(1-Ethylcyclohexyl) 2,4-dimethyl-2-propan-2-ylpentanoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: (1-Ethylcyclohexyl) 2,4-dimethyl-2-propan-2-ylpentanoate
• 英文别名: (1-ethylcyclohexyl) 2,4-dimethyl-2-propan-2-ylpentanoate
• 化学式: C₁₈H₃₄O₂
• 分子量: 282.5
• InChiKey: UAWQBCJHHJRWSQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.94
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for manufacturing electronic device
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10802399B2

  公开（公告）日：2020-10-13

  The present invention provides an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is capable of forming a pattern having a low LWR and is further suppressed in the collapse of the formed pattern, a resist film, a pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of the present invention contains a photoacid generator represented by General Formula (1) or a resin having a residue obtained by removing one hydrogen atom from the photoacid generator represented by General Formula (1).

  本发明提供了一种能够形成具有低低辐射倍率的图案并进一步抑制所形成图案的塌陷的光敏或辐射敏感树脂组合物、抗蚀薄膜、图案形成方法和电子设备的制造方法。本发明的光敏或辐射敏感树脂组合物含有通式(1)表示的光酸发生体或具有从通式(1)表示的光酸发生体中除去一个氢原子而得到的残余物的树脂。
• US9612535B2
  申请人：——

  公开号：US9612535B2

  公开（公告）日：2017-04-04