2,6-Bis(4-methoxybenzoyl)naphthalene | 138080-89-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,6-Bis(4-methoxybenzoyl)naphthalene
• 英文别名: [6-(4-methoxybenzoyl)naphthalen-2-yl]-(4-methoxyphenyl)methanone
• CAS: 138080-89-4
• 化学式: C₂₆H₂₀O₄
• 分子量: 396.4
• InChiKey: PHNODHQWRKGKCS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.8
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,6-Bis(4-methoxybenzoyl)naphthalene 、 三氯化铝 、 水 、 在 氮气 、 resultant suspension 、 水 、 盐酸 作用下， 以 甲苯 、 sodium hydroxide 为溶剂， 反应 4.25h， 以giving 142.4 g (99.9% of theory) of a brownish powder which melts at 307° C的产率得到2-(3-羟基苯基)苯酚
  参考文献：
  名称：

  Soluble polyarylene ether sulfones

  摘要：

  具有0.1至2.0dl/g的降低粘度，以1％N-甲基吡咯烷酮（NMP）溶液在25°C下测量，且基于聚芳基醚砜树脂中存在的结构单元的总数，含有99-1摩尔％的公式I的重复结构单元：##STR1## 和1-99摩尔％的公式II的重复结构单元：--O--Ar.sub.2--O--Ar.sub.1--（II），其中公式I中的芳香环未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，Ar.sub.1是公式IIIa-IIIc的基团：##STR2## 其中a为0或1，##STR3## 该基团未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，而Ar.sub.2是公式IVa-IVe的基团：##STR4## 其中b为0或1 ##STR5## 其中c为0或1 ##STR6## 其中Z为--CO--，--SO.sub.2--，--SO--，--S--，--O--，##STR7## 其中R为甲基或苯基，该基团未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，可溶于常用有机溶剂，并可从溶液中加工成薄膜或纳入其他基质树脂中。

  公开号：

  US05126427A1
• 作为产物：
  描述：

  2,6-萘二甲酰二氯 、 苯甲醚 、 三氯化铝 、 盐酸 、 在 氮气 作用下， 以 硝基苯 、 N-甲基吡咯烷酮 、 水 为溶剂， 反应 1.75h， 以giving 25.9 g (65.4% of theory) of the desired product, which melts at 251° C.的产率得到2,6-Bis(4-methoxybenzoyl)naphthalene
  参考文献：
  名称：

  Soluble polyarylene ether sulfones

  摘要：

  具有0.1至2.0dl/g的降低粘度，以1％N-甲基吡咯烷酮（NMP）溶液在25°C下测量，且基于聚芳基醚砜树脂中存在的结构单元的总数，含有99-1摩尔％的公式I的重复结构单元：##STR1## 和1-99摩尔％的公式II的重复结构单元：--O--Ar.sub.2--O--Ar.sub.1--（II），其中公式I中的芳香环未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，Ar.sub.1是公式IIIa-IIIc的基团：##STR2## 其中a为0或1，##STR3## 该基团未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，而Ar.sub.2是公式IVa-IVe的基团：##STR4## 其中b为0或1 ##STR5## 其中c为0或1 ##STR6## 其中Z为--CO--，--SO.sub.2--，--SO--，--S--，--O--，##STR7## 其中R为甲基或苯基，该基团未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，可溶于常用有机溶剂，并可从溶液中加工成薄膜或纳入其他基质树脂中。

  公开号：

  US05126427A1

文献信息

• Lösliche Polyarylenethersulfone
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0447358A2

  公开（公告）日：1991-09-18

  Polyarylenethersulfone mit einer reduzierten Vikosität von 0,1 bis 2,0 dl/g, gemessen bei 25°C an einer 1 %igen Lösung in N-Methylpyrrolidon (NMP), die, bezogen auf die Gesamtmenge der im Polyarylenethersulfonharz vorhandenen Strukturelemente, 99-1 Mol-% eines wiederkehrenden Strukturelementes der Formel I und 1-99 Mol-% eines wiederkehrenden Strukturelementes der Formel II enthalten, worin im Strukturelement der Formel I die aromatischen Ringe unsubstituiert oder durch ein oder mehere C₁-C₄-Alkyle, C₁-C₄-Alkoxy oder Halogenatome substituiert sind, Ar₁ einen unsubstituierten oder durch ein oder mehrere C₁-C₄-Alkyle, C₁-C₄-Alkoxy oder Halogene substituierten Rest der Formeln IIIa-IIIc wobei a für Null oder die Zahl 1 steht, oder bedeutet und Ar₂ einen unsubstituierten oder durch ein oder mehrere C₁-C₄-Alkyle, C₁-C₄-Alkoxy oder Halogene substituierten Rest der Formeln IVa-IVe wobei b Null oder die Zahl 1 bedeutet, wobei c Null oder die Zahl 1 ist, lichen organischen Lösungsmitteln löslich und lassen sich aus der Lösung heraus zu Filmen verarbeiten oder in andere Matrixharze einbringen.

  一种聚芳基醚砜，在 25°C 时，以 1%的 N-甲基吡咯烷酮（NMP）溶液计，其还原粘度为 0.1 至 2.0 dl/g，根据聚芳基醚砜树脂中结构元素的总量，该树脂含有 99-1 mol%的式 I 的重复结构元素。 和 1-99 摩尔-%的式 II 循环结构元素 其中，式 I 结构单元中的芳环未经取代或被一个或多个 C₁-C₄-烷基、C₁-C₄-烷氧基或卤素原子取代、 Ar₁ 是式 IIIa-IIIc 的基团，该基团未被取代或被一个或多个 C₁-C₄-烷基、C₁-C₄-烷氧基或卤素取代。 其中 a 为零或数字 1、 或 且 Ar₂ 是式 IVa-IVe 中未被取代或被一个或多个 C₁-C₄-烷基、C₁-C₄-烷氧基或卤素取代的基团。 其中 b 为零或数字 1、 其中 c 为零或数字 1、 这些树脂可溶于所有有机溶剂，并可从溶液中加工成薄膜或与其他基质树脂结合。
• ADDITIVE MANUFACTURING OF AROMATIC THERMOPLASTICS FROM PHOTOCURABLE PRECURSOR SALTS
  申请人：Virginia Tech Intellectual Properties, Inc.

  公开号：US20200369831A1

  公开（公告）日：2020-11-26

  In various aspects, a polymer resin is provided for vat photopolymerization. The resin can include a polyamic acid salt formed from the addition of a photocrosslinkable amine to a polyamic acid. The resin can include a photoinitiator suitable for initiating crosslinking of the photocrosslinkable amine when exposed to a light source of a suitable wavelength and intensity. The polyamic acid can be formed, for instance, by the addition of a diamine to a suitable dianhydride. Methods of additive manufacturing using the resins are also provided.
• US5126427A
  申请人：——

  公开号：US5126427A

  公开（公告）日：1992-06-30
• Soluble polyarylene ether sulfones
  申请人：Ciba-Geigy Corporation

  公开号：US05126427A1

  公开（公告）日：1992-06-30

  Polyarylene ether sulfones which have a reduced viscosity of 0.1 to 2.0 dl/g, measured at 25.degree. C. in a 1% solution in N-methylpyrrolidone (NMP), and which contain, based on the total number of structural units present in the polyarylene ether sulfone resin, 99-1 mol % of a recurring structural unit of formula I ##STR1## and 1-99 mol % of a recurring structural unit of formula II --O--Ar.sub.2 --O--Ar.sub.1 -- (II) wherein the aromatic rings in the structural unit of formula I are unsubstituted or substituted by one or more C.sub.1 -C.sub.4 alkyl groups, C.sub.1 -C.sub.4 alkoxy groups or halogen atoms, Ar.sub.1 is a radical of formula IIIa-IIIc ##STR2## wherein a is 0 or 1, ##STR3## which radical is unsubstituted or substituted by one or more C.sub.1 -C.sub.4 alkyl groups, C.sub.1 -C.sub.4 alkoxy groups or halogen atoms, and Ar.sub.2 is a radical of formula IVa-IVe ##STR4## wherein b is 0 or 1 ##STR5## wherein c is 0 or 1 ##STR6## wherein Z is --CO--, --SO.sub.2 --, --SO--, --S--, --O--, ##STR7## wherein R is methyl or phenyl, which radical is unsubstituted or substituted by one or more C.sub.1 -C.sub.4 alkyl groups, C.sub.1 -C.sub.4 alkoxy groups or halogen atoms, are soluble in customary organic solvents and can be processed from the solution to films or incorporated in other matrix resins.

  具有0.1至2.0dl/g的降低粘度，以1％N-甲基吡咯烷酮（NMP）溶液在25°C下测量，且基于聚芳基醚砜树脂中存在的结构单元的总数，含有99-1摩尔％的公式I的重复结构单元：##STR1## 和1-99摩尔％的公式II的重复结构单元：--O--Ar.sub.2--O--Ar.sub.1--（II），其中公式I中的芳香环未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，Ar.sub.1是公式IIIa-IIIc的基团：##STR2## 其中a为0或1，##STR3## 该基团未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，而Ar.sub.2是公式IVa-IVe的基团：##STR4## 其中b为0或1 ##STR5## 其中c为0或1 ##STR6## 其中Z为--CO--，--SO.sub.2--，--SO--，--S--，--O--，##STR7## 其中R为甲基或苯基，该基团未取代或被一个或多个C.sub.1-C.sub.4烷基，C.sub.1-C.sub.4烷氧基或卤素原子取代，可溶于常用有机溶剂，并可从溶液中加工成薄膜或纳入其他基质树脂中。