2-Fluoroprop-2-enoyl fluoride | 60556-85-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 酰卤
• 英文名称: 2-Fluoroprop-2-enoyl fluoride
• 英文别名: acid fluoride of α-fluoroacrylic acid；α-Fluoracrylsaeurefluorid；2-fluoropropenoyl fluoride；2-fluoroacryloyl fluoride；2-fluoroacrylic fluoride；α-fluoro acrylic acid fluoride
• CAS: 60556-85-6
• 化学式: C₃H₂F₂O
• 分子量: 92.0451
• InChiKey: NKEPPUAOWHKWHS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  6
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-烯丙基苄胺 、 2-Fluoroprop-2-enoyl fluoride 在 三乙胺 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 以41%的产率得到N-allyl-N-benzyl-2-fluoroacrylamide
  参考文献：
  名称：

  含氟维氮氮杂环的环封闭复分解途径

  摘要：

  描述了高度官能化的氟化哌啶的合成。该合成中的关键步骤是涉及氟化物取代的烯烃的闭环复分解反应，这导致相应的环状氟乙烯。已经评估了几种到达不同取代的哌啶的序列。（©Wiley-VCH Verlag GmbH＆Co.KGaA，69451 Weinheim，Germany，2006）

  DOI：

  10.1002/ejoc.200500826
• 作为产物：
  描述：

  3-chloro-2,3-difluoroallylic alcohol 在 硫酸 作用下， 以82%的产率得到2-Fluoroprop-2-enoyl fluoride
  参考文献：
  名称：

  Primary polyfluoroallylic alcohols. Preparation and isomerization into 2-fluoroacrylic acid fluorides and 1-fluoro vinyl ketones

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00284a050

文献信息

• Processes for producing .alpha.-fluoroacrylic acid esters and
  申请人：Daikin Kogyo Co., Ltd.

  公开号：US04604482A1

  公开（公告）日：1986-08-05

  This invention provides a process for preparing an .alpha.-fluoroacrylic acid ester characterized by reacting 2,2,3,3-tetrafluorooxetane, a metal halide, an alcohol and a dehalogenating agent. This invention also provides a process for preparing .alpha.-fluoroacrylic acid fluoride, CH.sub.2 .dbd.CFCOF, which is an intermediate for preparing the .alpha.-fluoroacrylic acid ester.

  该发明提供了一种制备α-氟丙烯酸酯的方法，其特征在于通过反应2,2,3,3-四氟氧杂环烷、一种金属卤化物、一种醇和一种脱卤剂来实现。该发明还提供了一种制备α-氟丙烯酸氟化物，CH2=CFCOF，该氟化物是制备α-氟丙烯酸酯的中间体。
• Intramolecular Diels–Alder reaction of α-fluoroacrylate derivatives promoted by novel bidentate aluminum Lewis acid
  作者：Akio Saito、Hikaru Yanai、Wataru Sakamoto、Kosuke Takahashi、Takeo Taguchi

  DOI：10.1016/j.jfluchem.2005.01.019

  日期：2005.5

  Intramolecular Diels–Alder (IMDA) reaction of α-fluoroacrylate derivatives 1a–e having 1,7,9-decatrienoate system is efficiently promoted by the novel bidentate Lewis acid A generated in situ by mixing 3,3′,5,5′-tetrabromo-1,1′-biphenyl-2,2′-diol (Br4BIPOL, 1 mol) and trimethylaluminum (2 mol). The IMDA reaction of α-fluoroacrylates proceeds via endo-boat transition state as in the case of the corresponding

  通过混合3,3'，5,5'-原位生成的新型双齿路易斯酸A，可以有效地促进具有1,7,9-十碳三烯酸酯体系的α-氟代丙烯酸酯衍生物1a - e的分子内Diels-Alder（IMDA）反应。四溴-1,1'-联苯-2,2'-二醇（Br 4 BIPOL，1摩尔）和三甲基铝（2摩尔）。与相应的非氟化丙烯酸酯一样，α-氟丙烯酸酯的IMDA反应通过内舟过渡态进行。
• Hexafluoroneopentyl alcohol, derivative thereof fluorine-containing
  申请人：Daikin Industries, Ltd.

  公开号：US05116544A1

  公开（公告）日：1992-05-26

  This invention provides (i) novel hexafluoroneopentyl alcohol, (ii) its derivatives, i.e., hexafluoroneopentyl (meth)acrylate, (iii) fluorinated polymers comprising said acrylate as the monomer component, and (iv) optical materials comprising said fluorinated polymers.

  本发明提供了（i）新型六氟异戊醇，（ii）其衍生物，即六氟异戊酰基（甲）丙烯酸酯，（iii）包括该丙烯酸酯为单体组分的氟化聚合物，以及（iv）包括该氟化聚合物的光学材料。
• POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
  申请人：Yamashita Tsuneo

  公开号：US20100297564A1

  公开（公告）日：2010-11-25

  A polymerizable fluorine-containing monomer and a fluorine-containing polymer which are suitable for a resist layer and a protective layer of a laminated resist for forming a fine pattern in production of semiconductor devices, and further are useful especially in immersion lithography using water as a liquid medium, and a method of forming a resist pattern are provided. The polymerizable fluorine-containing monomer is represented by the formula (1): wherein R 1 is hydrogen atom or a monovalent saturated or unsaturated hydrocarbon group of 1 to 15 carbon atoms, and the hydrocarbon group may be chain or cyclic structure and may have oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom or halogen atom, the polymer is a homopolymer or copolymer of the monomer, and the method of forming a resist pattern using such a homopolymer or copolymer is carried out by immersion lithography.

  提供了一种适用于半导体器件生产中形成细微图案的层压光刻胶的抗蚀层和保护层的聚合可聚合含氟单体和含氟聚合物，特别适用于使用水作为液体介质的浸没光刻术，并提供了一种形成光刻胶图案的方法。可聚合含氟单体由公式（1）表示：其中R1是氢原子或1至15个碳原子的单价饱和或不饱和碳氢基团，碳氢基团可以是链状或环状结构，并且可以具有氧原子、氮原子、硫原子或卤素原子，聚合物是单体的均聚物或共聚物，使用这种均聚物或共聚物进行光刻胶图案形成的方法是通过浸没光刻术实现的。
• PROCESS FOR PRODUCTION OF FLUORINE-CONTAINING NORBORNENE DERIVATIVES
  申请人：DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

  公开号：EP1415974B1

  公开（公告）日：2017-03-01