苯,1,1'-[亚甲基双(磺)]双[二甲基-9(CI) | 39153-54-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 苯,1,1'-[亚甲基双(磺)]双[二甲基-9(CI)
• 英文名称: bis-(2,4-dimethyl-benzenesulfonyl)-methane
• 英文别名: Bis-(2,4-dimethyl-benzolsulfonyl)-methan；Bis-(2.4-dimethyl-phenylsulfon)-methan；Di-[2.4]xylylsulfon-methan；Bis-(2,4-dimethyl-bezolsulfonyl)-methan；Bis((2,4-dimethylphenyl)sulfonyl)methane；1-[(2,4-dimethylphenyl)sulfonylmethylsulfonyl]-2,4-dimethylbenzene
• CAS: 39153-54-3
• 化学式: C₁₇H₂₀O₄S₂
• 分子量: 352.475
• InChiKey: FWWTYWYFKDSTHP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  85
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苯,1,1'-[亚甲基双(磺)]双[二甲基-9(CI) 在 bis(phenylsulfonyl)diazomethane 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 2,4-二甲基-苯亚磺酸
  参考文献：
  名称：

  α-重氮-β-二砜的制备；偶联反应中新的亚硫酸盐消除

  摘要：

  通过在含有1当量的乙醇水溶液中添加双芳基磺酰基甲烷，最方便地制备双芳基磺酰基重氮甲烷。氢氧化钠至3摩尔。当量 甲苯的p-磺酰叠氮化物。如Klages和Bott所建议的那样，以等摩尔量的反应物进行的相反添加顺序是不能令人满意的，因为在这些条件下，首先形成的重氮二砜发生了副反应，其主要产物是双芳基磺酰基甲醛（XI）。在无水四氢呋喃中，α-重氮-β-二砜与2 mol反应。当量的β-二磺酸钠盐提供乙烯基hydr和戊烯磺酸钠。后者必须完全来自碳负离子，因为双苯基磺酰基重氮甲烷（V; Ar = Ph）与2,4-二甲苯基二砜（II; Ar = 2,4-二甲苯基）产生的碳负离子仅产生2,4-二甲苯亚磺酸钠，而双2,4-二甲苯基磺酰重氮甲烷与苯基二砜的碳负离子之间存在类似的反应（II; Ar = Ph）仅提供苯磺酸钠。相反，当重氮化合物与含有羰基而不是磺酰基的碳负离子偶合时，就会从重氮化合物中消除亚磺酸盐。讨论了反应机理。

  DOI：

  10.1039/p19730000189
• 作为产物：
  描述：

  二氯甲烷 、 2,4-二甲基苯硫酚 生成 苯,1,1'-[亚甲基双(磺)]双[二甲基-9(CI)
  参考文献：
  名称：

  Klages,F.; Bott,K., Chemische Berichte, 1964, vol. 97, p. 735 - 740

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Steinkopf; Huebner, Journal fur praktische Chemie (Leipzig 1954), 1934, vol. <2> 141, p. 193,197
  作者：Steinkopf、Huebner

  DOI：——

  日期：——
• New acid-labile group protected hydroxystyrene polymers or copolymers thereof and their application to radiation sensitive materials
  申请人：Clariant Finance (BVI) Limited

  公开号：EP0827970B1

  公开（公告）日：2001-09-26
• A positive stimulus-sensitive composition and pattern formation method using the stimulus-sensitive composition
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP1500977B1

  公开（公告）日：2012-02-15
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND USED FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：KODAMA Kunihiko

  公开号：US20080220371A1

  公开（公告）日：2008-09-11

  A photosensitive composition comprises: (A) a compound capable of generating an acid represented by formula (I) upon irradiation with actinic ray or radiation; and (B) a resin that decomposes by the action of an acid to its increase solubility in an alkali developer wherein Ra represents an alkyl group substituted with a fluorine atom, or an aryl group substituted with a fluorine atom or a group having a fluorine atom; Rb represents an alkyl group not substituted with a fluorine atom on α-position of the alkyl group, or an aryl group not substituted with a fluorine atom or a group having a fluorine atom.
• RESIST COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：TSUCHIMURA Tomotaka

  公开号：US20110318691A1

  公开（公告）日：2011-12-29

  An embodiment of the composition contains any of compounds of general formula (I) below: