Cyclopentyl 2-chloropropanoate | 6282-83-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Cyclopentyl 2-chloropropanoate
• CAS: 6282-83-3
• 化学式: C₈H₁₃ClO₂
• 分子量: 176.64
• InChiKey: LCXXLOZGUULZCV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, POLYMERIC COMPOUND, AND COMPOUND
  申请人：Shiono Daiju

  公开号：US20090312573A1

  公开（公告）日：2009-12-17

  A compound represented by general formula (I) shown below; and a polymeric compound having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) shown below: wherein R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a divalent hydrocarbon group of 2 or more carbon atoms which may have a substituent; B represents a divalent hydrocarbon group of 1 or more carbon atoms which may have a substituent; and R 2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group.

  一种化合物由下面的通式（I）表示；以及具有由下面的通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的聚合物化合物： 其中，R1表示氢原子、低碳基或卤代低碳基；A表示具有2个或更多碳原子的二价碳氢基团，可以具有取代基；B表示具有1个或更多碳原子的二价碳氢基团，可以具有取代基；R2表示酸可解离、抑制溶解的基团。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND
  申请人：Shimizu Hiroaki

  公开号：US20090214982A1

  公开（公告）日：2009-08-27

  There is provided a positive resist composition, including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: (wherein, R 1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a bivalent linking group; B represents a bivalent linking group; and R 2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group).

  提供了一种正性光刻胶组合物，包括一种基础组分(A)，在酸的作用下在碱性显影液中表现出增加的溶解度，以及一种酸发生剂组分(B)，在曝光时产生酸。其中，基础组分(A)包括一种聚合物化合物(A1)，其中包含一个由下式(a0-1)表示的结构单元(a0)：（其中，R1表示氢原子、低碳基或卤代低碳基；A表示双价连接基团；B表示双价连接基团；R2表示酸解离、抑制溶解的基团）。
• Positive resist composition, method of forming resist pattern, and polymeric compound
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：EP2093213A1

  公开（公告）日：2009-08-26

  There is provided a positive resist composition, including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the base component (A) includes a polymeric compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by the general formula (a0-1) shown below: wherein R1 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group; A represents a bivalent linking group; B represents a bivalent linking group; and R2 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group.

  提供了一种阳离子抗蚀剂组合物，包括在酸的作用下在碱显影液中溶解度增加的碱组分（A），以及在曝光时产生酸的酸发生组分（B），其中碱组分（A）包括一种聚合物化合物（A1），该化合物含有由下图所示通式（a0-1）表示的结构单元（a0）： 其中 R1 代表氢原子、低级烷基或卤代低级烷基；A 代表二价连接基团；B 代表二价连接基团；R2 代表可酸解的溶解抑制基团。
• Positive resist composition and method of forming a resist pattern using the same
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：EP2093213B1

  公开（公告）日：2017-10-04
• US7604920B2
  申请人：——

  公开号：US7604920B2

  公开（公告）日：2009-10-20