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(S)-Ta(NMe2)3(C10H5(SiMe)3O)2 | 303732-28-7

中文名称
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中文别名
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英文名称
(S)-Ta(NMe2)3(C10H5(SiMe)3O)2
英文别名
(S)-[Ta(O2C20H10(SiMe3)2-3,3')(NMe2)3];dimethylazanide;1-(2-oxido-3-trimethylsilylnaphthalen-1-yl)-3-trimethylsilylnaphthalen-2-olate;tantalum(5+)
(S)-Ta(NMe2)3(C10H5(SiMe)3O)2化学式
CAS
303732-28-7
化学式
C32H46N3O2Si2Ta
mdl
——
分子量
741.855
InChiKey
XKKYAVKGHQFQKN-UHFFFAOYSA-L
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    None
  • 重原子数:
    None
  • 可旋转键数:
    None
  • 环数:
    None
  • sp3杂化的碳原子比例:
    None
  • 拓扑面积:
    None
  • 氢给体数:
    None
  • 氢受体数:
    None

反应信息

  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    New tantalum compounds supported by 3,3′-disubstituted-1,1′-bi-2-naphthoxide ligation †
    摘要:
    已经制备了由3,3-二取代-1,1-双-2-萘酚衍生物配体支持的几种钽化合物,并研究了它们的反应性。
    DOI:
    10.1039/b005681m
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文献信息

  • The isolation and chemistry of tantalum dimethylamides containing resolved 3,3′-disubstituted-1,1′-bi-2,2′-naphthoxide ligandsElectronic supplementary information (ESI) available: ORTEP views of (R)-7, (R,S)-8, (S)-9 and (S)-12. See http://www.rsc.org/suppdata/dt/b2/b212910h/
    作者:Au Ji Ru Son、Scott W. Schweiger、Matthew G. Thorn、John E. Moses、Phillip E. Fanwick、Ian P. Rothwell
    DOI:10.1039/b212910h
    日期:2003.4.4
    of the tantalum dimethylamide substrates [Ta(NMe2)5] or mer,cis-[Ta(NMe2)2Cl3(HNMe2)] with one equivalent of the 3,3′-disubstituted-2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl [H2O2C20H10(R)2-3,3′] (R = SiMe3, 1; SiMe2Ph, 2; SiMePh2, 3; SiPh3, 4) leads to the series of amine adducts [Ta(O2C20H10R2-3,3′)(NHMe2)(NMe2)3] (R = SiMe3, 5; SiMe2Ph, 6; SiMePh2, 7; SiPh3, 8) and [Ta(O2C20H10R2-3,3′)(NHMe2)(NMe2)Cl2] (R
    二甲基酰胺底物[Ta(NMe 2)5 ]或mer,cis- [Ta(NMe 2)2 Cl 3(HNMe 2)]与一当量的3,3'-二取代-2,2'-反应羟基-1,1'-联萘[H 2 ö 2 ç 20 ħ 10(R)2 -3,3'〕(R =森达3,1 ;森达2的pH值,2 ; SiMePh 2,3 ; SIPH 3,4)导致一系列胺加合物[(O 2 Ç 20 ħ 10 - [R 2 -3,3')(NHMe 2)(NME 2)3〕(R =森达3,5 ;森达2 PH,6 ; SiMePh 2,7 ; SIPH 3,8)和[(O 2 ç 20 ħ 10 - [R 2 -3,3')(NHMe 2)(NME 2)2 ](R =森达3,9 ;森达2的pH值,10 ; SiMePh2, 11 ; SIPH 3, 12)。通过( S) -5,( R) -7和( R, S) -8的X射线衍射进行结构分
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