Methoxyacetic acid, 2-adamantyl ester

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Methoxyacetic acid, 2-adamantyl ester
• 英文别名: 2-adamantyl 2-methoxyacetate
• 化学式: C₁₃H₂₀O₃
• 分子量: 224.3
• InChiKey: UPGYLWSGUPBHLN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.92
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

文献信息

• MOLECULAR GLASS PHOTORESISTS CONTAINING BISPHENOL A FRAMEWORK AND METHOD FOR PREPARING THE SAME AND USE THEREOF
  申请人：Yang Guoqiang

  公开号：US20150037735A1

  公开（公告）日：2015-02-05

  The present invention provides a class of molecular glass photoresist (I and II) comprising bisphenol A as a main structure and their preparation. The molecular glass photoresist is formulated with a photoacid generator, a cross-linking agent, a photoresist solvent, and other additives into a positive or negative photoresist. A photoresist with a uniform thickness is formed on a silicon wafer by spin-coating. The photoresist formulation can be used in modern lithography, such as 248 nm photolithography, 193 nm photolithography, extreme-ultraviolet (EUV) lithography, nanoimprint lithography, electron beam lithography, and particularly in the EUV-lithography technique.

  本发明提供了一类分子玻璃光刻胶（I和II），其主要结构包括双酚A，并提供了它们的制备方法。该分子玻璃光刻胶由光酸发生剂、交联剂、光刻胶溶剂和其他添加剂配制而成，可制备成正向或负向光刻胶。通过旋涂在硅片上形成均匀厚度的光刻胶。该光刻胶配方可用于现代光刻技术，如248纳米光刻、193纳米光刻、极紫外（EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻，特别是EUV光刻技术中。
• US9454076B2
  申请人：——

  公开号：US9454076B2

  公开（公告）日：2016-09-27