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7-甲基-7H-嘌呤-6-胺 | 936-69-6

中文名称
7-甲基-7H-嘌呤-6-胺
中文别名
己二酸,聚合N,N-二乙基乙胺3-羟基-2-(羟甲基)-2-甲基丙酸酯,2,2-二甲基-1,3-丙二醇,1,2-乙二胺和1,1-亚甲基二4-异氰酸基环己烷
英文名称
(2,4-dichloro-phenyl)-vinyl ether
英文别名
(2,4-Dichlor-phenyl)-vinyl-aether;2.4-Dichlor-1-vinyloxy-benzol;2,4-dichloro-1-(ethenyloxy)-benzene;(2,4-Dichlor-phenyl)-vinyl-ether;Vinyl-(2,4-dichlor-phenyl)-ether;1,3-Dichlor-4-vinyloxy-benzol;2,4-Dichloro-1-(ethenyloxy)benzene;2,4-dichloro-1-ethenoxybenzene
7-甲基-7H-嘌呤-6-胺化学式
CAS
936-69-6
化学式
C8H6Cl2O
mdl
——
分子量
189.041
InChiKey
WZYSGPKKNXSNMG-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.7
  • 重原子数:
    11
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    9.2
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

安全信息

  • 海关编码:
    2909309090

SDS

SDS:865b9c928c32599eb7430c01397f645d
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上下游信息

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文献信息

  • Negative-working resist composition for electron beams or X-rays
    申请人:FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    公开号:US20020192592A1
    公开(公告)日:2002-12-19
    A negative-working resist composition for electron beams or X-rays comprising (A) a compound generating a sulfonic acid by the irradiation of electron beams or x-rays, (B) a resin which is insoluble in water and soluble in an alkali aqueous solution, (C) a crosslinking agent crosslinking with the resin (B) by the action of an acid, and (D) a compound generating a carboxylic acid having a specific structure by the irradiation of electron beams or x-rays.
    一种用于电子束或X射线的负型光刻胶组合物,包括(A)通过电子束或X射线辐射产生磺酸的化合物,(B)在水中不溶而在碱性水溶液中可溶的树脂,(C)通过酸作用与树脂(B)交联的交联剂,以及(D)通过电子束或X射线辐射产生具有特定结构的羧酸的化合物。
  • ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
    申请人:Takahashi Hidenori
    公开号:US20120156618A1
    公开(公告)日:2012-06-21
    According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)
    根据一种实施例,一种感光射线或辐射敏感的树脂组合物包括树脂(P),该树脂不仅包含至少一个重复单元(A),当暴露于感光射线或辐射时,分解从而产生酸,并由下列任一通式(I)至(III)表示,而且还包括一个重复单元(B),其中至少包含一个芳香环基团,前提是重复单元(B)不包括通式(I)至(III)中的任何一个。(通式(I)至(III)中使用的字符在描述中有所提及。)
  • HYPERBRANCHED POLYMER SYNTHESIZING METHOD, HYPERBRANCHED POLYMER, RESIST COMPOSITION, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT FABRICATION METHOD
    申请人:Uno Akinori
    公开号:US20110101503A1
    公开(公告)日:2011-05-05
    A hyperbranched polymer synthesizing method employs living radical polymerization of a monomer in the presence of a metal catalyst. The method includes forming a shell portion by introducing an acid-decomposable group to a core portion formed of a hyperbranched polymer synthesized by living radical polymerization; forming an acid group by partially decomposing the acid-decomposable group by an acid catalyst; precipitating a core-shell hyperbranched polymer contained in a first solution and having the acid group, by mixing the first solution with ultrapure water; and extracting, from a mixed solution into an organic solvent by liquid-liquid extraction, the core-shell hyperbranched polymer having the acid group, wherein the mixed solution contains a second solution containing the core-shell hyperbranched polymer precipitated at the precipitating and dissolved into the organic solvent, and the ultrapure water of an amount yielding a prescribed ratio of the ultrapure water relative to the organic solvent in the second solution.
    一种超支化聚合物合成方法,采用金属催化剂存在下的活性自由基聚合单体的方法。该方法包括通过将酸可分解基团引入由活性自由基聚合合成的超支化聚合物的核心部分来形成壳层部分;通过酸催化剂部分分解酸可分解基团来形成酸基团;通过将含有酸基团的核-壳超支化聚合物与超纯水混合物混合,通过沉淀将其分离出来;并通过液液萃取将含有酸基团的核-壳超支化聚合物从混合溶液中提取到有机溶剂中,其中混合溶液包含第一溶液和超纯水,第一溶液中含有沉淀并溶解到有机溶剂中的核-壳超支化聚合物,超纯水的含量与第二溶液中的有机溶剂的比例达到规定的比例。
  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
    申请人:Inasaki Takeshi
    公开号:US20120301817A1
    公开(公告)日:2012-11-29
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having a repeating unit represented by the following formula (1), a resist film using the composition, and a pattern forming method.
    一种感光树脂组合物,其包括(P)一种具有以下式(1)所表示的重复单元的树脂,使用该组合物的光阻膜以及一种图案形成方法。
  • Mehrwertige Metallkationen enthaltende anionische Mischpolymerisate und ihre Verwendung in fotografischen Materialien
    申请人:Agfa-Gevaert AG
    公开号:EP0033081A1
    公开(公告)日:1981-08-05
    Mit mehrwertigen Metallkationen beladene vernetzte Acrylsäure-bzw. Methacrylsäurepolymerisate eignen sich für die Herstellung von Indikatorblättern für komplexbildende organische Substanzen oder für die Herstellung von gefärbten oder anfärbbaren Schichten in fotografischen Materialen. Eine besondere Anwendung finden sie in Bildempfansschichten von Farbdiffusionsübertragsmaterialien, wenn komplexbildende Bildfarbstoffe verwendet werden.
    含有多价金属阳离子的交联丙烯酸或甲基丙烯酸聚合物适用于生产络合有机物的指示片,或用于生产照相材料中的彩色或可染色层。当使用复合图像染料时,它们在彩色扩散转移材料的图像接收层中具有特殊用途。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
hnmr
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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