1-(pentafluorophenyl)ethyl ethyl ether | 90095-68-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-(pentafluorophenyl)ethyl ethyl ether
• 英文别名: (1-Ethoxyethyl)pentafluorobenzene；1-(1-Ethoxyethyl)-2,3,4,5,6-pentafluorobenzene
• CAS: 90095-68-4
• 化学式: C₁₀H₉F₅O
• 分子量: 240.173
• InChiKey: AQMCHCKSRVYVAE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  165.6±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.309±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-(五氟苯基)乙醇 在 sodium hydride 作用下， 反应 5.0h， 生成 1-(pentafluorophenyl)ethyl ethyl ether
  参考文献：
  名称：

  Substituent effect of the pentafluorophenyl group. Is there a correlation between x-ray crystal structures and reactivity in carbocation formation?

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00228a004

文献信息

• Reactions of perfluoroaromatic compounds with ethereal solutions of methylmagnesium iodide in the presence of silver(I) and copper(I) salts
  作者：A.A. Bogachev、L.S. Kobrina、G.G. Yakobson

  DOI：10.1016/s0022-1139(00)82604-4

  日期：1990.6

  The reactions of hexafluorobenzene, octafluorotoluene, decafluorodiphenyl, and octafluoronaphthalene with ethereal solutions of methylmagnesium iodide in the presence of AgCl or CuI gave the products of the methylation and 1-ethoxy-ethylation of the perfluorinated substrates, whose formation has been suggested to occur with participation of free radicals. Substitution of fluorine atoms by the 1-ethoxyethyl

  在AgCl或CuI的存在下，六氟苯，八氟甲苯，十氟联苯和八氟萘与甲基碘化碘的醚溶液反应，得到全氟化底物的甲基化和1-乙氧基乙基化的产物，已表明它们的形成是通过参与而发生的。自由基。在C 6 F 5 CF 3和C 6 F 5 C 6 F 5中的1-乙氧基乙基取代氟原子的过程主要是对位。在C 10 F 8中，1-和2-方向发生的程度相同，而甲基基团主要攻击八氟萘的1-位，并且在与八氟甲苯的反应中显示出低的选择性。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Inasaki Takeshi

  公开号：US20120301817A1

  公开（公告）日：2012-11-29

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.

  一种感光树脂组合物，其包括（P）一种具有以下式（1）所表示的重复单元的树脂，使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。
• Gogachev, A. A.; Kobrina, L. S.; Yakobson, G. G., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1984, vol. 20, p. 198 - 199
  作者：Gogachev, A. A.、Kobrina, L. S.、Yakobson, G. G.

  DOI：——

  日期：——
• BOGACHEV, A. A.;KOBRINA, L. S.;YAKOBSON, G. G., ZH. ORGAN. XIMII, 1984, 20, N 1, 218-219
  作者：BOGACHEV, A. A.、KOBRINA, L. S.、YAKOBSON, G. G.

  DOI：——

  日期：——
• US8735048B2
  申请人：——

  公开号：US8735048B2

  公开（公告）日：2014-05-27