9,9-双(3-氨基-4-羟苯基)芴 | 20638-07-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 中文名称: 9,9-双(3-氨基-4-羟苯基)芴
• 中文别名: 9,9-二(3-氨基-4-羟苯基)芴
• 英文名称: 9,9-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)fluorene
• 英文别名: 2-amino-4-[9-(3-amino-4-hydroxyphenyl)fluoren-9-yl]phenol
• CAS: 20638-07-7
• 化学式: C₂₅H₂₀N₂O₂
• mdl: MFCD08276305
• 分子量: 380.446
• InChiKey: NLGOBIIKXFNGQR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  596.7±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.375±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.04
• 拓扑面积：
  92.5
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  9,9-双(3-氨基-4-羟苯基)芴 在 盐酸 、 potassium carbonate 作用下， 以 乙醇 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 甲苯 为溶剂， 反应 34.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  SUBSTITUTED OR UNSUBSTITUTED ALLYL GROUP-CONTAINING MALEIMIDE COMPOUND, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND COMPOSITION AND CURED PRODUCT USING SAID COMPOUND

  摘要：

  亚苯基马来酰亚胺化合物，具有三个或更多苯环的结构，含有一个或多个取代或未取代的烯丙基团，以及一个或多个马来酰亚胺基团，具有卓越的耐热性。

  公开号：

  US20200325101A1

文献信息

• NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH ELEMENT, AND ORGANIC EL DISPLAY
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20190302617A1

  公开（公告）日：2019-10-03

  The present invention provides a negative photosensitive resin composition that has high pigment dispersibility and stability and can reduce residues of unexposed portions during development. The present invention provides a negative photosensitive resin composition containing an (A) alkali-soluble resin, a (B) dispersant having an amine value exceeding 0, a (C) benzofuranone based organic pigment having an amide structure, a (D) radical polymerizable compound, and a (E) photoinitiator. In this negative photosensitive resin composition, the (A) alkali-soluble resin contains one or more selected from the group consisting of a (A1) polyimide, a (A2) polyimide precursor, a (A3) polybenzoxazole, and a (A4) polybenzoxazole precursor, and the (B) dispersant having an amine value exceeding 0 contains a (B1) dispersant including a repeating unit represented by general formula (2) and a repeating unit represented by general formula (3) and a (B2) dispersant that is an acrylic block copolymer having an amine value of 15 to 60 mgKOH/g and/or a (B3) dispersant having a urethane bond. (In general formula (2), R 1 represents an alkylene group. R 2 and R 3 , which may be the same or different, each represents hydrogen, an alkyl group or a hydroxyl group. x represents an integer of 0 to 20. However, when x is 0, at least one of R 2 and R 3 is an alkyl group. m represents an integer of 1 to 100. In general formula (3), n represents an integer of 1 to 100.)

  本发明提供了一种具有高颜料分散性和稳定性的负性感光树脂组合物，可以减少在显影过程中未曝光部分的残留物。本发明提供了一种包含（A）可溶于碱性树脂、（B）胺值超过0的分散剂、（C）苯并呋喃酮基有机颜料（具有酰胺结构）、（D）自由基聚合化合物和（E）光引发剂的负性感光树脂组合物。在这种负性感光树脂组合物中，（A）可溶于碱性树脂包含从以下组中选择的一种或多种：（A1）聚酰亚胺、（A2）聚酰亚胺前体、（A3）聚苯并噁唑和（A4）聚苯并噁唑前体；而具有胺值超过0的（B）分散剂包括具有由通用公式（2）表示的重复单元和由通用公式（3）表示的重复单元的（B1）分散剂，以及胺值为15至60 mgKOH/g的丙烯酸酯嵌段共聚物（B2）和/或具有脲键的（B3）分散剂。（在通用公式（2）中，R1表示烷基基团。R2和R3，可能相同也可能不同，每个表示氢、烷基基团或羟基。x表示0到20的整数。但是，当x为0时，R2和R3中至少有一个是烷基基团。m表示1到100的整数。在通用公式（3）中，n表示1到100的整数。）
• 착색 경화성 수지 조성물
  申请人：DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD. 동우 화인켐 주식회사(119990493297) Corp. No ▼ 214911-0005738BRN ▼125-85-13136

  公开号：KR20160024976A

  公开（公告）日：2016-03-07

  착색제, 수지, 중합성화합물, 중합개시제 및 용제를 포함하는 착색경화성수지조성물로서, 착색제가, 식（Ｉ）로 표시되는 화합물을 포함하는 착색경화성수지조성물. （식 중, Ｌ은 술포닐기 등을, Ｘ는 산소원자 등을 나타내고, Ｒ~Ｒ은 각각 독립하여 수소원자 등을 나타내고, Ｚ는 식（Ｚ１）： （식 중, Ｒ은 탄소수１~２０의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기를 구성하는 －ＣＨ－는 산소원자로 치환되어도 되고, Ｒ~Ｒ은 각각 독립하여 수소원자 등을, ＊는 결합손을 나타낸다.） 로 표시되는 기 또는 식（Ｚ２）： （식 중, Ａｒ은, 오르토위치, 메타위치 또는 그 양쪽에 탄소수１~８의 알킬기를 가지는 페닐기를 나타내고, ＊는 결합손을 나타낸다.） 로 표시되는 기를 나타낸다.）

  这段文字描述了一种包含着染色剂、树脂、共聚合物、聚合引发剂和溶剂的染色固化树脂组合物，其中染色剂包含着用化学式（Ｉ）表示的化合物的染色固化树脂组合物。（在化学式中，Ｌ代表亚磷酰基等，Ｘ代表氧原子等，Ｒ~Ｒ分别独立地代表氢原子等，Ｚ代表化学式（Ｚ１）：（在化学式中，Ｒ代表含有1~20个碳原子的烷基，组成上述烷基的－ＣＨ－可以被氧原子替换，Ｒ~Ｒ分别独立地代表氢原子等，＊表示结合手。）或者化学式（Ｚ２）：（在化学式中，Ａｒ代表在邻位、间位或两侧带有1~8个碳原子的烷基的苯环，＊表示结合手。））
• 有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物
  申请人：信越化学工业株式会社

  公开号：CN111825596A

  公开（公告）日：2020-10-27

  本发明涉及有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物。本发明课题的目的为提供一种含有酰亚胺基的化合物，其不仅在空气中，在惰性气体中的成膜条件亦会硬化，不产生副产物，能够形成耐热性、或形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良且对基板的密接性良好的有机下层膜。该课题的解决方法为一种有机膜形成用材料，其特征为含有：(A)通式(1A)或(1B)表示的有机膜形成用化合物、及(B)有机溶剂。
• Precursor of a heat resistant resin, heat resistant resin, insulating film and semiconductor device
  申请人：——

  公开号：US20020013443A1

  公开（公告）日：2002-01-31

  A precursor of a polybenzoxazole resin which comprises a crosslinking group in a molecule and has a specific structure, a polybenzoxazole resin obtained from the precursor by the condensation reaction and the crosslinking reaction, an insulating film comprising the polybenzoxazole resin and a semiconductor device comprising an insulating interlayer film in multi-layer wiring or a film for protecting surfaces which comprises the above insulating film. The precursor exhibits excellent processability due to excellent solubility in solvents and, after the ring closure, excellent heat stability in applications. The resin exhibits excellent electric, physical and mechanical properties and is advantageously used for insulating interlayer films of semiconductor devices and the like applications.

  一种聚苯并咪唑树脂的前体，其分子中包含交联基团并具有特定的结构，通过缩合反应和交联反应获得的聚苯并咪唑树脂，包括聚苯并咪唑树脂的绝缘膜以及包括上述绝缘膜的多层布线中的绝缘中间层膜或用于保护表面的膜的半导体器件。由于前体在溶剂中具有优异的溶解性，因此表现出优异的加工性能，并且在环闭后具有优异的热稳定性能，树脂表现出优异的电学、物理和机械性能，可优点地用于半导体器件的绝缘中间层膜等应用。
• Material for an insulating film, coating varnish for an insulating film, and insulating film and semiconductor device using the same
  申请人：——

  公开号：US20040002572A1

  公开（公告）日：2004-01-01

  A material for an insulating film which comprises a copolymer obtained by reacting a polyamide having a specific structure and a reactive oligomer as a component forming the film; a coating varnish for an insulating film which comprises this material and an organic solvent; an insulating film which comprises a layer of a resin comprising as a main structure a polybenzoxazole which is obtained by treating the above material or the above coating varnish by heating so that condensation reaction and crosslinking reaction take place and has fine pores; and a semiconductor device which comprises an insulating interlayer film for multi-layer wiring comprising the insulating film and/or a surface protective film comprising the insulating film. Excellent electrical, thermal and mechanical properties are exhibited and a low permittivity can be achieved.

  一种绝缘薄膜材料，包括由特定结构的聚酰胺和反应性低聚物作为成膜组分所反应得到的共聚物；一种用于绝缘薄膜的涂覆清漆，包括该材料和有机溶剂；一种绝缘薄膜，包括一层树脂，其主要结构为通过热处理上述材料或上述涂覆清漆得到的聚苯并咪唑，发生缩聚反应和交联反应并具有细小孔隙；以及一种半导体器件，包括用于多层布线的绝缘中间层膜，包括上述绝缘薄膜和/或表面保护膜，包括上述绝缘薄膜。具有优异的电性能、热性能和机械性能，并且可以实现低介电常数。

表征谱图