5-(2-Methylbutan-2-yloxycarbonylamino)pentanoic acid

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 5-(2-Methylbutan-2-yloxycarbonylamino)pentanoic acid
• 英文别名: 5-(2-methylbutan-2-yloxycarbonylamino)pentanoic acid
• 化学式: C₁₁H₂₁NO₄
• 分子量: 231.29
• InChiKey: XDPQPXYTPDPTSM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.82
• 拓扑面积：
  75.6
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

文献信息

• US9017922B2
  申请人：——

  公开号：US9017922B2

  公开（公告）日：2015-04-28
• [EN] ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET COMPOSÉ<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び化合物
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2020045534A1

  公开（公告）日：2020-03-05

  本発明は、（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物であって、特定構造で表される、化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び化合物を提供する。
• [EN] ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, PHOTOMASK, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, PHOTOMASQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET COMPOSÉ<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、フォトマスク、電子デバイスの製造方法、及び化合物
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2020045535A1

  公开（公告）日：2020-03-05

  本発明は、（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物であって、特定構造で表される化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、フォトマスク、電子デバイスの製造方法、及び化合物を提供する。
• [EN] ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2021065450A1

  公开（公告）日：2021-04-08

  （Ａ）酸分解性樹脂、（Ｂ）一般式（ｂ１）で表される化合物、及び（Ｃ）一般式（ｃ１）で表される化合物を含有し、化合物（Ｂ）の含有量に対する化合物（Ｃ）の含有量の割合が０．０１質量％以上１０質量％以下である感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法。　Ｌは単結合又は二価の連結基を表す。Ａは酸の作用により分解する基を表す。Ｂは酸の作用により分解する基、ヒドロキシ基又はカルボキシ基を表す。ただし、少なくとも１つのＢはヒドロキシ基又はカルボキシ基を表す。ｎは１から５の整数を表す。Ｘはｎ＋１価の連結基を表す。Ｍ＋はスルホニウムイオン又はヨードニウムイオンを表す。