2-hydroxy-3-methoxypropyl benzoate | 128733-55-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-hydroxy-3-methoxypropyl benzoate
• 英文别名: (2-Hydroxy-3-methoxypropyl) benzoate
• CAS: 128733-55-1
• 化学式: C₁₁H₁₄O₄
• 分子量: 210.23
• InChiKey: XQZVCWYIOUHQLW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  337.1±32.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.160±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-hydroxy-3-methoxypropyl benzoate 、 乙腈 在 三氟化硼乙醚 、 potassium fluoride 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 1-acetamido-3-methoxypropan-2-yl benzoate
  参考文献：
  名称：

  Diol-Ritter 反应：受保护的连位氨基醇的区域选择性和立体选择性合成以及二醇单酯歧化的机理方面

  摘要：

  众所周知的环氧化物-里特反应通常会产生区域选择性差到平均的恶唑啉。在此，基于机理的对鲜为人知的二醇-里特反应的研究为通过路易斯酸催化的单酯化从末端环氧化物或 1,2-二醇合成 1- vic -amido-2-酯提供了一种高度区域选择性的方法。 . 当用化学计量的路易斯酸催化剂（BF 3)，这些二醇单酯形成二氧鎓阳离子中间体，该中间体与腈亲核试剂开环以形成腈中间体，该中间体经历快速且不可逆的水合得到所需的酰胺酯。二酯副产物的形成是不可逆的，并且似乎通过二醇单酯的歧化发生。使用手性环氧化物原料，酰胺酯的形成发生时，构型保持不变，光学纯度没有明显下降，这分别通过单晶 X 射线分析和手性色谱法测定。就合成 Zyvox 抗菌家族的抗菌恶唑烷酮类似物而言，直接获得手性vic - 酰胺酯是特别实用的。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.1c01475
• 作为产物：
  描述：

  2-phenyl-4-methoxymethyl-1,3-dioxolane 在 间氯过氧苯甲酸 、 2,2'-bipyridinium chlorochromate 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 36.0h， 以71%的产率得到2-hydroxy-3-methoxypropyl benzoate
  参考文献：
  名称：

  2,2'-联吡啶氯/中号环状缩醛的氯过苯甲酸介导的裂解为羟基酯

  摘要：

  亚苄基缩醛的2,2'-联吡啶鎓氯铬酸盐（BPCC）组成的试剂系统的手段裂解的羟基酯和中号氯过苯甲酸。4，6-O-亚苄基葡萄糖衍生物的氧化裂解得到6-O-苯甲酰基衍生物。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(97)00203-7

文献信息

• Regioselective Benzoylation of Diols and Carbohydrates by Catalytic Amounts of Organobase
  作者：Yuchao Lu、Chenxi Hou、Jingli Ren、Xiaoting Xin、Hengfu Xu、Yuxin Pei、Hai Dong、Zhichao Pei

  DOI：10.3390/molecules21050641

  日期：——

  A novel metal-free organobase-catalyzed regioselective benzoylation of diols and carbohydrates has been developed. Treatment of diol and carbohydrate substrates with 1.1 equiv. of 1-benzoylimidazole and 0.2 equiv. of 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene (DBU) in MeCN under mild conditions resulted in highly regioselective benzoylation for the primary hydroxyl group. Importantly, compared to most commonly

  已经开发出一种新型的无金属有机碱催化的二醇和碳水化合物的区域选择性苯甲酰化。用 1.1 当量处理二醇和碳水化合物底物。1-苯甲酰咪唑和 0.2 当量。1,8-二氮杂双环[5.4.0] undec-7-ene (DBU) 在温和条件下在 MeCN 中的反应导致伯羟基的高度区域选择性苯甲酰化。重要的是，与最常用的伯羟基保护基团相比，苯甲酰基保护基团提供了一种新的保护策略。
• Group 14 organometallic reagents. 9. Organotin-mediated monoacylation of diols with reversed chemoselectivity: a convenient synthetic method
  作者：Gianna Reginato、Alfredo Ricci、Stefano Roelens、Serena Scapecchi

  DOI：10.1021/jo00304a027

  日期：1990.8
• Coating-type underlayer coating forming composition for lithography containing naphthalene resin derivative
  申请人：Enomoto Tomoyuki

  公开号：US20090053647A1

  公开（公告）日：2009-02-26

  [Object] To provide a coating-type underlayer coating forming composition containing a naphthalene resin derivative. [Means for Solving Problems] A coating-type underlayer coating forming composition for lithography comprising a compound of formula (1): wherein A is an organic group having an aromatic group, R 1 is hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen group, a thiol group, an amino group or an amide group, m1 is the number of A substituted on the naphthalene ring and is an integer of 1 to 6, m2 is the number of R 1 substituted on the naphthalene ring and is an integer of 0 to 5, a sum of m1 and m2 (m1+m2) is an integer of 1 to 6, in cases where the sum is an integer other than 6, the reminder is hydrogen atom, and n is the number of repeating units ranging from 2 to 7000.
• POSITIVE WORKING PHOTOSENSITIVE MATERIAL
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：US20220019141A1

  公开（公告）日：2022-01-20

  Disclosed herein is a photosensitive composition comprising a) at least one photoacid generator; b) at least one Novolak polymer; c) at least one acrylate polymer, comprising a component having structure (I); d) at least one glycidyl hydroxy benzoic acid condensate material comprising one or more compounds having structure (II); e) at least one heterocyclic thiol compound comprising a ring structure chosen from the general structures (III), (IIIa) or (IIIb); and f) at least one solvent. Disclose herein are also the methods of using this composition to form a resist pattern and the methods of using these resist patterns to produce metal lines. Disclosed herein are also compounds and mixtures of compounds having structure (II).
• US7816067B2
  申请人：——

  公开号：US7816067B2

  公开（公告）日：2010-10-19