4-Tert.-butoxycarbonyloxy-benzaldehyde dimethylacetal | 149925-10-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-Tert.-butoxycarbonyloxy-benzaldehyde dimethylacetal
• 英文别名: tert-butyl [4-(dimethoxymethyl)phenyl] carbonate
• CAS: 149925-10-0
• 化学式: C₁₄H₂₀O₅
• 分子量: 268.31
• InChiKey: OUZFUGABGYNXRR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  54
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-Tert.-butoxycarbonyloxy-benzaldehyde dimethylacetal 、 己二酸,聚合2,2-二甲基-1,3-丙二醇和2,5-呋喃二酮,苯酸酯 、 potassium hydrogensulfate 、 甲醇 、 甲苯 在 甲苯 、 甲醇 、 potassium hydrogensulfate 、 二氯甲烷 、 水 、 magnesium sulfate 作用下， 反应 1.0h， 生成 4-Tert.-butoxycarbonyloxy-benzaldehyde bis-(2-phenoxyethyl)-acetal
  参考文献：
  名称：

  Compounds with acid-labile protective groups useful in positive-working

  摘要：

  本发明涉及一种式I的化合物：##STR1## 其中，X是苯基，[1]萘基或[2]萘基基团，每个基团至少被一个叔丁氧羰氧基取代，并且如果适当的话，具有一个或多个额外的取代基；R1是氢原子，(C1-C6)-烷基，(C6-C10)-芳基或X和R2中的一个基团；R2和R3相同或不同，是(C1-C12)-烷基，其中如果适当的话，最多三个亚甲基被至少一个杂原子的桥接成员取代，例如--O--，--S--，--NR4--，--CO--，--CO--O--，--CO--NH--，--O--CO--NH--，--NH--CO--NH--，--CO--NH--CO--，--SO2--，--SO2--O--或--SO2--NH--，(C3-C12)-烯基，(C3-C12)-炔基，(C4-C12)-环烷基，(C4-C12)-环烯基或(C8-C16)-芳基烷基，其中如果适当的话，脂肪基的最多三个亚甲基被上述类型的桥接成员取代，并且在芳香族基中可以被氟，氯或溴原子或(C1-C4)-烷基，(C1-C4)-烷氧基，硝基，氰基或叔丁氧羰氧基取代基；R4是酰基基团，特别是(C1-C6)-烷酰基基团。

  公开号：

  US05356752A1
• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 4-甲酰基苯基碳酸叔丁酯 在 Br^(1-)*C₁₉H₁₄Br₃O₃PS*Na⁽¹⁺⁾ 作用下， 以90%的产率得到4-Tert.-butoxycarbonyloxy-benzaldehyde dimethylacetal
  参考文献：
  名称：

  四溴化碳/钠Triphenylphosphine-米磺酸盐（TPPMS）作为用于缩醛和Tetrahydropyranylation反应高效且易回收的催化剂

  摘要：

  固体复合物，从四溴化碳和钠triphenylphosphine-方便地制备米磺酸盐（TPPMS），可以被用作醛和醇的tetrahydropyranylation的选择性缩醛化的容易恢复的催化剂。可以通过简单的乙醚沉淀法回收催化剂，并且可以重复使用至少7次而不会损失催化活性。

  DOI：

  10.1002/adsc.200900102

文献信息

• Verbindungen mit säurelabilen Schutzgruppen und damit hergestelltes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0525626A1

  公开（公告）日：1993-02-03

  Die Erfindung betrifft Verbindungen der allgemeinen Formel I worin X ein Phenyl-, [1]Naphthyl- oder [2]Naphthylrest ist, der jeweils mit mindestens einer tert.-Butoxycarbonyloxygruppe substituiert ist und gegebenfalls einen oder mehr als einen zusätzlichen Substituenten aufweist, R1 für ein Wasserstoffatom, einen (C1-C6)Alkyl-, einen (C6-C10)Arylrest oder einen der Reste X steht und R2 und R3 gleich oder verschieden sind und einen (C1-C12)Alkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen durch Brückenglieder, die mindestens ein Heteroatom aufweisen, wie -O-, -S-, -NR4-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -O-CO-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-NH-CO-, -S02-, -S02-0-, oder -S02-NH-, ersetzt sind, einen (C3-C12)Alkenyl-, (C3-C12)Alkinyl, (C4-C12)Cycloalkyl-, (C4-C12)-Cycloalkenyl- oder (C8-C16)Aralkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen des aliphatischen Teils durch Brückenglieder der oben genannten Art ersetzt sind und der im aromatischen Teil durch Fluor-, Chlor- oder Bromatome, durch (C1-C4)Alkyl-, (C1-C4)Alkoxy-, Nitro-, Cyano- oder tert.-Butoxycarbonyloxygruppen substituiert sein kann, bedeuten, wobei R4 für einen Acyl-, insbesondere einen (C1-C6)Alkanoylrest, steht, und Verfahren zu ihrer Herstellung sowie positiv arbeitende strahlungsempfindliche Gemische, die diese Verbindungen als Lösungsinhibitoren enthalten. Sie betrifft weiterhin ein damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, das für Photoresists, elektrische Bauteile und Druckplatten sowie zum Formteilätzen geeignet ist.

  本发明涉及通式 I 的化合物 其中 X是苯基、[1]萘基或[2]萘基，其中每个基团都被至少一个叔丁氧羰氧基取代，并可选择具有一个或多个附加取代基、 R1 是氢原子、(C1-C6)烷基、(C6-C10)芳基或 X 和 R3 中的一个基团。 R2和R3相同或不同，以及一个(C1-C12)烷基，其中最多三个亚甲基由桥构件桥接，桥构件至少有一个杂原子、如-O-、-S-、-NR4-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-O-CO-NH-、-NH-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-S02-、-S02-0-或-S02-NH-，一个(C3-C12)烯基-、(C3-C12)炔基-、(C3-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-、(C4-C12)环烷基-和(C4-C12)环烷基-。(C4-C12)环烷基、(C4-C12)环烯基或(C8-C16)芳烷基，其中脂肪族的最多三个亚甲基可选择被上述类型的桥基取代，芳香族的桥基被氟、氯或溴原子、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、硝基、氰基或叔丁基取代。-丁氧羰氧基基团，其中 R4 代表酰基，特别是 (C1-C6) 烷酰基、 及其制备工艺，以及含有这些化合物作为溶液抑制剂的正工作辐射敏感混合物。它还涉及一种用其生产的记录材料，该材料适用于光刻胶、电子元件和印刷板以及模制件蚀刻。
• Oligomere Verbindungen mit säurelabilen Schutzgruppen und damit hergestelltes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0525627A1

  公开（公告）日：1993-02-03

  Die Erfindung betrifft Verbindungen der allgemeinen Formel I worin X ein Phenyl-, [1]Naphthyl- oder [2]Naphthylrest ist, der jeweils mit mindestens einer tert.-Butox- ycarbonyloxygruppe substituiert ist und gegebenfalls einen oder mehr als einen zusätzlichen Substituenten aufweist, R1 für ein Wasserstoffatom, einen (C1-C6)Alkyl-, einen (C6-C10)Arylrest oder einen der Reste X steht und R2 eine (C4-C12)Alkylen-, (C4-C12)Alkenylen- oder (C4-C12)Alkinylengruppe ist, in der gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen durch Brückenglieder, die mindestens ein Heteroatom aufweisen, wie -O-, -S-, -NR3-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -O-CO-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-NH-CO-, -S02-, -S02-0-, oder -S02-NH-, ersetzt sind, (C4-C12)-Cycloalkylen-, (C4-C12)Cycloalkenylen- oder (C8-Ci6)-Arylenbisalkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen des aliphatischen Teils durch Brückenglieder der oben genannten Art ersetzt sind und der im aromatischen Teil durch Fluor-, Chlor- oder Bromatome, durch (C1-C4)Alkyl-, (C1-C4)Alkoxy-, Nitro-, Cyano- oder tert.-Butoxycarbonyloxygruppen substituiert sein kann, bedeuten, wobei R3 für einen Acyl-, insbesondere einen (C1-C6)-Alkanoylrest, und n für eine ganze Zahl von 2 bis 50, vorzugsweise 5 bis 20, steht. und Verfahren zu ihrer Herstellung sowie positiv arbeitende strahlungsempfindliche Gemische, die diese Verbindungen als Lösungsinhibitoren enthalten. Sie betrifft weiterhin ein damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, das für Photoresists, elektrische Bauteile und Druckplatten sowie zum Formteilätzen geeignet ist.

  本发明涉及通式 I 的化合物 其中 X 是苯基、[1]萘基或[2]萘基，其中每个基团都被至少一个叔丁氧羰氧基取代，并可选择具有一个或多个附加取代基、 R1 是氢原子、(C1-C6)烷基、(C6-C10)芳基或 X 基之一，以及 R2 是(C4-C12)亚烷基、(C4-C12)亚烯基或(C4-C12)亚炔基，其中最多可有三个亚甲基通过桥基连接、至少有一个杂原子，如-O-、-S-、-NR3-、-CO-、-CO-O-、-CO-NH-、-O-CO-NH-、-NH-CO-NH-、-CO-NH-CO-、-S02-、-S02-0-或-S02-NH-，(C4-C12)环亚烷基、(C4-C12)环烯基或(C8-Ci6)芳基双烷基，其中脂肪族部分的最多三个亚甲基可选择被上述类型的桥基取代，而芳香族部分则被氟、氯或溴原子、(C1-C4)烷基、(C1-C4)烷氧基、硝基、氰基或叔丁基取代。-丁氧羰氧基基团，其中 R3 代表酰基，特别是 (C1-C6) 烷酰基，以及 n 是 2 至 50 的整数，最好是 5 至 20。 本发明还涉及这些化合物及其制备工艺，以及含有这些化合物作为溶液抑制剂的正工作辐射敏感混合物。本发明还涉及一种用其生产的记录材料，该材料适用于光刻胶、电子元件和印刷板以及模制件蚀刻。
• US5354643A
  申请人：——

  公开号：US5354643A

  公开（公告）日：1994-10-11
• US5356752A
  申请人：——

  公开号：US5356752A

  公开（公告）日：1994-10-18