ether, α,α-dimethylbenzyl isopropyl | 24142-78-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: ether, α,α-dimethylbenzyl isopropyl
• 英文别名: Ether, alpha,alpha-dimethylbenzyl isopropyl；2-propan-2-yloxypropan-2-ylbenzene
• CAS: 24142-78-7
• 化学式: C₁₂H₁₈O
• 分子量: 178.274
• InChiKey: CHKAAJMOZXVUCU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  ALFA, ALFA-二甲基苄氯 、 异丙醇 以 苯 为溶剂， 生成 ether, α,α-dimethylbenzyl isopropyl
  参考文献：
  名称：

  Amelichev, V. A.; Saidov, G. V., Journal of general chemistry of the USSR, 1981, vol. 51, # 1, p. 164 - 168

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Nucleophilic Alkoxylations of Unactivated Alkyl Olefins and α‐Methyl Styrene by Photoredox Catalysis
  作者：Fabienne Seyfert、Mathis Mitha、Hans‐Achim Wagenknecht

  DOI：10.1002/ejoc.202001533

  日期：2021.2.5

  The photoredox catalytic addition of alcohols to non‐activated terminal alkyl olefins is obtained by the use of N,N‐diisobutylamino‐phenylphenothiazine. Its excited state redox potential is sufficiently high to promote the photoreduction.

  通过使用N，N-二异丁基氨基-苯基吩噻嗪可以将醇类光氧化还原催化加成到未活化的末端烷基烯烃上。其激发态氧化还原电势足够高以促进光还原。
• N-Arylbenzo[b]phenothiazines as Reducing Photoredox Catalysts for Nucleophilic Additions of Alcohols to Styrenes: Shift towards Visible Light
  作者：Hans-Achim Wagenknecht、Fabienne Seyfert

  DOI：10.1055/a-1304-4575

  日期：2021.4

  dialkylamino-substituted N-phenylbenzo[b]phenothiazines as alternative photoredox catalysts and applied them for the nucleo­philic addition of alkohols to α-methyl styrene. The additional benzene ring shift the absorbance bathochromically and allows performing the photocatalyses by excitation at 385 nm and 405 nm. This type of photoredox catalysis tolerates other functional groups, as representatively shown

  N-苯基吩噻嗪是一类重要的光氧化还原催化剂，因为它们在合成上很容易获得，它们允许通过不同的取代基调节光电子性能，并且它们具有很强的还原性能以活化烯烃。但是，N-苯基吩噻嗪的主要缺点之一是在UV-A光范围内在365 nm处激发。我们合成了三种不同的二烷基氨基取代的N-苯基苯并[b]吩噻嗪类作为替代的光氧化还原催化剂，并将其用于醇向α-甲基苯乙烯的亲核加成。额外的苯环使吸收度发生红移，并通过在385 nm和405 nm处激发而进行光催化。这种类型的光氧化还原催化作用可耐受其他官能团，
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
• Regioselective synthesis of 2-arylpropionic esters by palladium-catalyzed hydroesterification of styrene derivatives in molten salt media
  作者：Danilo Zim、Roberto F. de Souza、Jairton Dupont、Adriano L. Monteiro

  DOI：10.1016/s0040-4039(98)01551-2

  日期：1998.9

  The palladium-catalyzed hydroesterification of styrene derivatives is performed in a two-phase system composed of 1-n-butyl-3-methylimidazoliumtetrafluoroborate salt (ionic phase) and isopropanol/cyclohexane (organic phase). Very high regioselectivities in 2-arylpropionic esters (≥99.5%) are obtained using a catalytic system composed of PdCl2(PhCN)2, (+)-neomenthyldiphenylphosphine (NMDPP) and p-toluenesulfonic

  苯乙烯衍生物的钯催化加氢酯化反应是在由1-正丁基-3-甲基咪唑鎓四氟硼酸盐（离子相）和异丙醇/环己烷（有机相）组成的两相体系中进行的。使用由PdCl 2（PhCN）2，（+）-新戊基二苯基膦（NMDPP）和对甲苯磺酸组成的催化体系，在温和的反应条件下（10个大气压和70个大气压），可以在2-芳基丙酸酯中获得很高的区域选择性（≥99.5％）。°C）。