2-yl)propan-2-ol；2-(7-oxabicyclo[2.2.1]heptan-2-yl)propan-2-ol
• CAS: 90646-72-3
• 化学式: C₉H₁₆O₂
• 分子量: 156.225
• InChiKey: BTCFOHZWHSVIHI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  253.8±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.088±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(7-oxanorbornan-2-yl)-2-propanol 、 丙烯酰氯 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 1.0h， 以82%的产率得到2-(7-oxanorbornan-2-yl)-2-propyl acrylate
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。

  公开号：

  US20040068124A1
• 作为产物：
  描述：

  甲基氯化镁 、 methyl 7-oxabicyclo<2.2.1>heptane-2-carboxylate 在 水 、 氯化铵 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 2-(7-oxanorbornan-2-yl)-2-propanol
  参考文献：
  名称：

  Novel ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process

  摘要：

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂-去氢萘二基，R1和R2分别是一价碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或可以含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。包含这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有改善的敏感性、分辨率和蚀刻抗性，并且适用于使用电子束或深紫外线进行微图案制作。

  公开号：

  US20040068124A1

文献信息

• ACID-LABILE ESTER MONOMER HAVING SPIROCYCLIC STRUCTURE, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Kinsho Takeshi

  公开号：US20100304295A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  An acid-labile ester monomer of spirocyclic structure has formula (1) wherein Z is a monovalent group having a polymerizable double bond, X is a divalent group which forms a cyclopentane, cyclohexane or norbornane ring, R 2 is H or monovalent hydrocarbon, R 3 and R 4 are H or monovalent hydrocarbon, or R 3 and R 4 , taken together, stand for a divalent group which forms a cyclopentane or cyclohexane ring, and n is 1 or 2. A polymer obtained from the acid-labile ester monomer has so high reactivity in acid-catalyzed elimination reaction that the polymer may be used to formulate a resist composition having high resolution.

  一种酸敏感酯单体具有螺环结构，其化学式如下（1），其中Z是具有可聚合双键的一价基团，X是形成环戊烷、环己烷或诺邦烷环的二价基团，R2是H或一价碳氢基团，R3和R4是H或一价碳氢基团，或者R3和R4一起表示形成环戊烷或环己烷环的二价基团，n为1或2。从酸敏感酯单体获得的聚合物在酸催化消除反应中具有很高的反应性，因此可以用于制备具有高分辨率的抗蚀组合物。
• Ester compounds, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07132215B2

  公开（公告）日：2006-11-07

  Novel ester compounds having formula (1) wherein A1 is a polymerizable functional group having a double bond, A2 is furandiyl, tetrahydrofurandiyl or oxanorbornanediyl, R1 and R2 each are a monovalent hydrocarbon group, or R1 and R2 may bond together to form an aliphatic hydrocarbon ring with the carbon atom, and R3 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a hetero atom are polymerizable into polymers. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have an improved sensitivity, resolution, and etching resistance, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  具有式（1）的新型酯化合物，其中A1是具有双键的可聚合官能团，A2是呋喃基，四氢呋喃基或氧杂莽环基，R1和R2各自是一价的碳氢基团，或者R1和R2可以结合形成带有碳原子的脂肪族碳氢环，R3是氢或者可能含有杂原子的一价碳氢基团，可以聚合成聚合物。含有这些聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感，具有更好的敏感度、分辨率和蚀刻抵抗性，并适用于电子束或深紫外线微细图案化。
• Silicon-containing film-forming composition, silicon-containing film, silicon-containing film-bearing substrate, and patterning method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2011829A1

  公开（公告）日：2009-01-07

  A silicon-containing film is formed from a heat curable composition comprising (A) a silicon-containing compound obtained through hydrolytic condensation of a hydrolyzable silicon compound in the presence of an acid catalyst, (B) a hydroxide or organic acid salt of Li, Na, K, Rb or Ce, or a sulfonium, iodonium or ammonium compound, (C) an organic acid, (D) a cyclic ether-substituted alcohol, and (E) an organic solvent. The silicon-containing film ensures effective pattern formation, effective transfer of a photoresist pattern, and accurate processing of a substrate.

  含硅薄膜由一种热固化组合物形成，该组合物包括：(A) 在酸催化剂存在下通过可水解硅化合物的水解缩合得到的含硅化合物；(B) Li、Na、K、Rb 或 Ce 的氢氧化物或有机酸盐，或锍、碘或铵化合物；(C) 有机酸；(D) 环醚取代醇，以及 (E) 有机溶剂。 含硅薄膜可确保图案的有效形成、光刻胶图案的有效转移以及基底的精确加工。
• Metal oxide-containing film-forming composition, metal oxide-containing film, metal oxide-containing film-bearing substrate, and patterning method
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2063319A1

  公开（公告）日：2009-05-27

  A metal oxide-containing film is formed from a heat curable composition comprising (A) a metal oxide-containing compound obtained through hydrolytic condensation between a hydrolyzable silicon compound and a hydrolyzable metal compound, (B) a hydroxide or organic acid salt of Li, Na, K, Rb or Cs, or a sulfonium, iodonium or ammonium compound, (C) an organic acid, and (D) an organic solvent. The metal oxide-containing film ensures effective pattern formation.

  一种含金属氧化物的薄膜由一种热固化组合物形成，该组合物包括：(A) 通过可水解硅化合物和可水解金属化合物之间的水解缩合获得的含金属氧化物化合物；(B) Li、Na、K、Rb 或 Cs 的氢氧化物或有机酸盐，或锍、碘或铵化合物；(C) 有机酸；以及 (D) 有机溶剂。含金属氧化物的薄膜可确保有效的图案形成。
• Metal oxide-containing film-forming composition, multilayer resist and method of formation of pattern in a substrate
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2063319B1

  公开（公告）日：2011-11-02