二苯基碘鎓全氟-1-丁磺酸 | 194999-82-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 中文名称: 二苯基碘鎓全氟-1-丁磺酸
• 中文别名: 二苯基碘全氟-1-丁磺酸
• 英文名称: diphenyliodonium nonafluorobutanesulfonate
• 英文别名: diphenyl iodonium perfluorobutanesulfonate；diphenyliodonium nonafluoro-n-butanesulfonate；diphenyliodonium nonafluoro-n-butanesufonate；Diphenyliodanium nonafluorobutane-1-sulfonate；diphenyliodanium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
• CAS: 194999-82-1
• 化学式: C₄F₉O₃S*C₁₂H₁₀I
• 分子量: 580.21
• InChiKey: ORPDKMPYOLFUBA-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  78-84 °C(lit.)
• 溶解度：
  PGMEA：~65%
• 稳定性/保质期：
  常温常压下稳定，应避免与强氧化剂和玻璃接触。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.77
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  二苯基碘鎓全氟-1-丁磺酸 、 4-phenylsulfanylbenzil 在 copper diacetate 作用下， 以 氯苯 为溶剂， 反应 2.0h， 以1.0 g的产率得到[4-(benzoylcarbonyl)phenyl]diphenylsulfonium nonafluorobutanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE USING SAME

  摘要：

  一种酰铵盐和具有高灵敏度和优秀图案特性（如LWR）的组合物，最好用于利用第一活性能量射线（如电子束或极紫外线）和第二活性能量射线（如紫外线）的光刻工艺的光刻胶组合物。

  公开号：

  US20200048191A1
• 作为产物：
  描述：

  二苯基溴化碘 、 全氟-1-丁磺酸 在 氧化银(II) residue 、 methanol-dichloromethane 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 4.0h， 以to obtain 4.6 g of diphenyliodonium nonafluorobutanesulfonate as a colorless crystal的产率得到二苯基碘鎓全氟-1-丁磺酸
  参考文献：
  名称：

  Resist compositions

  摘要：

  本发明涉及一种耐高真空能量辐照下无挥发物、分辨率高、灵敏度高、图案轮廓优异的实用光阻组合物，适用于以电子束等超细加工技术为代表的加工技术。提供了一种光阻组合物，包括至少一种聚合物，其组分包括以下通式[1]所表示的单体单位；以下通式[2]所表示的单体单位；以下通式[3]所表示的单体单位；至少一种通过辐射射线照射产生酸的化合物，其通式表示为[4]；有机碱性化合物；和溶剂。此外，本发明还涉及包含以下通式[13]所表示的聚合物单元的光阻组合物；以及进一步包含以下通式[4]所表示的化合物作为通过辐射射线照射产生酸的化合物的光阻组合物。

  公开号：

  US07312014B2
• 作为试剂：
  描述：

  9-benzyl-9H-thioxanthene 在 二苯基碘鎓全氟-1-丁磺酸 作用下， 生成 9-benzylidene-9H-thioxanthene
  参考文献：
  名称：

  REAGENT FOR ENHANCING GENERATION OF CHEMICAL SPECIES

  摘要：

  本文描述了一种增强光酸发生剂酸生成的试剂和含有这种试剂的组合物。

  公开号：

  US20150099893A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• Pretreatment compositions
  申请人：Powell B. David

  公开号：US20060286484A1

  公开（公告）日：2006-12-21

  A pretreatment composition of: (a) at least one compound having structure VI V 1 —Y—V 2 VI wherein Y is selected from the group consisting of S, O, NR 2 , (HOCH) p , and each R 1 is independently selected from H, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group or a halogen, each R 2 is independently H, SH, CH 3 , C 2 H 5 , and a linear or branched C 1 -C 4 alkyl group containing a thiol group; and wherein V 1 and V 2 are independently selected from wherein, m is independently an integer from 0 to 4 with the proviso that m can =0 only when Y═ n is an integer from 1 to 5; p is an integer of from 1 to 4, and each R 1 is defined as above; (b) at least one organic solvent, and optionally, (c) at least one adhesion promoter; wherein the amount of the compound of Structure VI present in the composition is effective to inhibit residue from forming when the photosensitive composition is coated on a substrate and the coated substrate is processed to form an image thereon.

  预处理组合物包括：(a)至少一种具有结构VIV1—Y—V2VI的化合物，其中Y选自S、O、NR2、(HOCH)p和each R1，每个R1独立选自H、烷基、烯基、炔基、烷氧基或卤素，每个R2独立为H、SH、CH3、C2H5和含巯基的直链或支链C1-C4烷基；其中V1和V2独立选自，其中m独立为0到4的整数，条件是m只能为0当Y=n为1到5的整数；p为1到4的整数，每个R1如上定义；(b)至少一种有机溶剂，以及可选地(c)至少一种促进粘附的物质；其中，组合物中存在的结构VI化合物的量足以抑制光敏组合物涂布在基材上并在涂覆的基材上形成图像时形成残留物。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• Chemical amplification type resist composition
  申请人：Yamada Airi

  公开号：US20080269506A1

  公开（公告）日：2008-10-30

  The present invention provides a sulfonium salt of the formula (Ia) a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib) and a chemical amplification type positive resist composition comprising (A) an acid generator comprising at least one compound selected from the group consisting of a sulfonium salt of the formula (Ia), a polymeric compound comprising a structural unit of the formula (Ib), and a sulfonium salt of the formula (Ic); and (B) resin which contains a structural unit having an acid labile group and which itself is insoluble or poorly soluble in an alkali aqueous solution but becomes soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid.

  本发明提供了一种公式(Ia)的硫鎓盐，包括一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib)，以及一种化学放大型正性光刻胶组合物，包括(A)至少选择自硫鎓盐的公式(Ia)、一个结构单元的聚合物化合物的公式(Ib)和硫鎓盐的公式(Ic)组成的酸发生剂；以及(B)含有酸敏感基团的结构单元的树脂，本身在碱性水溶液中不溶或难溶，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液。
• METHOD FOR PRODUCING COMPOUND HAVING ACID-LABILE GROUP
  申请人：Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1661918A1

  公开（公告）日：2006-05-31

  The present invention provides a process for producing a compound having a group represented by general formula (II): (wherein R1, R2, and R3 may be the same or different, and each represent a substituted or unsubstituted alkyl, a substituted or unsubstituted aryl, or a substituted or unsubstituted aralkyl, or R1 and R2 may bind to each other to form an alicyclic hydrocarbon ring together with the adjacent carbon atoms, or R2 and R3 may bind to each other to form a alicyclic heterocyclic ring together with the adjacent O-C-C that may have a substituent), which comprises allowing a compound having a hydroxyl group to react with halogenated alkyl ether represented by general formula (I): (wherein R1, R2, and R3 are the same as those defined above, respectively and X represents a halogen atom).

  本发明提供了一种生产具有由通式（II）表示的基团的化合物的方法：（其中R1、R2和R3可以相同也可以不同，并且分别表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的芳基烷基，或者R1和R2可以相互结合形成与相邻碳原子一起的脂环碳氢环，或者R2和R3可以相互结合形成与相邻的O-C-C一起具有取代基的脂环杂环）的方法，该方法包括允许具有羟基的化合物与由通式（I）表示的卤代烷基醚发生反应：（其中R1、R2和R3分别与上述定义相同，X代表卤素原子）。