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2-(4-Dodecylphenoxy)ethanol

中文名称
——
中文别名
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英文名称
2-(4-Dodecylphenoxy)ethanol
英文别名
——
2-(4-Dodecylphenoxy)ethanol化学式
CAS
——
化学式
C20H34O2
mdl
——
分子量
306.5
InChiKey
XXZFIDGQCJPTOR-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.1
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    14
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.7
  • 拓扑面积:
    29.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

文献信息

  • Phenoxybutyltriazole compound, agricultural and horticultural fungicidal composition containing the same, and process for producing the same
    申请人:ISHIHARA SANGYO KAISHA LTD.
    公开号:EP0049111A1
    公开(公告)日:1982-04-07
    A phenoxybutyltriazole compound represented by the following formula (I): wherein X is a halogen atom, a phenyl group or a 5-trifluorome- thylpyridine-2-yloxy group; Y is a halogen atom or a trifluoromethyl group; Q is a 〉C=O group or a 〉CH-OH group; A is a 〉CH- group or a nitrogen atom; and m and n are each an integer of 0 to 2, or a salt thereof, which is useful as an active ingredient for agricultural and horticultural fungicides, is disclosed. A process for producing the compound of the formula (I) is also disclosed.
    由下式(I)代表的苯氧基丁基三唑化合物: 其中 X 是卤素原子、苯基或 5-三甲基吡啶-2-基氧基;Y 是卤素原子或三甲基;Q 是〉C=O 基或〉CH-OH 基;A 是〉CH- 基或氮原子;m 和 n 分别是 0 至 2 的整数、 或其盐,可用作农业和园艺杀真菌剂的活性成分。还公开了一种生产式(I)化合物的工艺。
  • Composition for film formation and material for insulating film formation
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1058274A1
    公开(公告)日:2000-12-06
    A composition for film formation which is useful as an interlayer insulating film material in the production of semiconductor devices and the like, and gives a coating film having excellent uniformity, low dielectric constant, low leakage current and excellent storage stability; and a material for insulating film formation using the composition. The composition comprises (A) a product of hydrolysis and condensation obtained by hydrolyzing and condensing at least one compound selected from the group consisting of (A-1) compounds represented by the formula (1): R1aSi(OR2)4-a, and (A-2) compounds represented by the formula (2): R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c; and (B) a compound represented by the formula (3): R8O(CHCH3CH2O)eR9.
    一种用于成膜的组合物,该组合物可在半导体器件等的生产中用作层间绝缘膜材料,并可获得具有优异均匀性、低介电常数、低泄漏电流和优异存储稳定性的涂膜;以及一种使用该组合物的绝缘膜成膜材料。 该组合物包括 (A) 通过解和缩合至少一种选自以下组别的化合物而得到的解和缩合产物 (A-1) 由式(1)表示的化合物:R1aSi(OR2)4-a,和 (A-2) 由式 (2) 代表的化合物:R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c; and (B) 由式(3)代表的化合物:R8O(CHCH3CH2O)eR9。
  • COSMETIC MAKE-UP COMPOSITIONS
    申请人:THE PROCTER & GAMBLE COMPANY
    公开号:EP0706365A1
    公开(公告)日:1996-04-17
  • EP0706365A4
    申请人:——
    公开号:EP0706365A4
    公开(公告)日:1998-03-25
  • US4399143A
    申请人:——
    公开号:US4399143A
    公开(公告)日:1983-08-16
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