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3-Methyl-butan-1,2,4-tricarbonsaeure | 5726-54-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
3-Methyl-butan-1,2,4-tricarbonsaeure
英文别名
opt.-inakt. 3-Methyl-butan-1,2,4-tricarbonsaeure;2-Methyl-butan-1,3,4-tricarbonsaeure;3-methyl-butane-1,2,4-tricarboxylic acid;3-Methylbutane-1,2,4-tricarboxylic acid
3-Methyl-butan-1,2,4-tricarbonsaeure化学式
CAS
5726-54-5
化学式
C8H12O6
mdl
——
分子量
204.18
InChiKey
XLCDXXYCLGCXPX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -0.5
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.62
  • 拓扑面积:
    112
  • 氢给体数:
    3
  • 氢受体数:
    6

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    3-methyl-butane-1,2,4-tricarboxylic acid triethyl ester 在 盐酸 作用下, 生成 3-Methyl-butan-1,2,4-tricarbonsaeure
    参考文献:
    名称:
    多环化合物的合成。第八部分 Friedel-Crafts用三羧酸的酸酐酰化。16,17-二氢-17-甲基-15 H-环戊[ a ]菲的合成
    摘要:
    描述了萘,1-和2-甲基萘以及1,2,3,4-四氢萘与丙烷-1,2,3-三羧酸1,2-酐及其2-甲基衍生物的酰化作用。通过这种方法已经以高收率制备了1,2,3,4-四氢-氧杂菲乙酸。中间体的结构是通过独立合成建立的。通过萘与3-甲基丁烷-1,2,4-三羧酸1,2-酐的酰化反应生成的酮酸已被用于一种新的,改进的生产16,17-二氢-17-甲基-15 H-的途径。环戊[ a ]菲(Diels烃)。由萘和2-甲基丙烷-1,2,3-三羧酸的酮酸-1,2-酐转化成外消旋的雌-1,3,5(10),6,8-五烯-17-酮[反式-(±)-3-deoxyequilenin]通过已知方法。
    DOI:
    10.1039/j39680000893
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文献信息

  • Treatment liquid for manufacturing semiconductor and pattern forming method
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US11256173B2
    公开(公告)日:2022-02-22
    An object of the present invention is to provide a treatment liquid for manufacturing a semiconductor and a pattern forming method, in which the formation of particles including metal atoms can be reduced and an excellent pattern can be formed. A treatment liquid for manufacturing a semiconductor according to an embodiment of the present invention includes: a quaternary ammonium compound represented by Formula (N); at least one additive selected from the group consisting of an anionic surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, and a chelating agent; and water. The treatment liquid for manufacturing a semiconductor includes one kind or two or more kinds of metal atoms selected from the group consisting of Na, K, Ca, Fe, Cu, Mg, Mn, Li, Al, Cr, Ni, and Zn, and a total mass of the metal atoms is 1 mass ppt to 1 mass ppm with respect to the sum of a total mass of the additive and the total mass of the metal atoms.
    本发明的目的是提供一种用于制造半导体的处理液和一种图案形成方法,在这种处理液和方法中,可以减少包括金属原子在内的颗粒的形成,并且可以形成极好的图案。 根据本发明的一个实施方案,用于制造半导体的处理液包括:由式(N)表示的季铵盐化合物;至少一种添加剂,该添加剂选自由阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂和螯合剂组成的组;以及水。用于制造半导体的处理液包括一种或两种以上选自 Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni 和 Zn 组的金属原子,且金属原子的总质量相对于添加剂总质量和金属原子总质量之和为 1 质量 ppt 至 1 质量 ppm。
  • Structure of the Four Isomers of the Insect Attractant Trimedlure<sup>1</sup>
    作者:T. P. McGovern、Morton Beroza
    DOI:10.1021/jo01343a036
    日期:1966.5
  • Perkin, Journal of the Chemical Society, 1911, vol. 99, p. 757
    作者:Perkin
    DOI:——
    日期:——
  • Ukita, Yakugaku Zasshi/Journal of the Pharmaceutical Society of Japan, 1944, vol. 64, # 5, p. 285,292
    作者:Ukita
    DOI:——
    日期:——
  • Hope; Perkin, Journal of the Chemical Society, 1911, vol. 99, p. 774
    作者:Hope、Perkin
    DOI:——
    日期:——
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