9-羟基-1-芴羧酸 | 24018-33-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 中文名称: 9-羟基-1-芴羧酸
• 中文别名: 乙基1-甲基-3-(吡啶-3-基氨磺酰)吡唑-4-羧酸酯
• 英文名称: 9-hydroxy-1-fluorene-carboxylic acid
• 英文别名: 9-hydroxy-fluorene-1-carboxylic acid；9-Hydroxy-fluoren-1-carbonsaeure；9-hydroxyfluorenecarboxylic acid；Fluoren-9-ol-1-carbonsaeure；9-hydroxy-9H-fluorene-1-carboxylic Acid
• CAS: 24018-33-5
• 化学式: C₁₄H₁₀O₃
• 分子量: 226.232
• InChiKey: NDTKXJOMFWNZGE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  57.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2918290000

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  9-羟基-1-芴羧酸 在 氯化亚砜 作用下， 生成 9-chloro-fluorene-1-carbonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  用于癌症研究的化合物；9,9'-二氟基的一些衍生物。

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01163a006
• 作为产物：
  描述：

  荧蒽 在 chromium(VI) oxide 、 氢氧化钾 、 镍 、 溶剂黄146 作用下， 生成 9-羟基-1-芴羧酸
  参考文献：
  名称：

  226.芴与丙酮的缩合。第四部分 2：4-二甲基荧蒽的合成

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9480001137

文献信息

• COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1950610A1

  公开（公告）日：2008-07-30

  An upper layer-forming composition formed on a photoresist while causing almost no intermixing with the photoresist film and a photoresist patterning method are provided. The upper layer-forming composition is stably maintained without being eluted in a medium such as water during liquid immersion lithography and is easily dissolved in an alkaline developer. The upper layer-forming composition covers a photoresist film for forming a pattern by exposure to radiation. The composition comprises a resin dissolvable in a developer for the photoresist film and a solvent in which the resin is dissolved. The solvent has a viscosity of less than 5.2 x 10-3 Pa·s at 20°C. In addition, the solvent does not cause intermixing of the photoresist film and the upper layer-forming composition. The solvent contains an ether or a hydrocarbon.

  本发明提供了一种在光刻胶上形成的上层形成组合物，同时几乎不会造成与光刻胶膜的混合，并提供了一种光刻胶图案化方法。在液浸光刻过程中，上层形成组合物可稳定地保持在水等介质中而不会被洗脱，并且很容易溶解在碱性显影剂中。上层形成组合物覆盖在光刻胶膜上，通过辐射形成图案。该组合物包括一种可溶解于光刻胶膜显影剂中的树脂和一种可溶解树脂的溶剂。溶剂在 20°C 时的粘度小于 5.2 x 10-3 Pa-s。此外，该溶剂不会造成光刻胶膜和上层形成组合物的混合。溶剂含有醚或烃。
• Christiaens,L.; Renson,M., Bulletin des Societes Chimiques Belges, 1969, vol. 78, p. 359 - 393
  作者：Christiaens,L.、Renson,M.

  DOI：——

  日期：——
• Shashidhar, M. Srikantaiah; Bhatt, M. Vivekananda, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions II, 1986, p. 355 - 358
  作者：Shashidhar, M. Srikantaiah、Bhatt, M. Vivekananda

  DOI：——

  日期：——
• SHASHIDHAR, M. SRIKANTAIAH;BHATT, M. VIVEKANANDA, J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS., 1986, N 3, 355-358
  作者：SHASHIDHAR, M. SRIKANTAIAH、BHATT, M. VIVEKANANDA

  DOI：——

  日期：——
• THROMBIN INHIBITORS
  申请人：MERCK & CO., INC.

  公开号：EP0820287A1

  公开（公告）日：1998-01-28