2,2,3,3,4,4,4-Heptafluorobutyl 2-fluoroprop-2-enoate | 151174-22-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2,2,3,3,4,4,4-Heptafluorobutyl 2-fluoroprop-2-enoate
• CAS: 151174-22-0
• 化学式: C₇H₄F₈O₂
• 分子量: 272.09
• InChiKey: BXQDKRCRACGUPL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Zeon Corporation

  公开号：EP3751345A1

  公开（公告）日：2020-12-16

  Provided are a resist composition that can improve coatability (coating film formability) with respect to a substrate in spin coating and close adherence of a resist film and that can form a good pattern, and a resist film in which a good pattern is formed. The resist composition contains a polymer, a solvent, and an aromatic vinyl monomer, and has a content of the aromatic vinyl monomer relative to the polymer of not less than 10 mass ppm and not more than 30,000 mass ppm.

  本发明提供了一种抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物在抗蚀剂薄膜的旋涂和紧密附着过程中可提高相对于基材的涂布性（涂膜成形性），并可形成良好的图案，还提供了一种可形成良好图案的抗蚀剂薄膜。抗蚀剂组合物含有聚合物、溶剂和芳香族乙烯基单体，芳香族乙烯基单体相对于聚合物的含量不低于 10 质量ppm，不超过 30,000 质量ppm。