toluene-4-sulfonic acid 2,6-dinitro-phenyl ester | 88791-50-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: toluene-4-sulfonic acid 2,6-dinitro-phenyl ester
• 英文别名: toluene-4-sulfonic acid-(2,6-dinitro-phenyl ester)；Toluol-4-sulfonsaeure-(2,6-dinitro-phenylester)；2,6-Dinitrophenyl 4-methylbenzenesulfonate；(2,6-dinitrophenyl) 4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 88791-50-8
• 化学式: C₁₃H₁₀N₂O₇S
• 分子量: 338.298
• InChiKey: PYDFYMHTVORUGG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  143
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  toluene-4-sulfonic acid 2,6-dinitro-phenyl ester 在 sodium acetate 、 N,N-二异丙基乙胺 、 tin(ll) chloride 作用下， 以 乙醇 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 13.0h， 生成 [2-(2,6-diamino-phenylsulfanyl)-ethyl]-carbamic acid tert-butyl ester
  参考文献：
  名称：

  肝素结合折叠剂的设计和评估。

  摘要：

  DOI：

  10.1002/anie.200501279
• 作为产物：
  描述：

  2,6-二硝基苯酚 、 对甲苯磺酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以80%的产率得到toluene-4-sulfonic acid 2,6-dinitro-phenyl ester
  参考文献：
  名称：

  Suttle, Nicola A.; Williams, Andrew, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1983, # 10, p. 1563 - 1568

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Resist composition
  申请人：Nippon Paint Co., Ltd.

  公开号：EP0574939A1

  公开（公告）日：1993-12-22

  Disclosed is a positive type resist composition which can forms a good pattern by subjecting a resist layer to plural exposures and developments, which results in excellent adhesion between the resist layer and a substrate. The composition comprises: (a) a polymer having an acid value of 2 to 200, prepared from 20 to 94 % by weight of a t-butyl ester of a α,β-ethylenically unsaturated carboxylic acid, 5 to 79 % by weight of a (meth)acrylate of the formula:         CH₂=C(R₁)-COO-(R₂-O)n-R₃   I (wherein R₁ is hydrogen or a methyl group, R₂ is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, R₃ is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an aryl group or an aralkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10) and 1 to 75 % by weight of another α,β-ethylenically unsaturated compound; and (b) a photoactivator which generates an acid in response to a light irradiation.

  本发明公开了一种正型抗蚀剂组合物，通过对抗蚀剂层进行多次曝光和显影，可形成良好的图案，从而使抗蚀剂层与基底之间具有极佳的附着力。该组合物包括 (a) 一种酸值为 2 至 200 的聚合物，由 20% 至 94% （按重量计）的α，β-乙烯基不饱和羧酸的叔丁酯、5% 至 79% （按重量计）的式（甲基）丙烯酸酯制备而成： CH₂=C(R₁)-COO-(R₂-O)n-R₃ I (其中 R₁ 是氢或甲基，R₂ 是具有 1 至 6 个碳原子的亚烷基，R₃ 是具有 1 至 6 个碳原子的烷基、芳基或具有 1 至 6 个碳原子的芳烷基，n 是 1 至 10 的整数)和 1%至 75%(重量百分比)的另一种 α、β-乙烯基不饱和化合物；以及 (b) 光活化剂，在光照射下产生一种酸。
• Sane; Joshi, Journal of the Indian Chemical Society, 1932, vol. 9, p. 59,63
  作者：Sane、Joshi

  DOI：——

  日期：——
• Savelova; Zubareva; Simanenko, Russian Journal of Organic Chemistry, 1996, vol. 32, # 10, p. 1495 - 1500
  作者：Savelova、Zubareva、Simanenko

  DOI：——

  日期：——
• Hillemann, Chemische Berichte, 1938, vol. 71, p. 34,41
  作者：Hillemann

  DOI：——

  日期：——
• SIMANENKO, YU. S.;PROKOPEVA, T. M.;SAVELOVA, V. A.;, ZAKALICHNAYA L. P.;B+, REAKTS. SPOSOBNOST ORGAN. SOED., 26,(1989) N-2, S. 30-54
  作者：SIMANENKO, YU. S.、PROKOPEVA, T. M.、SAVELOVA, V. A.、, ZAKALICHNAYA L. P.、B+

  DOI：——

  日期：——