4,4-Dimethyl-4-sila-pentanoyl-(1'-phenyl-2'-p-tolyl)-ethylamide | 78934-79-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 英文名称: 4,4-Dimethyl-4-sila-pentanoyl-(1'-phenyl-2'-p-tolyl)-ethylamide
• 英文别名: N-[2-(4-methylphenyl)-1-phenylethyl]-3-trimethylsilylpropanamide
• CAS: 78934-79-9
• 化学式: C₂₁H₂₉NOSi
• 分子量: 339.553
• InChiKey: DEOGYVXFKLRKOX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.12
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  29.1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4-Dimethyl-4-sila-pentanoyl-(1'-phenyl-2'-p-tolyl)-ethylamide 在 iron(III) chloride 、 二苯基亚砜 、 四乙基氯化铵 、 caesium carbonate 作用下， 以 氯苯 、 丙酮 、 乙腈 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 3-(癸基二甲基硅烷基)-N-(2-(4-甲基苯基)-1-苯基乙基)丙酰胺
  参考文献：
  名称：

  通过分子间自由基取样进行末端 C(sp 3 )–H 硼化

  摘要：

  氢原子转移 (HAT) 过程可以克服惰性 C(sp) 的强键解离能 (BDE) 3 )–H键，从而将原料烷烃转化为高附加值的精细化学品。尽管如此，HAT 试剂的高反应活性，加上各种 C(sp 3 )–H键强度，使得直链烷烃的位点选择性转化成为一个巨大的挑战。在这里，我们提出了一种光催化分子间自由基采样过程，用于铁催化末端 C(sp 3 )–H 键存在于具有小空间位阻的底物中，包括无支链烷烃。机理研究表明，该反应通过可逆的 HAT 过程进行，然后进行碳自由基的选择性硼化。硼-亚砜络合物可能有助于观察到高末端区域选择性。

  DOI：

  10.1126/science.adj9258
• 作为产物：
  描述：

  4,4-dimethyl-4-sila-pent-2-enoyl-(1'-phenyl-2'-p-tolyl)-ethylamide 生成 4,4-Dimethyl-4-sila-pentanoyl-(1'-phenyl-2'-p-tolyl)-ethylamide
  参考文献：
  名称：

  Silicon-bearing amides

  摘要：

  公式I的化合物：其中R.sup.1、R.sup.2和R.sup.3中的每一个都独立地是（a）具有1至22个碳原子的烷基；或（b）具有以下结构的化合物：其中m为0、1或2，每个R'和R"都独立地是氢原子、具有1至3个碳原子的烷基、具有1至3个碳原子的烷氧基或原子量约为19至127的卤素；而R为芳基烷基、苯基、色氨酸基或苯并环烷基类型，通过加氢对应的α-β乙烯基不饱和类似物（II）获得，而这些类似物又通过加氢对应的α-β乙炔基不饱和类似物获得。化合物I和II可用作抗动脉粥样硬化药物。

  公开号：

  US04420475A1