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2-cyclopentyltetrahydrofuran | 90645-71-9

中文名称
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中文别名
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英文名称
2-cyclopentyltetrahydrofuran
英文别名
Oxabicyclopentane;2-cyclopentyloxolane
2-cyclopentyltetrahydrofuran化学式
CAS
90645-71-9
化学式
C9H16O
mdl
——
分子量
140.225
InChiKey
JTYOZXKOEUNCRV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    75-76 °C(Press: 20 Torr)
  • 密度:
    0.9438 g/cm3(Temp: 22 °C)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.5
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    四氢呋喃环戊烷 反应 1.0h, 以1.7 μmol的产率得到2-cyclopentyltetrahydrofuran
    参考文献:
    名称:
    沉积在TiO 2上的Pt纳米颗粒的双功能性质用于THF和烷烃之间的光催化sp 3 C–sp 3 C交叉偶联反应
    摘要:
    四氢呋喃(THF)与各种烷烃之间的光催化sp 3 C–sp 3 C交叉偶联是通过负载Pt的氧化钛(Pt / TiO 2)光催化剂完成的。系统地研究了THF和环己烷之间的交叉偶联反应,发现该反应遵循两种途径:主要过程是在Pt / TiO 2光催化剂上将两种底物进行光氧化,生成自由基,然后进行连续偶联。同时,次要的是Pt / TiO 2的光催化与Pt金属纳米粒子的热催化的混合体。Pt催化的活性被认为与sp 3的活化有关。THF或烷烃分子中的C–H键吸附在其表面上,并促进活化分子与光生自由基物种之间的反应。因此,据信TiO 2上的Pt纳米颗粒起着电子接收器以及金属催化剂的双重功能。
    DOI:
    10.1039/c7cy00535k
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文献信息

  • Cyclohexene derivative having alkenyl, liquid crystal composition and liquid crystal display device
    申请人:Shimada Teru
    公开号:US20080063814A1
    公开(公告)日:2008-03-13
    A liquid crystal compound selected from a group of compounds represented by formula (a): wherein Ra and Rb are each independently hydrogen, alkyl having 1 to 10 carbons or alkenyl having 2 to 10 carbons, provided that in the alkyl, —CH 2 — may be replaced by —O—, but plural —O— are not adjacent to each other, and hydrogen may be replaced by fluorine; ring A 1 and ring A 2 are each independently trans-1,4-cyclohexylene or 1,4-phenylene, provided that one or two hydrogens of the 1,4-phenylene may be replaced by halogen, and in a 6-membered ring of these groups, one —CH 2 — or two —CH 2 — that are not adjacent to each other may be replaced by —O—, and one or two —CH═ may be replaced by —N═; Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, —(CH 2 ) 2 —, —(CH 2 ) 4 —, —CH═CH—, —C≡—, —CH 2 O—, —OCH 2 —, —COO—, —OCO— or —OCF 2 —; l and m are each independently 0, 1 or 2, provided that l+m is 0, 1, 2 or 3; and n is an integer of from 0 to 6, provided that in —(CH 2 ) n —, —CH 2 — may be replaced by —O—, but plural —O— are not adjacent to each other, and hydrogen may be replaced by fluorine.
    从由式(a)表示的化合物组中选择的液晶化合物: 其中Ra和Rb分别独立地是氢、具有1至10个碳的烷基或具有2至10个碳的烯基,前提是在烷基中,-CH2-可以被-O-替换,但多个-O-不相邻,氢可以被氟替换;环A1和环A2分别独立地是反-1,4-环己烯基或1,4-苯基,前提是1,4-苯基的一个或两个氢可以被卤素替换,在这些基团的6元环中,一个不相邻的-CH2-或两个不相邻的-CH2-可以被-O-替换,一个或两个-CH═可以被-N═替换;Z1和Z2分别独立地是单键,-(CH2)2-,-(CH2)4-,-CH═CH-,-C≡-,-CH2O-,-OCH2-,-COO-,-OCO-或-OCF2-;l和m分别独立地是0、1或2,前提是l+m为0、1、2或3;n是0至6的整数,前提是在-(CH2)n-中,-CH2-可以被-O-替换,但多个-O-不相邻,氢可以被氟替换。
  • Resist composition and patterning process
    申请人:Watanabe Satoshi
    公开号:US20100009299A1
    公开(公告)日:2010-01-14
    The present invention relates to: a resist composition such as a chemically amplified resist composition for providing an excellent pattern profile even at a substrate-side boundary face of resist, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F 2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a patterning process utilizing the resist composition. The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising one or more kinds of amine compounds or amine oxide compounds (except for those having a nitrogen atom of amine or amine oxide included in a ring structure of an aromatic ring) at least having a carboxyl group and having no hydrogen atoms covalently bonded to a nitrogen atom as a basic center.
    本发明涉及一种抗蚀组合物,例如用于在抗蚀物的基板侧边界面上提供优异图案轮廓的化学增感抗蚀组合物,除了在微细加工的光刻工艺中具有更高的分辨率外,特别是在采用KrF激光、ArF激光、F2激光、超短紫外光、电子束、X射线等作为曝光光源的光刻工艺中;以及利用该抗蚀组合物的图案化工艺。本发明提供一种化学增感抗蚀组合物,其包括一种或多种胺化合物或胺氧化合物(除了那些在芳香环的环结构中不含有胺或胺氧原子的氮原子的化合物),至少具有一个羧基,并且没有氢原子共价键结合到氮原子作为碱性中心。
  • Alkane functionalization on a preparative scale by mercury-photosensitized cross-dehydrodimerization
    作者:Stephen H. Brown、Robert H. Crabtree
    DOI:10.1021/ja00190a032
    日期:1989.4
    5-trioxacyclohexane < ethanol < isobutane < THF < Etsub 3}SiH. The observed selectivities generally parallel those for homodimerization, reported in the preceding paper, but certain differences are noted, and reasons for the differences are proposed. The bond-dissociation energymore » of Etsub 3}SiH is estimated from the reactivity data to be 90 kcal/mol. Eleven new carbinols are synthesized. 39 refs., 6 tabs
    烷烃可以通过烷烃与醇、醚或硅烷之间的汞光敏反应以高转化率和高化学和量子产率在多克规模下官能化,得到同二聚体和交叉脱氢二聚体。由于同二聚体和交叉二聚体的极性差异很大,因此产物混合物的分离通常特别容易。当通过改变液体组成来调节气相中组分的比例时,也可以偏向产物组成。这对于最大化化学产率或通过有利于形成最容易分离的化合物对来简化分离是有用的。讨论了反应的机理基础,并详细描述了许多特定类型的合成,例如 2,2-二取代的甲醇。交叉二聚的选择性被证明超过了均二聚的选择性,并讨论了原因。不同化合物和化合物类别的相对反应性为 MeOH < 对二恶烷 < 环己烷 < 1,3,5-三恶六环己烷 < 乙醇 < 异丁烷 < THF < Etsub 3}SiH。观察到的选择性通常与前一篇论文中报道的均二聚化的选择性相似,但注意到了某些差异,并提出了差异的原因。Etsub 3}SiH 的键离解能根据反应性数据估计为
  • Nickel Complex Catalyzed Efficient Activation of sp3 and sp2 C–H Bonds for Alkylation and Arylation of Oxygen Containing Heterocyclic Molecules
    作者:Yashraj Gartia、Punnamchandar Ramidi、Darin E. Jones、Sharon Pulla、Anindya Ghosh
    DOI:10.1007/s10562-013-1170-8
    日期:2014.3
    A nickel(II) complex (1) of N,N′-bis(2,6-diisopropylphenyl)-2,6-pyridinedicarboxamido (L) ligand was examined for catalytic coupling of Grignard reagents with the C–H bond of oxygen containing heterocyclic compounds such as tetrahydrofuran and furan. The nickel(II) complex showed excellent activity in catalyzing C–H activation and further coupling with various Grignard reagents. The effective activation
    N,N'-双(2,6-二异丙基苯基)-2,6-吡啶二甲酰氨基 (L) 配体的镍 (II) 配合物 (1) 被检查用于格氏试剂与含氧的 C-H 键的催化偶联四氢呋喃、呋喃等杂环化合物。镍 (II) 配合物在催化 C-H 活化和进一步与各种格氏试剂偶联方面表现出优异的活性。C-H 键的有效活化在环境反应条件下进行,反应时间很短(1-2 小时)。催化剂 (1) 显示出 4,130 h-1 的高周转频率,催化剂负载量低至 0.01 mol%。这种催化途径可以证明是激活各种杂环中 sp3 和 sp2 C-H 键的有效模式,用于制备合成和药学相关分子。
  • Novel photoacid generators, resist compositions, and patterning process
    申请人:Ohsawa Youichi
    公开号:US20080085469A1
    公开(公告)日:2008-04-10
    Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) upon exposure to high-energy radiation. RC(═O)R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1a) R is hydroxyl, alkyl, aryl, hetero-aryl, alkoxy, aryloxy or hetero-aryloxy, R 1 is a divalent organic group which may have a heteroatom (O, N or S) containing substituent, or R 1 may form a cyclic structure with R. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.
    光酸发生剂在高能辐射作用下生成式(1a)的磺酸。RC(═O)R1—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1a)中,R为羟基、烷基、芳基、杂芳基、烷氧基、芳氧基或杂芳氧基,R1为可能含有杂原子(O、N或S)取代基的二价有机基团,或R1可与R形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容,可以控制酸的扩散,因此适用于化学增感抗蚀组合物中的使用。
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