N,N,N-三甲基-3-[(壬氟丁基)磺酰基]氨基]-1-丙铵碘化物 | 67939-95-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 中文名称: N,N,N-三甲基-3-[(壬氟丁基)磺酰基]氨基]-1-丙铵碘化物
• 中文别名: 氟烷基季铵碘化物(C4)
• 英文名称: Trimethyl-3-(((nonafluorobutyl)sulphonyl)amino)propylammonium iodide
• 英文别名: trimethyl-[3-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonylamino)propyl]azanium;iodide
• CAS: 67939-95-1
• 化学式: C₁₀H₁₆F₉N₂O₂S*I
• 分子量: 526.205
• InChiKey: MSVMTPPQSPGOSK-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.57
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  54.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  13

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  N-[3-(二甲基氨基)丙基]-1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟代-1-丁烷磺酰胺 以96%的产率得到N,N,N-三甲基-3-[(壬氟丁基)磺酰基]氨基]-1-丙铵碘化物
  参考文献：
  名称：

  FLUORINATED AMINE OXIDE SURFACTANTS

  摘要：

  包括一个或多个具有以下结构的氟化学表面活性剂的组合物：(I)其中Rf是全氟烷基基团，R1、R2和R3分别是C1-C20烷基、烷氧基或芳基；R4是烷基、芳基或二者的组合。R4最好是1-20个碳的烷基，可以是环状或非环状，也可以选择性地包含来自N、O和S的串联或末端杂原子。最好是R4是2-10个碳原子的烷基。描述了阴离子N-取代的氟化胺氧表面活性剂，以及其在清洁和酸蚀溶液中的使用。这些清洁和蚀刻溶液可用于各种基底，例如用于硅氧化物基底的清洁和蚀刻。

  公开号：

  US20220040655A1

文献信息

• 基于全氟丁基的表面活性剂及其制备方法
  申请人：中国民用航空飞行学院

  公开号：CN107098833A

  公开（公告）日：2017-08-29

  本发明提供一种基于全氟丁基的表面活性剂及其制备方法，其制备方法包括如下步骤：(1)向N,N'‑二甲基‑1,3‑丙二胺中加入全氟烷基磺酰氟和第一有机溶剂的混合液，在冰浴下反应1‑3h，然后升温至30‑60℃，反应2‑6h，反应结束后抽干第一有机溶剂，得到中间产物；(2)向中间产物中加入卤代有机物与第二有机溶剂的混合液，升温至70‑100℃，反应5‑15h，反应结束后抽干第二有机溶剂，重结晶，干燥，即得。本发明提供的基于全氟丁基的表面活性剂表面活性高，对生物和环境的毒害低，是一种绿色环保型可降解产品。并且制备方法简单快捷，产率高，成本低，有利于工业化生产。
• [EN] FLUORINATED AMINE OXIDE SURFACTANTS<br/>[FR] OXYDES AMINÉS TENSIOACTIFS FLUORÉS
  申请人：3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

  公开号：WO2020121248A1

  公开（公告）日：2020-06-18

  Compositions including one or more fluorochemical surfactants of the formula: (I) where Rf is a perfluoroalkyl group, each of R1, R2 and R3 are C1-C20 alkyl, alkoxy, or aryl; and R4 is alkylene, arylene of a combination thereof. R4 is preferably an alkylene of 1-20 carbons that may be cyclic or acyclic, may optionally contain catenated or terminal heteroatoms selected from the group consisting of N, O, and S. Most preferably R4 is an alkylene of 2-10 carbon atoms. Described are anionic N-substituted fluorinated amine oxide surfactants, and use thereof in cleaning and in acid etch solutions. The cleaning and etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the cleaning and etching of silicon oxide-containing substrates.