N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺 | 41580-58-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 中文名称: N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺
• 英文名称: N-(trifluoromethanesulfonyloxy)phthalimide
• 英文别名: phthalimide N-triflate；1,3-dioxoisoindolin-2-yl trifluoromethanesulfonate；N-(trifluoromethylsulfonyloxy)phthalimide；N-trifluoromethanesulfonyloxy-phthalimide；N-Hydroxyphthalimid-O-triflat；2-(((trifluoromethyl)sulfonyl)oxy)-1H-isoindole-1,3(2H)-dione；(1,3-dioxoisoindol-2-yl) trifluoromethanesulfonate
• CAS: 41580-58-9
• 化学式: C₉H₄F₃NO₅S
• 分子量: 295.196
• InChiKey: GYXAHUXQRATWDV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  351.3±52.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.81±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  89.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺 、 苯 在 tris[2-(4,6-difluorophenyl)pyridinato-C₂,N]iridium(III) 、 potassium carbonate 、 溶剂黄146 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 2.0h， 以13%的产率得到N-苯基邻苯二甲酰亚胺
  参考文献：
  名称：

  氮为中心的自由基介导的芳烃和杂芳烃的CH酰亚胺通过可见光诱导的光催化作用。

  摘要：

  芳烃和杂芳烃的CH酰亚胺化是通过可见光诱导的光催化实现的。在铱（III）光氧化还原催化剂的存在下，芳族底物与N-氯邻苯二甲酰亚胺的反应在室温下通过以氮为中心的自由基介导的芳族取代提供N-芳基产物。

  DOI：

  10.1039/c4cc03905j
• 作为产物：
  描述：

  N-羟基邻苯二甲酰亚胺 、 乙二醇二甲醚 、 三氟甲烷磺酰氯 、 三乙胺 在 N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺 、 氮 、 碳酸氢钠 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以gave 4.65 g of crude N-trifluoromethanesulfonyloxyphthalimide的产率得到N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺
  参考文献：
  名称：

  Photopolymerizable compositions containing N-hydroxyamide and

  摘要：

  一种光聚合物组合物和光成像元件。该光聚合物组合物是一种阳离子聚合的有机组合物和一种光引发剂，该光引发剂是一种N-羟基酰胺或N-羟基亚酰胺磺酸盐。

  公开号：

  US04371605A1
• 作为试剂：
  描述：

  N-羟基邻苯二甲酰亚胺 、 乙二醇二甲醚 、 三氟甲烷磺酰氯 、 三乙胺 在 N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺 、 氮 、 碳酸氢钠 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以gave 4.65 g of crude N-trifluoromethanesulfonyloxyphthalimide的产率得到N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺
  参考文献：
  名称：

  Photopolymerizable compositions containing N-hydroxyamide and

  摘要：

  一种光聚合物组合物和光成像元件。该光聚合物组合物是一种阳离子聚合的有机组合物和一种光引发剂，该光引发剂是一种N-羟基酰胺或N-羟基亚酰胺磺酸盐。

  公开号：

  US04371605A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• COMPOUND, RESIN, MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PURIFYING THE COMPOUND OR RESIN
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20170073288A1

  公开（公告）日：2017-03-16

  The compound according to the present invention is represented by a specific formula. The compound according to the present invention has a structure according to the specific formula, and therefore can be applied to a wet process and is excellent in heat resistance and etching resistance. In addition, the compound according to the present invention has such a specific structure, and therefore has a high heat resistance, a relatively high carbon concentration, a relatively low oxygen concentration and also a high solvent solubility. Therefore, the compound according to the present invention can be used to form an underlayer film whose degradation is suppressed at high-temperature baking and which is also excellent in etching resistance to oxygen plasma etching or the like. Furthermore, the compound is also excellent in adhesiveness with a resist layer and therefore can form an excellent resist pattern.

  根据本发明，该化合物由特定的公式表示。根据本发明，该化合物具有特定公式的结构，因此可应用于湿法工艺，具有优异的耐热性和耐蚀性。此外，根据本发明，该化合物具有特定结构，因此具有高耐热性、相对较高的碳浓度、相对较低的氧浓度以及高溶剂溶解性。因此，根据本发明的化合物可用于形成在高温烘烤时降解受抑制且在氧等离子体蚀刻中具有优异耐蚀性的底层膜。此外，该化合物在与光阻层的粘附性方面也表现出色，因此可形成优异的光阻图案。
• SYNTHESIS OF FLUOROALCOHOL-SUBSTITUTED (METH)ACRYLATE ESTERS AND POLYMERS DERIVED THEREFROM
  申请人：FARNHAM WILLIAM BROWN

  公开号：US20110213175A1

  公开（公告）日：2011-09-01

  This invention relates to processes for preparing fluoroalcohol-substituted (meth)acrylate esters. This invention also relates to block copolymers incorporating repeat units derived from fluoroalcohol-substituted (meth)acrylate esters, and photoresists derived therefrom.

  这项发明涉及制备含氟醇基（甲基）丙烯酸酯的过程。该发明还涉及包含源自含氟醇基（甲基）丙烯酸酯的重复单元的嵌段共聚物，以及由此制备的光刻胶。
• Novel tertiary (meth)acrylates having lactone structure, polymers, resist compositions and patterning process
  申请人：Watanabe Takeru

  公开号：US20050250924A1

  公开（公告）日：2005-11-10

  Novel tertiary (meth)acrylate compounds having a lactone structure are polymerizable into polymers having improved transparency, especially at the exposure wavelength of an excimer laser and dry etching resistance. Resist compositions comprising the polymers are sensitive to high-energy radiation, have a high resolution, and lend themselves to micropatterning with electron beams or deep-UV rays.

  新型含有内酯结构的三元（甲基）丙烯酸酯化合物可聚合成具有改善透明度的聚合物，特别是在准分子激光的照射波长下以及干法刻蚀抗性方面。包括这些聚合物的抗蚀组合物对高能辐射敏感，具有高分辨率，并适用于电子束或深紫外线微图案化。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。