Towards the Fabrication of the Top-Contact Electrode in Molecular Junctions by Photoreduction of a Metal Precursor
作者:Santiago Martín、Gorka Pera、Luz M. Ballesteros、Adam J. Hope、Santiago Marqués-González、Paul J. Low、Francesc Pérez-Murano、Richard J. Nichols、Pilar Cea
DOI:10.1002/chem.201303967
日期:2014.3.17
(PF‐TUNA) mode. This gives consistent sigmoidal I–V curves that are indicative of well‐behaved junctions free of metallic filaments and short circuits. The photoreduction of a metal precursor incorporated onto monomolecular films is therefore proposed as an effective method for the fabrication of molecular junctions.
的朗缪尔膜4 - [4 - (4 - [(三甲基甲硅烷基)乙炔基]苯基}乙炔基)苯基]乙炔基} benzenaminium酰氯([ 1小时上的水性金酸组装时] Cl)的经历阴离子置换(的HAuCl 4)副相。随后转移到固体支持物给出合式朗缪尔-布洛杰特(LB)单层[ 1小时] AUCL 4,其中三甲基甲硅烷基作为表面接触组。这些单层导致形成金属金nanoislands的,将其分布在膜的表面上的aurate的光还原。这些新生的器件的电性能进行了记录电流-电压(确定我- V)使用PeakForce隧道AFM(PF-金枪鱼)模式与导电原子力显微镜(C-AFM曲线)。这给出了一致的S形我- V是指示行为良好的结的释放金属丝和短路的曲线。因此,提出了掺入单分子膜上的金属前体的光还原作为制造分子结的有效方法。