[3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl] (2S)-2-methylbutanoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: [3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl] (2S)-2-methylbutanoate
• 化学式: C₉H₁₂F₆O₃
• 分子量: 282.18
• InChiKey: QGWUHBVXSSFAKC-YFKPBYRVSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  9

文献信息

• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3168207A1

  公开（公告）日：2017-05-17

  A monomer of formula (1a) or (1b) is provided wherein A is a polymerizable group, R1-R6 are monovalent hydrocarbon groups, X1 is a divalent hydrocarbon group, Z1 is an aliphatic group, Z2 forms an alicyclic group, k = 0 or 1, m = 1 or 2, n = 1 to 4. A useful polymer is obtained by polymerizing the monomer. A resist composition comprising the polymer has improved development properties and is processed to form a negative pattern having high contrast, high resolution and etch resistance which is insoluble in alkaline developer.

  提供了式 (1a) 或 (1b) 单体，其中 A 是可聚合基团，R1-R6 是一价烃基团，X1 是二价烃基团，Z1 是脂肪族基团，Z2 形成脂环族基团，k = 0 或 1，m = 1 或 2，n = 1 至 4。包含该聚合物的抗蚀剂组合物具有更好的显影性能，经处理后可形成具有高对比度、高分辨率和抗蚀刻性的阴图，且不溶于碱性显影剂。