3-ethoxypropyl acetate | 94825-54-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 3-ethoxypropyl acetate
• 英文别名: acetic acid-(3-ethoxy-propyl ester)；Essigsaeure-(3-aethoxy-propylester)；ethoxypropylacetate
• CAS: 94825-54-4
• 化学式: C₇H₁₄O₃
• mdl: MFCD02093568
• 分子量: 146.186
• InChiKey: VXKUOGVOWWPRNM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 保留指数：
  1019

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.7
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.857
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  双季戊四醇 、 、 3-ethoxypropyl acetate 、 丙二醇甲醚醋酸酯 在 4-甲氧基苯酚 作用下， 生成 特丁基对苯二酚
  参考文献：
  名称：

  PROCESS FOR PREPARING A POLYMERIC RELIEF STRUCTURE

  摘要：

  本发明涉及一种制备聚合物浮雕结构的方法，包括以下步骤：将基材涂覆上一种包含一种或多种辐射敏感成分的涂层组成的涂层组合物，局部处理涂有涂层的基材，使其受到具有周期性或随机辐射强度模式的电磁辐射，形成潜像，并使得所得的涂层基材聚合和/或交联，其中涂层组成物包含一种或多种自由基捕捉剂，其量足以抑制/减缓在未处理区域中的大量聚合反应，同时又低到足以允许在步骤c中处理区域的聚合和/或交联，前提是涂层组成物中氧气的含量不等于与空气接触时的平衡含量。

  公开号：

  US20100028816A1
• 作为产物：
  描述：

  三甲氧基酯 、 mercury(II) diacetate 、 碘乙烷 反应 7.0h， 生成 3-ethoxypropyl acetate
  参考文献：
  名称：

  汞（II）盐和烷基卤与环氧乙烷、氧杂环丁烷和四氢吡喃的开环反应

  摘要：

  伯和仲烷基卤化物与乙酸汞 (II) 在环氧乙烷、氧杂环丁烷和四氢吡喃中的反应导致开环，得到相应的烷氧基烷基乙酸酯。与氧杂环丁烷中硫氰酸汞 (II) 的类似反应得到烷氧基烷基异硫氰酸酯和硫氰酸酯、ROCH2C(R')2CH2NCS 和 ROCH2C(R')2CH2SCN，其中异构体比率（N/S 比率）为 82-96/4-18。这表明反应涉及三元、四元或六元 O-烷基氧鎓离子中间体的初始形成和随后的 XHgZ2- 攻击。

  DOI：

  10.1246/bcsj.52.3611

文献信息

• XANTHENE-BASED COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：LG CHEM, LTD.

  公开号：US20200262807A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present specification provides a compound represented by Chemical Formula 1, a colorant composition, a resin composition, a photosensitive material, a color filter and a display device comprising the same.

  当前规格书提供了一种由化学公式1表示的化合物，一种着色剂组合物，一种树脂组合物，一种光敏材料，以及包含该化合物的彩色滤光器和显示设备。
• COMPOUND OR ITS TAUTOMER, METAL COMPLEX COMPOUND, COLORED PHOTOSENSITIVE CURING COMPOSITION, COLOR FILTER, AND PRODUCTION
  申请人：MIZUKAWA Yuki

  公开号：US20120238752A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  Provided is a colored photosensitive curing composition useful for color filters in primary colors, including blue, green, and red, having a high molar absorption coefficient and allowing a reduction in film thickness and superior color purity and fastness. A colored photosensitive curing composition, comprising, as its colorant, a dipyrromethene-based metal complex compound obtained from a metal or metal compound and a dipyrromethene-based compound represented by the following Formula (I): wherein in Formula (I), R 1 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent group; and R 7 represents a hydrogen or halogen atom, or an alkyl, aryl or heterocyclic group.

  提供的是一种有用于原色彩色滤光片的彩色光敏固化组合物，包括蓝色、绿色和红色，具有高摩尔吸收系数，可减少薄膜厚度，具有优越的颜色纯度和牢固度。 一种彩色光敏固化组合物，包括作为其着色剂的从金属或金属化合物获得的基于二吡咯甲烷的金属配合物化合物和由以下式（I）表示的基于二吡咯甲烷的化合物，其中在式（I）中，R1至R6各自独立地表示氢原子或取代基；R7表示氢或卤素原子，或烷基、芳基或杂环基。
• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040167322A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific benzenesulfonyldiazomethane containing a long-chain alkoxyl group at the 2-position on benzene ring has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括在苯环上的2-位含有长链烷氧基基团的特定苯磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括提高分辨率，改善焦点宽度，即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化，涂层、显影和剥离后减少残留物，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微加工。
• [EN] SULFONIUM SULFATES, THEIR PREPARATION AND USE<br/>[FR] SULFATES DE SULFONIUM, LEUR PRÉPARATION ET UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2012113829A1

  公开（公告）日：2012-08-30

  The present invention relates to a heat-curable composition comprising (a) at least one compound which is capable of undergoing cationic polymerization; and (b) at least one sulfonium sulfate selected from compounds of the formulae Ia and Ib where Yn- is a monovalent or divalent anion selected from (1) where n, M, R1 to R10 are as defined in claim 1 and in the description. The present invention also relates to novel sulfonium sulfates of the formulae Ia and Ib, to a process for curing cationically polymerizable material and to the cured material obtained by said process.

  本发明涉及一种热固化组合物，包括（a）至少一种能够进行阳离子聚合的化合物；和（b）选择自式Ia和Ib的至少一种砜酸盐，其中Yn-是从（1）中选择的一价或二价阴离子，其中n、M、R1至R10如权利要求1和描述中所定义。本发明还涉及式Ia和Ib的新型砜酸盐，以及用于固化阳离子聚合材料的工艺和通过该工艺获得的固化材料。
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20070292768A1

  公开（公告）日：2007-12-20

  A photoacid generator has formula (1). A chemically amplified resist composition comprising the photoacid generator has advantages including a high resolution, focus latitude, long-term PED dimensional stability, and a satisfactory pattern profile shape. When the photoacid generator is combined with a resin having acid labile groups other than those of the acetal type, resolution and top loss are improved. The composition is suited for deep UV lithography.

  一种光酸发生剂的化学式为（1）。包括该光酸发生剂的化学增感抗蚀组合物具有诸如高分辨率、焦点宽度、长期PED尺寸稳定性和令人满意的图案轮廓形状等优点。当该光酸发生剂与具有除了缩醛类型以外的酸敏感基团的树脂结合时，可以改善分辨率和顶部损失。该组合物适用于深紫外光刻。