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N-(2,5-dimethyl-4-nitrophenyl)-4-methylbenzenesulfonamide | 3717-94-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
N-(2,5-dimethyl-4-nitrophenyl)-4-methylbenzenesulfonamide
英文别名
toluene-4-sulfonic acid-(2,5-dimethyl-4-nitro-anilide);Toluol-4-sulfonsaeure-(2,5-dimethyl-4-nitro-anilid);5-Nitro-2-p-toluolsulfamino-p-xylol
N-(2,5-dimethyl-4-nitrophenyl)-4-methylbenzenesulfonamide化学式
CAS
3717-94-0
化学式
C15H16N2O4S
mdl
——
分子量
320.369
InChiKey
MCVFINDDXZNSMN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    479.0±55.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.339±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.4
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.2
  • 拓扑面积:
    100
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    5

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Synthesis, characterization and computational study of the newly synthetized sulfonamide molecule
    作者:P. Krishna Murthy、V. Suneetha、Stevan Armaković、Sanja J. Armaković、P.A. Suchetan、L. Giri、R. Sreenivasa Rao
    DOI:10.1016/j.molstruc.2017.10.028
    日期:2018.2
    N-(2,5-dimethyl-4-nitrophenyl)-4-methylbenzenesulfonamide (NDMPMBS) has been derived from 2,5-dimethyl-4-nitroaniline and 4-methylbenzene-1-sulfonyl chloride. Structure was characterized by SCXRD studies and spectroscopic tools. Compound crystallized in the monoclinic crystal system with P21/c space group a = 10.0549, b = 18.967, c = 8.3087, β = 103.18 and Z = 4. Type and nature of intermolecular interaction
    摘要 以2,5-二甲基-4-硝基苯胺和4-甲基苯-1-磺酰氯为原料合成了新化合物N-(2,5-二甲基-4-硝基苯基)-4-甲基苯磺酰胺(NDMPMBS)。通过 SCXRD 研究和光谱工具表征结构。在具有 P21/c 空间群 a = 10.0549, b = 18.967, c = 8.3087, β = 103.18 和 Z = 4 的单斜晶系中结晶的化合物。 通过 3D-Hirshfeld 表面和 2D 研究晶体状态下分子间相互作用的类型和性质- 指纹图显示标题化合物通过几种相互作用稳定。标题化合物的结构和电子特性已在 DFT/B3LYP/6-311G++(d,p) 理论水平计算。计算获得的光谱数据与实验结果进行了比较,显示出极好的相互一致性。每个振动波数的分配是基于势能分布(PED)完成的。局部反应性描述符的研究包括分子静电势 (MEP) 和平均局部电离能 (ALIE) 表面的可视化、福井函数的可视化、自然键序
  • DE157859
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • Light-sensitive material for photomechanical reproduction
    申请人:AZOPLATE CORP
    公开号:US02759817A1
    公开(公告)日:1956-08-21
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