2-ethyl-2-(((3-mercaptobutanoyl)oxy)methyl)propane-1,3-diyl bis(3-mercaptobutanoate) | 590678-06-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-ethyl-2-(((3-mercaptobutanoyl)oxy)methyl)propane-1,3-diyl bis(3-mercaptobutanoate)
• 英文别名: 2,2-Bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylbutanoate；2,2-bis(3-sulfanylbutanoyloxymethyl)butyl 3-sulfanylbutanoate
• CAS: 590678-06-1
• 化学式: C₁₈H₃₂O₆S₃
• 分子量: 440.646
• InChiKey: JDJSLZDCFIVFRF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  541.2±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.161±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  16
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  81.9
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-ethyl-2-(((3-mercaptobutanoyl)oxy)methyl)propane-1,3-diyl bis(3-mercaptobutanoate) 在 三乙胺 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 10.0h， 生成 2-(12,12-diethoxy-5-methyl-3,7-dioxo-2,13-dioxa-6-thia-8-aza-12-silapentadecyl)-2-ethylpropane-1,3-diyl bis(3-((1,3-dioxo-1,3-dihydroisobenzofuran-5-carbonyl)thio)butanoate)
  参考文献：
  名称：

  JP6279391

  摘要：

  公开号：

文献信息

• Thiourethane compound and photosensitive resin composition
  申请人：Showa Denko K.K.

  公开号：US08283095B2

  公开（公告）日：2012-10-09

  It is an object of the present invention to provide a photopolymerization initiator composition having high sensitivity and excellent storage properties, a photosensitive composition containing the photopolymerization initiator composition, and a thiourethane compound preferable for the photopolymerization initiator composition. The thiourethane compound of the present invention has 2 to 6 units each of which contains a moiety represented by the following formula (i) and a moiety represented by the following formula (ii). wherein R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R2 is —CO—, —COO— or —COOR3— (wherein R3 is an alkylene group of 2 to 6 carbon atoms).

  本发明的目的是提供一种具有高灵敏度和优异储存性能的光聚合引发剂组合物，包含该光聚合引发剂组合物的感光组合物，以及适用于该光聚合引发剂组合物的硫脲醚化合物。本发明的硫脲醚化合物具有2至6个单元，每个单元包含以下式(i)所表示的基团和以下式(ii)所表示的基团。 其中，R1是氢原子或甲基基团，R2是—CO—、—COO—或—COOR3—（其中R3是2至6个碳原子的烷基基团）。
• 新規含硫黄シランカップリング剤およびそれを含む歯科用組成物
  申请人：株式会社松風

  公开号：JP2015196685A

  公开（公告）日：2015-11-09

  【課題】歯科用コンポジットレジンにはラジカル重合性モノマーだけではなく、無機充填剤が機械的強度向上の目的で添加される。一般的にそれらの無機充填剤は重合性基を有するシランカップリング剤により表面処理され、濡れ性の向上や機械的強度向上が図られている。従来より、このシランカップリング剤には、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが広く用いられていた。しかし、該化合物で表面処理された粒子を用いた場合、疎水性が低いため加水分解が進行しやすく、材料の耐久性が低いという課題があった。また、疎水性が低いため無機充填剤の高充填化が困難であった。【解決手段】−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−，−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−，−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−，−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−，−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−，−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−，−ＮＨ−，−Ｓ−基などの極性接続基を構造に有するシランカップリング剤を用いて無機充填剤を表面処理することで、ラジカル重合性モノマーに対する高い親和性および高疎水性を与える事を発見し、本発明を完成した。本発明を歯科材料に用いた場合、高い機械的強度及び耐久性が得られた。

  【问题】牙科用复合树脂中添加了无机填料，旨在提高机械强度，不仅包括自由基聚合性单体，还包括无机填料。一般情况下，这些无机填料经由含有聚合基团的硅烷偶联剂进行表面处理，以提高润湿性和机械强度。传统上，γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷广泛用于这种硅烷偶联剂。然而，使用该化合物表面处理的颗粒时，由于疏水性较低，易于发生水解，导致材料耐久性较低。此外，由于疏水性较低，使得无机填料的高填充化变得困难。 【解决方法】通过使用具有极性连接基如-C（O）-O-, -C（O）-S-, -NH-C（O）-, -NH-C（O）-NH-, -NH-C（O）-S-, -NH-C（O）-O-, -NH-, -S-等结构的硅烷偶联剂对无机填料进行表面处理，发现其对自由基聚合性单体具有高亲和性和高疏水性，从而完成了本发明。当本发明应用于牙科材料时，可以获得高机械强度和耐久性。
• NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH ELEMENT, AND ORGANIC EL DISPLAY
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20190302617A1

  公开（公告）日：2019-10-03

  The present invention provides a negative photosensitive resin composition that has high pigment dispersibility and stability and can reduce residues of unexposed portions during development. The present invention provides a negative photosensitive resin composition containing an (A) alkali-soluble resin, a (B) dispersant having an amine value exceeding 0, a (C) benzofuranone based organic pigment having an amide structure, a (D) radical polymerizable compound, and a (E) photoinitiator. In this negative photosensitive resin composition, the (A) alkali-soluble resin contains one or more selected from the group consisting of a (A1) polyimide, a (A2) polyimide precursor, a (A3) polybenzoxazole, and a (A4) polybenzoxazole precursor, and the (B) dispersant having an amine value exceeding 0 contains a (B1) dispersant including a repeating unit represented by general formula (2) and a repeating unit represented by general formula (3) and a (B2) dispersant that is an acrylic block copolymer having an amine value of 15 to 60 mgKOH/g and/or a (B3) dispersant having a urethane bond. (In general formula (2), R 1 represents an alkylene group. R 2 and R 3 , which may be the same or different, each represents hydrogen, an alkyl group or a hydroxyl group. x represents an integer of 0 to 20. However, when x is 0, at least one of R 2 and R 3 is an alkyl group. m represents an integer of 1 to 100. In general formula (3), n represents an integer of 1 to 100.)

  本发明提供了一种具有高颜料分散性和稳定性的负性感光树脂组合物，可以减少在显影过程中未曝光部分的残留物。本发明提供了一种包含（A）可溶于碱性树脂、（B）胺值超过0的分散剂、（C）苯并呋喃酮基有机颜料（具有酰胺结构）、（D）自由基聚合化合物和（E）光引发剂的负性感光树脂组合物。在这种负性感光树脂组合物中，（A）可溶于碱性树脂包含从以下组中选择的一种或多种：（A1）聚酰亚胺、（A2）聚酰亚胺前体、（A3）聚苯并噁唑和（A4）聚苯并噁唑前体；而具有胺值超过0的（B）分散剂包括具有由通用公式（2）表示的重复单元和由通用公式（3）表示的重复单元的（B1）分散剂，以及胺值为15至60 mgKOH/g的丙烯酸酯嵌段共聚物（B2）和/或具有脲键的（B3）分散剂。（在通用公式（2）中，R1表示烷基基团。R2和R3，可能相同也可能不同，每个表示氢、烷基基团或羟基。x表示0到20的整数。但是，当x为0时，R2和R3中至少有一个是烷基基团。m表示1到100的整数。在通用公式（3）中，n表示1到100的整数。）
• CHROMENE COMPOUND, CURABLE COMPOSITION COMPRISING THE COMPOUND, AND OPTICAL ARTICLE INCLUDING A CURED BODY OF THE CURABLE COMPOSITION
  申请人：TOKUYAMA CORPORATION

  公开号：US20200190106A1

  公开（公告）日：2020-06-18

  A chromene compound having at least one indenonaphthopyran moiety which has a group forming a spiro ring together with the 13-position carbon atom and further an oligomer chain group selected from a polyalkylene oxide oligomer chain group having at least three recurring units and a polyester oligomer chain group having at least three recurring units, represented by the following formula and having reduced matrix dependence: wherein R 1 and R 2 are each a group which may have an oligomer chain group, the ring Z bonded to the 13-position carbon atom of the chromene compound is a Spiro ring group, and R 3 and R 4 are each an aryl group or heteroaryl group which may have an oligomer chain group. Preferably, the chromene compound has at least one oligomer chain group in the molecule.

  具有至少一个印苯并萘吡喃基团的色酮化合物，其中该基团与13位碳原子形成螺环，并且进一步具有从至少三个重复单元中选择的聚烷氧基寡聚物链基团和聚酯寡聚物链基团中的一个寡聚物链基团，由下式表示并具有降低的矩阵依赖性： 其中R1和R2是各自可能具有寡聚物链基团的基团，与色酮化合物的13位碳原子键合的环Z是螺环基团，而R3和R4是各自可能具有寡聚物链基团的芳基或杂环基团。最好，该色酮化合物在分子中至少具有一个寡聚物链基团。
• DIAMINE COMPOUND, AND HEAT-RESISTANT RESIN OR HEAT-RESISTANT RESIN PRECURSOR USING SAME
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20170334837A1

  公开（公告）日：2017-11-23

  Provided are a photosensitive resin composition which has excellent pattern processabilities (high sensitivity and high resolution) and is excellent in chemical resistance and thermal resistance after thermally treated; a heat-resistant resin or heat-resistant resin precursor used for the composition; and a diamine compound which is a raw material of the resin and the precursor. The diamine compound is a diamine compound represented by a general formula (1).

  提供了一种具有优异图案加工性（高灵敏度和高分辨率）且在热处理后具有优异化学耐性和热耐性的光敏树脂组合物；用于该组合物的耐热树脂或耐热树脂前体；以及作为树脂和前体原料的二胺化合物。该二胺化合物是由通式（1）表示的二胺化合物。