butyric acid biphenyl-4-yl ester | 447436-92-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: butyric acid biphenyl-4-yl ester
• 英文别名: Buttersaeure-biphenyl-4-ylester；(Biphenylyl-(4))-butyrat；4-Butyryloxy-biphenyl；(4-phenylphenyl) butanoate
• CAS: 447436-92-2
• 化学式: C₁₆H₁₆O₂
• 分子量: 240.302
• InChiKey: FRIJIOAJVPZPGI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.19
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  butyric acid biphenyl-4-yl ester 在 三氯化铝 作用下， 生成 1-(4'-hydroxy-biphenyl-4-yl)-butan-1-one
  参考文献：
  名称：

  Buu-Hoi et al., Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1953, vol. 72, p. 774,779

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  对羟基联苯 、 丁酸 在 氯化亚砜 、 甲苯 作用下， 生成 butyric acid biphenyl-4-yl ester
  参考文献：
  名称：

  Buu-Hoi et al., Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1953, vol. 72, p. 774,779

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Positive resist composition and pattern forming method using the same
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP1975712A2

  公开（公告）日：2008-10-01

  A positive resist composition, includes: (A) a resin that has a group having absorption at 248 nm at a main chain terminal of the resin (A), and a pattern forming method uses the composition.

  一种正抗蚀剂组合物，包括(A) 在树脂 (A) 的主链末端具有在 248 纳米波长有吸收的基团的树脂，以及使用该组合物的图案形成方法。
• New Compound. 4-Phenylphenyl Butyrate
  作者：Stewart Hazlet、Lee Hensley

  DOI：10.1021/ja01250a061

  日期：1943.10
• US5179097A
  申请人：——

  公开号：US5179097A

  公开（公告）日：1993-01-12
• Buu-Hoi et al., Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1953, vol. 72, p. 774,779
  作者：Buu-Hoi et al.

  DOI：——

  日期：——