α,α-bisphenylsulphonyltoluene | 38564-68-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: α,α-bisphenylsulphonyltoluene
• 英文别名: 2-(phenylmethylenedisulfonyl)dibenzene；bis-benzenesulfonyl-phenyl-methane；Bis-benzolsulfonyl-phenyl-methan；ω.ω-Bis-phenylsulfon-toluol；Benzal-bis-phenylsulfon；α,α-Bis-phenylsulfon-toluol；Bis(benzenesulfonyl)methylbenzene
• CAS: 38564-68-0
• 化学式: C₁₉H₁₆O₄S₂
• 分子量: 372.466
• InChiKey: DKOWDFVVKUFLSX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  85
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  α,α-bisphenylsulphonyltoluene 生成 Brom-phenyl-diphenylsulfonyl-methan
  参考文献：
  名称：

  Boehme,H.; Junga,M., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1972, vol. 758, p. 132 - 142

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  苯基双(苯硫基)甲烷 在 双氧水 、 溶剂黄146 作用下， 生成 α,α-bisphenylsulphonyltoluene
  参考文献：
  名称：

  Interchange Reactions of Mercaptals and Mercaptols with Thiols^1,2

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01132a003

文献信息

• Diverse functionalization of aryl halides mediated by bis(phenylsulfonyl)methane
  作者：Ping Pan、Lei Chen、Xue-jing Zhang、Ming Yan

  DOI：10.1016/j.tet.2021.132371

  日期：2021.9

  A palladium-catalyzed coupling reaction of bis(phenylsulfonyl)methane and aryl halides was developed. A variety of bis(phenylsulfonyl)methyl arenes were prepared in good yields. The transformations of bis(phenylsulfonyl)methyl to methyl, trideuteriomethyl, ethyl, carboxyl, and other functional groups were demonstrated. The results provided a new approach to diverse functionalization of aryl halides

  开发了钯催化的双（苯磺酰基）甲烷和芳基卤化物的偶联反应。以良好的收率制备了多种双（苯磺酰基）甲基芳烃。证明了双（苯磺酰基）甲基向甲基、三氘代甲基、乙基、羧基和其他官能团的转化。该结果为芳基卤化物的多种功能化提供了一种新方法。
• Reactivity of phenyliodonium bis(arylsulphonyl)methylides towards alkenes and alkynes: crystal structure of 9-phenylsulphonyl-1,2,3,4,4a,9a-hexahydro-1,4- methanofluorene
  作者：Lazaros Hatjiarapoglou、Anastassios Varvoglis、Nathaniel W. Alcock、Graham A. Pike

  DOI：10.1039/p19880002839

  日期：——

  Thermal or photochemical reactions of phenyliodonium bis(arylsulphonyl)methylides with alkenes lead normally to gem-(arylsulphonyl)cyclopropanes. Norbornene and trans-stilbene, however, afford 1-(phenylsulphonyl)indane derivatives. The crystal structure of the title compound R= 0.038 for 3 468 unique observed reflections [I/σ(I) 3.0]} confirmed the identity of the product with norbornene. Diarylacetylenes

  苯基碘鎓双（芳基磺酰基）甲基化物与烯烃的热或光化学反应通常会导致宝石-（芳基磺酰基）环丙烷。然而，降冰片烯和反式-二苯乙烯提供了1-（苯基磺酰基）茚满衍生物。标题化合物的晶体结构中 - [R = 0.038 3层468米独特观察到的反射[我/σ（我）3.0]}证实了与降冰片烯的产物的身份。二芳基乙炔生成1-（芳基磺酰基）茚。滑移物的热分解涉及新的重排，形成芳基芳硫代磺酸盐。
• Nucleophilic Reactivities of Bis-Acceptor-Substituted Benzyl Anions
  作者：Ángel Puente、Armin R. Ofial、Herbert Mayr

  DOI：10.1002/ejoc.201601513

  日期：2017.2.24

  efficiently coordinates to the anions' counter ions K+, did not affect the kinetics, which indicates that the measured rate constants refer to the reactivities of the nonpaired carbanions. Comparison with the reactivities of the structurally analogous secondary carbanions HCXY- shows that replacement of H at the carbanionic center by Ph reduces the nucleophilic reactivities towards a reference benzhydrylium

  双受体取代的苄基阴离子（PhCXY-、X、Y = CN、CO2Et、COPh、SO2Ph）与二苯甲基离子和醌甲基化物（参考亲电子试剂）的反应动力学已在 20 摄氏度的二甲亚砜溶液中确定. 反应遵循二级动力学，一级关于亲电子试剂，一级关于碳负离子。添加 18-crown-6 醚，它有效地与阴离子的反离子 K+ 协调，不影响动力学，这表明测得的速率常数是指非成对碳负离子的反应性。与结构类似的二级碳负离子 HCXY- 的反应性的比较表明，在碳负离子中心用 Ph 替换 H 会降低对参考二苯甲基离子的亲核反应性，因子范围仅为 1.2 (X, Y = SO2Ph) 到 6 ( X, Y = CO2 Et)。lg k(2) 与参考亲电试剂的亲电性参数 E 的关系图是线性的，从而表明相关性 lg k(2)(20 摄氏度) = s(N)(E + N)，其表征亲核试剂为两个依赖于溶剂的参数 sN 和 N 以及由参数
• Inhibition of respiratory complex III by ligands that interact with a regulatory switch
  申请人：The Regents of the University of California

  公开号：US11058645B2

  公开（公告）日：2021-07-13

  The present invention provides methods for inhibiting respiratory complex III in a cell. The present invention also provides methods for treating cancer in a subject.

  本发明提供了抑制细胞中呼吸复合体 III 的方法。本发明还提供了治疗受试者癌症的方法。
• [DE] POSITIV-ARBEITENDES STRAHLUNGSEMPFINDLICHES GEMISCH UND DAMIT HERGESTELLTES AUFZEICHNUNGSMATERIAL<br/>[EN] POSITIVE-ACTING RADIATION-SENSITIVE MIXTURE AND RECORDING MATERIAL PRODUCED THEREWITH<br/>[FR] MELANGE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, A FONCTION POSITIVE, ET MATERIAU D'ENREGISTREMENT FABRIQUE AVEC CE MELANGE
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：WO1994003837A1

  公开（公告）日：1994-02-17

  (DE) Die Erfindung betrifft ein positiv-arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit a) einer Verbindung, die unter Einwirkung von aktinischer Strahlung Säure bildet, b) einer Verbindung mit mindestens einer durch diese Säure spaltbaren C-O-C- oder C-O-Si-Bindung und c) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen oder zumindest quellbaren polymeren Bindemittel, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Verbindung (a) der allgemeinen Formel R1(-SO2-R2)n entspricht, worin: R1 ein n-wertiger (C1-C3)Alkanrest ist, R2 gleich oder verschieden sind und Aryl-, Aralkyl-, Heteroaryl- oder Heteroaralkylreste und n eine ganze Zahl von 2 bis 4 bedeuten. Das erfindungsgemäße, strahlungsempfindliche Gemisch zeichnet sich durch eine hohe Auflösung und eine hohe Empfindlichkeit über einem weiten Spektralbereich aus. Es zeigt ebenso eine hohe thermische Stabilität und bildet bei Belichtung keine korrodierenden Photolyseprodukte. Die Erfindung betrifft weiterhin ein daraus hergestelltes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das zur Herstellung von Photoresists, elektronischen Bauteilen, Druckplatten oder zum Formteilätzen geeignet ist.(EN) The invention relates to a positive-acting radiation-sensitive mixture with: a) a compound which forms an acid under the effect of actinic radiation, b) a compound with at least one C-O-C- or C-O-Si bond which can be split by this acid and c) a polymeric binder which is insoluble in water but soluble or at least swellable by aqueous alkaline solutions, in which the compound (a) corresponds to the general formula: R1(-SO2-R2)n, in which R1 is an n-valent (C1C3)alkane radical, R2 are the same or different and are aryl, aralkyl, heteroaryl or heteroaralkyl radicals and n is a whole number from 2 to 4. The radiation-sensitive mixture of the invention has high resolution and great sensitivity over a wide spectral range. It also exhibits great thermal stability and does not form any corrosive photolysis products on exposure. The invention also relates to a radiation-sensitive recording material made therefrom which is suitable for making photoresists, electronic components and printing plates or for moulding etching.(FR) L'invention concerne un mélange sensible au rayonnement, à fonction positive, comprenant: a) un composé formant un acide sous l'action du rayonnement actinique, b) un composé présentant au moins une liaison C-O-C- ou C-O-Si dissociable par cet acide, et c) un liant polymère insoluble dans l'eau, soluble dans des solutions alcalines aqueuses, ou au moins gonflable, caractérisé en ce que le composé (a) correspond à la formule générale: R1(-SO2-R2)n, dans laquelle R1 est un reste alcane en C1-C3, de valence n; R2, identiques ou différents, sont des restes aryle, aralkyle, hétéroaryle ou hétéroaralkyle, et n est un nombre entier compris entre 2 et 4. Le mélange sensible au rayonnement conforme à l'invention est remarquable en ce qu'il présente une aptitude élevée à la dissolution et une haute sensibilité dans un vaste domaine spectral. Il présente également une haute stabilité thermique et ne forme pas, par exposition à la lumière, de produits de photolyse corrosifs. L'invention concerne également un matériau d'enregistrement sensible au rayonnement, fabriqué avec ce mélange, ledit matériau convenant pour la fabrication de photorésists, de composants électroniques, de plaques d'impression ou pour l'attaque de pièces moulées.

  该发明涉及一种正作用的辐射敏感混合物，包含以下三种成分： a) 能在辐射作用下形成酸的化合物， b) 至少具有一份C-O-C-或C-O-Si键的化合物，这些键在酸的作用下能分离，以及 c) 一种在水溶剂中不水解但在水和碱性溶液中能水解或至少能膨胀的聚合物交联剂，该交联剂通过以下的一般式子~R1(-SO2-R2)n~加以表征，其中 R1 为一个n值为(1(C1-C3)代烷基，R2 是相同的或其他的基团，且为aryl、aryl、heteroaryl 或heteroaryl基团，n 则为2到4之间的整数。 该辐射敏感混合物具有高度的分辨率和广泛波谱范围的巨大灵敏度。它还表现出高度的热稳定性和在光照下不会产生腐蚀性光分解产物。 该发明还涉及到上述混合物制备的一种辐射敏感记录材料，这种材料可用于制备光阻、电子组件、印刷版或制备 etching模具。