Octane-2,3,4,5-tetrol

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: Octane-2,3,4,5-tetrol
• 英文别名: octane-2,3,4,5-tetrol
• 化学式: C₈H₁₈O₄
• 分子量: 178.23
• InChiKey: NMWRSEFCMDOTHG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  80.9
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

文献信息

• HYDROPHILIZED POLYDIORGANOSILOXANE VINYLIC CROSSLINKERS AND USES THEREOF
  申请人：Novartis AG

  公开号：US20170166673A1

  公开（公告）日：2017-06-15

  The invention provides a hydrophilized polydiorganosiloxane vinylic crosslinker which comprises (1) a polydiorganosiloxane polymer chain comprising dimethylsiloxane units and hydrophilized siloxane units each having one methyl substituent and one monovalent C 4 -C 40 organic radical substituent having two to six hydroxyl groups, wherein the molar ratio of the hydrophilized siloxane units to the dimethylsiloxane units is from about 0.035 to about 0.15, and (2) two terminal (meth)acryloyl groups. The hydrophilized polydiorganosiloxane vinylic crosslinker has a number average molecular weight of from about 3000 Daltons to about 80,000 Daltons. The present invention is also related to a silicone hydrogel contact lens, which comprises repeating units derived from a hydrophilized polydiorganosiloxane vinylic crosslinker of the invention.
• [EN] PROCESS LIQUID COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME<br/>[FR] COMPOSITION LIQUIDE DE TRAITEMENT POUR PHOTOLITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF L'UTILISANT<br/>[KO] 포토 리소그래피용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
  申请人：YOUNG CHANG CHEMICAL CO LTD

  公开号：WO2021060672A1

  公开（公告）日：2021-04-01

  본원 발명은 포토레지스트 패턴 공정에 있어서 포토레지스트 표면의 물에 대한 접촉각이 75° 이상의 소수성을 가지는 포토레지스트 패턴의 리프팅 결함 개선용 공정액 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 불소계 계면활성제 0.00001 내지 0.1중량%; 트리올 유도체, 테트라올 유도체 또는 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 물질 0.00001 내지 1.0중량%; 및 잔량의 물;로 이루어지고 표면장력 45mN/m 이하, 접촉각 65° 이하인 것을 특징으로 하는 포토레지스트 패턴의 리프팅 결함 개선용 공정액 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성방법에 관한 것이다.