1-adamantoxytetrafluoroethanesulfonyl fluoride | 1200341-02-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 磺酰卤
• 英文名称: 1-adamantoxytetrafluoroethanesulfonyl fluoride
• 英文别名: 2-(1-Adamantyloxy)-1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonyl fluoride
• CAS: 1200341-02-1
• 化学式: C₁₂H₁₅F₅O₃S
• 分子量: 334.307
• InChiKey: QXMYQZGPBYZQQO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  294.9±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.48±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  51.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-adamantoxytetrafluoroethanesulfonyl fluoride 在 水 、 lithium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以70%的产率得到Lithium;2-(1-adamantyloxy)-1,1,2,2-tetrafluoroethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR

  摘要：

  一种抗蚀组合物，包括在酸和酸发生剂组分（B）的作用下，在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分（A），所述酸发生剂组分（B）包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1''）表示的化合物（R1''-R3''表示芳基或烷基，但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基，且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环；X表示C3-C30烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基团；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基团；Y10表示—C(═O)—或—SO2—；Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基基团；W表示C2-C10烷基基团。

  公开号：

  US20120264061A1
• 作为产物：
  描述：

  1-溴金刚烷 、 四氟乙烷-beta-磺内酯 在 silver fluoride 作用下， 以 二乙二醇二甲醚 为溶剂， 反应 15.0h， 以30%的产率得到1-adamantoxytetrafluoroethanesulfonyl fluoride
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR

  摘要：

  一种抗蚀组合物，包括在酸和酸发生剂组分（B）的作用下，在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分（A），所述酸发生剂组分（B）包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1''）表示的化合物（R1''-R3''表示芳基或烷基，但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基，且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环；X表示C3-C30烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基团；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基团；Y10表示—C(═O)—或—SO2—；Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基基团；W表示C2-C10烷基基团。

  公开号：

  US20120264061A1

文献信息

• Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator
  申请人：Hada Hideo

  公开号：US20100119974A1

  公开（公告）日：2010-05-13

  A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) including a compound represented by (b1-1), a compound represented by (b1-1′) and/or a compound represented by (b1-1″) (R 1 ″-R 3 ″ represents an aryl group or an alkyl group, provided that at least one of R 1 ″-R 3 ″ represents a substituted aryl group being substituted with a group represented by (b1-1-0), and two of R 1 ″-R 3 ″ may be mutually bonded to form a ring with the sulfur atom; X represents a C 3 -C 30 hydrocarbon group; Q 1 represents a carbonyl group-containing divalent linking group; X 10 represents a C 1 -C 30 hydrocarbon group; Q 3 represents a single bond or a divalent linking group; Y 10 represents —C(═O)— or —SO 2 —; represents a C 1 -C 10 alkyl group or a fluorinated alkyl group: Q 2 represents a single bond or an alkylene group; and W represents a C 2 -C 10 alkylene group).

  一种抗蚀组合物，包括一种基础组分（A），在酸的作用下，在碱性显影液中表现出改变的溶解度，以及一种酸发生剂组分（B），包括由（b1-1）表示的化合物，由（b1-1'）表示的化合物和/或由（b1-1"）表示的化合物（其中，R1"-R3"表示芳基或烷基，但至少有一个R1"-R3"表示被（b1-1-0）表示的基取代的取代芳基，且其中两个R1"-R3"可以相互连接形成一个带有硫原子的环；X表示C3-C30 烃基；Q1表示含有羰基的二价连接基；X10表示C1-C30烃基；Q3表示单键或二价连接基；Y10表示-C（═O）-或-SO2-；表示C1-C10烷基或氟代烷基；Q2表示单键或烷基；W表示C2-C10烷基）。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：SESHIMO Takehiro

  公开号：US20100297560A1

  公开（公告）日：2010-11-25

  A positive resist composition including a base component (A′) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and generates acid upon exposure, the base component (A′) including a polymeric compound (A1′) having a structural unit (a5-1) represented by general formula (a5-1), a structural unit (a0-1) represented by general formula (a0-1) and a structural unit (a0-2) that generates acid upon exposure, the structural unit (a0-2) containing a group represented by general formula (a0-2′) (wherein represents an anion moiety represented by one of general formulas (1) to (5)).
• US8298748B2
  申请人：——

  公开号：US8298748B2

  公开（公告）日：2012-10-30
• US8415085B2
  申请人：——

  公开号：US8415085B2

  公开（公告）日：2013-04-09
• US8808959B2
  申请人：——

  公开号：US8808959B2

  公开（公告）日：2014-08-19