[EN] CVD OF METAL FILMS FROM BETA-DIKETONATE COMPLEXES
申请人:INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
公开号:WO1992007971A1
公开(公告)日:1992-05-14
(EN) Chemical vapor deposition precursors for depositing copper, silver, rhodium and iridium metals on substrates comprise ligand stabilized +1 metal $i(beta)-diketonate coordination complexes of said metals. Uses of such precursors in CVD processes are also provided.(FR) Cette invention concerne des précurseurs de dépôt en phase gazeuse par procédé chimique permettant de déposer des métaux tels que du cuivre, de l'argent, du rhodium et de l'iridium sur des substrats comprenant des complexes de coordination desdits métaux de $i(bêta)-dicétonate de métal +1 stabilisé par ligand. L'invention concerne également les utilisations de ces précurseurs dans des procédés de dépôt en phase gazeuse par procédé chimique.